「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a transport device capable of moving the forefront of a transport conveyor from a warehouse quickly to the rear body of a truck even in case a step exists between the floor surface of the warehouse and the floor surface of the truck rear body.例文帳に追加

倉庫の床面とトラックの荷台の床面との間に段差が生ずる場合でも、倉庫側からトラックの荷台内に搬送コンベアの先端を短時間で移動することのできる搬送装置を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the resin hose includes: an intermediate layer forming step of forming the intermediate layer 81 on an outer circumferential surface 800 of the inner layer 80 by performing microwave plasma treatment on the outer circumferential surface 800 using monosilane and nitrogen as reaction gas; and an outer layer forming step of forming the outer layer 82 by performing fusing and extrusion molding on the polyamide resin on an outer circumferential surface of the intermediate layer 81.例文帳に追加

樹脂ホースの製造方法は、モノシランおよび窒素を反応ガスとして内層８０の外周面８００をマイクロ波プラズマ処理することにより、外周面８００に中間層８１を形成する中間層形成工程と、中間層８１の外周面に、ポリアミド樹脂を溶融押出成形することにより外層８２を形成する外層形成工程と、を有する。 - 特許庁

It includes, prior to the ashing, a step of removing a surface layer or a surface modified layer deposited on the surface of the resist pattern by the processing step under a low temperature.例文帳に追加

被処理基体表面に、レジストのパターンを形成し、このレジストのパターンをマスクとして、所定の処理を行う処理工程と、アッシングにより、前記レジストのパターンを剥離するレジスト剥離工程とを含む半導体装置の製造方法であって、前記アッシングに先立ち、低温下で、前記処理工程によりレジストのパターンの表面に堆積された表面層あるいは、表面変質層を除去する工程を含む。 - 特許庁

With three members of the body 13, cover 14 and duct 11 assembled, a recessed portion 42 for fitting a protruding portion 31 provided on the periphery of the duct 11 is secured between a step surface 38 between the large diameter portion 36 and small diameter portion 37 of the second tubular fitting portion 35 and the tip surface 41 of the first tubular fitting portion 34 facing the step surface 38.例文帳に追加

これらのボディ１３，カバー１４及びダクト１１の三者を組み付けた状態で、第２筒状嵌合部３５における大径部３６と小径部３７との間の段差面３８と、この段差面３８に対向する第１筒状嵌合部３４の先端面４１と、の間に、ダクト１１の外周に設けられた突起部３１が嵌合する凹部４２を確保する。 - 特許庁

The manufacturing method of a substrate for CNT synthesis is characterized by providing with A step for depositing a catalyst on a substrate on the surface of which a plurality of recesses are formed by using a physically depositing method from a designated diagonal direction against the surface, and with B step for removing or inactivating the catalyst deposited on the part other than the recesses among the surface.例文帳に追加

表面に複数の凹部が形成された基板に、触媒を、前記表面に対し斜めである所定方向から物理的堆積方法を用いて堆積させるＡ工程と、前記表面のうち、前記凹部以外の部分に堆積した前記触媒を除去又は不活性化するＢ工程と、を備えることを特徴とするＣＮＴ合成用基板の製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of the lighting film comprises: a reflection layer formation step of forming a plurality of unit prisms 3 on at least one surface of a light transmissive support 2 and forming a reflection layer 4 on a part of surface constituting the unit prisms 3; and a protection film formation step of covering the unit prisms 3 and forming a protection film 5 having a flat surface 5a.例文帳に追加

透光性の支持体２の少なくとも一方の面に、単位プリズム３が複数形成され、該単位プリズム３を構成する一部の面に対して、反射層４を形成する反射層形成工程と、単位プリズム３を被覆するとともに、平坦面５ａを有する保護膜５を形成する保護膜形成工程とを有することを特徴とする採光フィルムの製造方法等である。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist pattern by using the above resist composition on a surface to be processed and then applying a resist pattern thickening material to cover the surface of the resist pattern, and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching with the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に前記レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することにより該レジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、該厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode for electrical discharge surface treatment, which is composed of green compact by compacting metal powder, comprises: a first step of forming a nitride coating film by nitriding the surface of the metal powder; and a second step of forming green compact by compacting metal powder with its surface being nitrided.例文帳に追加

本発明の放電表面処理用電極の製造方法は、金属粉末を圧縮成形した圧粉体により構成される放電表面処理用電極の製造方法であって、金属粉末の表面を窒化して窒化物被膜を形成する第１工程と、表面を窒化した金属粉末を圧縮成形して圧粉体を形成する第２工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the method of suppressing the production of the alkali gas in the concrete by neutralizing the surface layer part of the concrete after the concrete is placed in the indoor, a neutralization means includes at least: a step of filling a concrete neutralizing gas in a space in contact with the surface layer part of the concrete; and a step of exposing the surface layer part to the filled concrete neutralizing gas.例文帳に追加

屋内でコンクリートが打設された後に当該コンクリートの表層部分を中性化することで、コンクリート内のアルカリガスの発生を抑制する方法であって、中性化の手段として、少なくとも、コンクリートの表層部分に接する空間にコンクリート中性化ガスを充填する行程と、その表層部分を、充填したコンクリート中性化ガスに暴露する行程とを含む - 特許庁

The method comprises step 30 of laminating a wafer onto an extension tape expandable by the ultraviolet irradiation, step 31 of full-dicing the wafer to form individualized semiconductor chips, step 32 of expanding the expansion tape by the ultraviolet irradiation after ending the dicing step, and step 33 of grinding the expansion tape to ground the back surface of the wafer after the tape expansion step.例文帳に追加

紫外線照射を行なうことにより伸長可能とされた伸長テープ２３にウェハー２０を貼り付けるテープ貼り付け工程（ステップ３０）と、個片化された半導体チップを形成するためにウェーハ１０をフルダイシングするダイシング工程（ステップ３１）と、このダイシング工程が終了した後に伸長テープ２３に紫外線照射することにより伸長テープ２３を伸長させるテープ伸長工程（ステップ３２）と、テープ伸長工程が終了した後に伸長テープ２３にウェーハ２０の背面を研削するグラインディング工程（ステップ３３）とを有する。 - 特許庁

In the manufacturing step for the surface light laser with multiple wavelengths, after one surface light laser emitting one wavelength is formed on the substrate, the surface laser is partly removed by etching so that a space to laminate another surface layer is prepared, the surface light laser is wrapped with a protection film, and a different surface light laser emitting a light with different wavelength is formed on the substrate and protection film.例文帳に追加

また、多重波長の表面光レーザ製造工程は一波長の光を照射する１表面光レーザを基板上に形成した後、蝕刻工程を通じてその一部を除去することにより基板上に他の表面光レーザが積層される空間を設け、この１表面光レーザに保護膜を包んだ後で基板及び保護膜上に違う波長の光を照射する異なる表面光レーザを形成する。 - 特許庁

The method for producing the tubular nano carbon includes: a step of forming a metal oxide film layer having pores by anodizing a metallic body surface; a step of depositing carbon on the in-pore surface of the metal oxide film layer to a predetermined thickness; and a step of dissolving the metal oxide film layer on which the carbon has been deposited in an alkaline or acidic aqueous solution.例文帳に追加

本発明は、金属体表面を陽極酸化して細孔を有する酸化金属膜層を形成する工程と、該酸化金属膜層の細孔内表面に炭素を所定厚さに堆積させる工程と、該炭素が堆積された前記酸化金属膜層をアルカリ性水溶液あるいは酸性水溶液により溶解する工程とを有することを特徴とする管状ナノカーボンにの製法に関するものである。 - 特許庁

The forming method of the metal silicide film has a step 1 for preparing a substrate having the silicon part on a surface, a step 2 for forming the metal film on a surface of the silicon part by CVD using the metal compound including nitrogen as the film forming raw material, and a step 3 for forming the metal silicide by reaction of the metal film and the silicon part by annealing the substrate under hydrogen gas atmosphere.例文帳に追加

金属シリサイド膜の形成方法は、表面にシリコン部分を有する基板を準備する工程（ステップ１）と、窒素を含有する金属化合物を成膜原料として用いたＣＶＤによりシリコン部分の表面に金属膜を成膜する工程（ステップ２）と、その後、基板に水素ガス雰囲気でアニールを施して金属膜とシリコン部分との反応により金属シリサイドを形成する工程（ステップ３）とを有する。 - 特許庁

The method includes: a step of arranging a plurality of horizontal drains 1 and 1 sideways in the soft ground by laying the horizontal drain 1 the one end of which is connected to a vacuum pump 2 on the surface of the soft ground and pushing it in a depth direction; a step of covering the surface of the soft ground with an airtight sheet 3; and a step of dehydrating the soft ground via the horizontal drain by operating the vacuum pump.例文帳に追加

そして、一端が真空ポンプ２に接続される水平ドレーン１を、軟弱地盤の表面に横たえて深度方向に押し込むことで複数の水平ドレーン１，１を軟弱地盤の中に横向きに配置する工程と、軟弱地盤の表面を気密シート３で覆う工程と、真空ポンプを稼働させて水平ドレーンを介して軟弱地盤の脱水をおこなう工程とを備えている。 - 特許庁

The grinding method for grinding an object to be ground includes a groove forming step of forming a plurality of grooves with a depth not reaching a grind-finished thickness on a surface to be ground of the object, a filling step of filling a dressing material in the grooves, and a grinding step of grinding the surface to be ground together with the dressing material by a grinding means including a whetstone to thin the object to the grind-finished thickness.例文帳に追加

被研削物を研削する研削方法であって、被研削物の被研削面に研削仕上げ厚みに至らない深さの複数の溝を形成する溝形成ステップと、該溝中に目立て材を充填する充填ステップと、砥石を含む研削手段で該被研削面を該目立て材ごと研削して、該研削仕上げ厚みまで被研削物を薄化する研削ステップと、を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a lens in an inkjet manner includes a step for coating in which a composition (A) including a transparent composition and at least one of pigment and dyestuff and a transparent composition (B) are applied on a lens substrate surface in an inkjet manner and a step for fixation in which the coating layer formed in the step for coating is dried and thereby fixed on the substrate surface as a colored layer.例文帳に追加

インクジェット方式によるレンズの製造方法であって、透明な組成物と顔料または染料の少なくともいずれかを含んだ組成物（Ａ）と、透明な組成物（Ｂ）とを、インクジェット方式によりレンズ基材表面に塗布する塗布工程と、前記塗布工程により形成された塗布層を乾燥することにより着色層として前記基材表面に定着させる定着工程とを備えている。 - 特許庁

The process for fabricating a silicon carbide semiconductor device comprises (a) a step for making the surface of SiC 1 amorphous by introducing impurities, (b) a step for forming a CNT 5 on the surface of amorphous SiC 3 by heat treatment, and (c) a step for forming a CNT 5 further thereon by using the CNT 5 as a ground.例文帳に追加

本発明による炭化珪素半導体装置の製造方法は、炭化珪素半導体装置の製造方法であって、（ａ）ＳｉＣ１の表面に不純物を導入してアモルファス化する工程と、（ｂ）アモルファスＳｉＣ３表面を熱処理することによってＳｉＣ１の表面にＣＮＴ５を形成する工程と、（ｃ）ＣＮＴ５を下地として用いて、その上方にさらにＣＮＴ５を形成する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The process for the synthesis of the conductive polymer comprises a step of coating an oxidant on a substrate surface in a thickness of several μm and drying in an oven, a step of carrying out a polymerization reaction on the substrate surface by contacting the oxidant coated substrate with a vapor phase monomer, and a step, after completion of the polymerization, of washing to remove an unreacted monomer and the oxidant.例文帳に追加

本発明は基材表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布し、乾燥器で乾燥する段階と、酸化剤で塗布された基材に気体状態の単量体を接触させることで、基材の表面で重合反応を行う段階と、重合が完了した後、未反応単量体及び酸化剤を除去する洗浄段階とを含む伝導性高分子の合成方法を提供することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing a high planarity semiconductor wafer by machining a semiconductor wafer through plasma etching comprises a step S5 for measuring the thickness distribution of the semiconductor wafer, and a step S7 for locally plasma etching the rear surface of the semiconductor wafer, while varying the etching amount depending on the thickness distribution measured in the planarity measuring step, thus planarizing the rear surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハをプラズマエッチングにより加工する高平坦度半導体ウェーハの製造方法であって、前記半導体ウェーハの厚さ分布を測定する平坦度測定工程Ｓ５と、プラズマエッチングにより前記半導体ウェーハの裏面を前記平坦度測定工程で測定された厚さ分布に応じてエッチング量を変えながら局部的に加工し平坦化する裏面プラズマ加工工程Ｓ７とを備えている。 - 特許庁

The joining method for joining the porous body comprising SiC with the joining material includes a step for heat treating the porous body at a first temperature under the atmosphere to remove residual carbon in the porous body, a step for applying carbon on a joining surface of the porous body heat-treated at the first temperature and a step for joining the porous body with the joining material on the joining surface.例文帳に追加

ＳｉＣで構成される多孔体と、接合材とを接合させる接合方法であって、前記多孔体を、大気中において第１の温度で熱処理し、前記多孔体内の残留カーボンを除去する工程と、前記第１の温度で熱処理がされた多孔体の接合面にカーボンを塗布する工程と、前記接合面において、前記多孔体と前記接合材とを接合させる工程と、を少なくとも含む。 - 特許庁

The projected body is manufactured by the first step of forming a resist film on a surface of a substrate; the second step of changing a relative distance between the resist film and an exposure mask, while exposing a surface of the resist film through the exposure mask; and the third step of developing the resist film and of removing the resist film partially, thereby forming the projected body having a predetermined shape.例文帳に追加

基板の表面にレジスト膜を形成する第１の工程と、前記レジスト膜と露光マスクとの間の相対距離を変化させながら前記露光マスクを通して前記レジスト膜の表面に露光を行う第２の工程と、前記レジスト膜を現像し、前記レジスト膜を部分的に除去することにより所定形状の凸状体を形成する第３の工程と、により凸状体を製造する。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass substrate for the magnetic disk includes a surface grinding step of adjusting flatness of a principal surface of the glass substrate for the magnetic disk using a sheet having a fixed abrasive, wherein surface grinding is performed using the sheet corrected by using a polishing liquid containing a free abrasive containing zirconia and a ring made of cast iron, in the surface grinding step.例文帳に追加

本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、固定砥粒を有するシートを用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面の平坦度を調整する表面研削工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記表面研削工程において、ジルコニアを含有する遊離砥粒を含む研磨液及び鋳鉄製リングを用いて修正した前記シートを用いて表面研削を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the screw-like shaft having the helical groove 11' has: a step for rough-forming the helical groove 11'' by cutting a raw material; and a step for carrying out finishing of the side surface of the rough-formed helical groove 11'' by rolling.例文帳に追加

螺旋溝１１′を有するねじ状シャフトを製造するに際して、素材を切削することで螺旋溝１１″を荒成形する工程と、その荒成形された螺旋溝１１″の側面の仕上げを転造によって行う工程とを有する。 - 特許庁

Next, the digital camera 22 is rotated to carry out image pickup by a prescribed angles, along a baserock wall surface 14 of a pit 12, and then the digital camera 22 is lowered by a prescribed distance, following the repeated operation in the step 4 and this operation in step 5.例文帳に追加

次に、デジタルカメラ２２を回転させて、所定の角度間隔毎に撮像を行い、立坑１２の岩盤壁面１４を周回撮像すると、デジタルカメラ２２を所定の距離だけ下降させ、ステップ４の操作とこの操作とを繰り返す(ステップ５)。 - 特許庁

Alternatively, the manufacturing method comprises a step of (C) forming the optical member 10 by curing the precursor 10b in a state that electrical charge with an opposite polarity to a polarity of a surface of the precursor 10b is existing near the precursor 10b in stead of the step (B).例文帳に追加

あるいは、（Ｂ）のかわりに、（Ｃ）前駆体１０ｂ表面の極性と反対の極性を有する電荷が、前駆体１０ｂ近傍に存在する状態で前駆体１０ｂを硬化させることにより、光学部材１０を形成すること、を含む。 - 特許庁

This ceramic paste is advantageously used to form the ceramic green layer 5 for absorbing a step on a main surface of ceramic green sheet 2 so as to substantially eliminate the step by the thickness of an internal electrode 1, for example, in a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

このセラミックペーストは、たとえば積層セラミックコンデンサにおける内部電極１の厚みによる段差を実質的になくすようにセラミックグリーンシート２の主面上に段差吸収用セラミックグリーン層５を形成するために有利に用いられる。 - 特許庁

The production method of the sheet with the magnetic pattern includes the step of applying the magnetic ink produced by the magnetic ink by the production method of the magnetic ink including the step of mixing the magnetic colloid with the silver colloid to one surface of the white sheet substrate.例文帳に追加

磁性体コロイドと銀コロイドを混合する工程を有する磁気インクの製造方法によって製造された磁気インクを、白色系のシート基材の一方の面に塗布する工程を有する磁気パターンを有するシートの製造方法。 - 特許庁

The piping cleaning method comprises at least a step of producing a cleaning liquid containing many micro air bubbles, and a step of emitting a jet of the cleaning liquid, containing the many micro air bubbles, toward the inner peripheral surface of the piping via a nozzle.例文帳に追加

微細気泡を大量に含んだ洗浄液を生成する工程と、前記微細気泡を大量に含んだ洗浄液をノズルを介し配管の内周面へ向けて噴射する工程とを少なくとも含んだ配管の洗浄方法である。 - 特許庁

The method for producing the fishing rod comprises a printing step for printing so that the protruded parts 121 are installed in the prescribed area 12 of the outer peripheral surface 11 in the rod bodies 10 and a curing step for curing the protruded parts 121 by heating the prescribed area 12.例文帳に追加

その製造方法は、竿体１０における外周面１１の所定区域１２に凸部１２１が複数設けられるように印刷する印刷工程と、所定区域１２を加熱して凸部１２１を硬化させる硬化工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the nonlinear voltage type resistor has a step for obtaining each compact by using a raw material of each nonlinear voltage type resistor body and has a step for applying the raw material of a first insulation layer to the side surface of each compact and baking it, to form the first insulation layer on each nonlinear voltage type resistor body.例文帳に追加

電圧非直線性抵抗体本体の素材を用いて成形体を得、上記成形体の側面に第１の絶縁層の素材を塗布して焼成し、電圧非直線性抵抗体本体に第１の絶縁層を形成する。 - 特許庁

In the gas-receiving region 60, a gas-disturbing portion 8 is formed with inclusion of walls 9, 9, 23b which change step by step in the height for the upper surface of the bank member 23, as it advances toward the down-stream side of the flow of the raw material gas G.例文帳に追加

ガス受入領域６０には、原料ガスＧの流れ方向下流側に進むにつれて、堤部材２３の上面２３ａに対する高さが段階的に変化する壁９，９，２３ｂを有するガス乱し部８が形成されている。 - 特許庁

In a step S3 of the flaw depth measurement, if a flaw is detected in the step S2 of the slot dovetail part flaw detection, the depth of the flaw from the surface of the slot dovetail part is measured using an oscillation method or TOFD method by the angle ultrasonic probe.例文帳に追加

欠陥深さ測定Ｓ３では、スロットダブテール部探傷Ｓ２で欠陥が検出された場合には、斜角超音波探触子による振幅法またはＴＯＦＤ法を用いてスロットダブテール部表面からの欠陥の深さを測定する。 - 特許庁

The method comprises: a coating step of coating an inner surface of a copper tube with a composition containing tin powder consisting of metal tin or a tin alloy, activator and viscous organic matters; and a heating step of heating the copper tube to the temperature higher than the melting point of tin powder.例文帳に追加

金属すず又はすず合金よりなるすず粉末、活性剤、及び粘調性有機物を含有する組成物を銅管内面に塗布する塗布工程と、銅管をすず粉末の融点以上に加熱する加熱工程とを有する。 - 特許庁

Since the step part 53 and a corner part 59 and vicinity are embedded in a resin so that the terminal 5 is fitted tightly and strongly to the resin, no step part is required to be provided at a part comprising a wire-bonding surface to be embedded, as in the conventional cases.例文帳に追加

段差部５３及び角部５９付近が樹脂中へ埋設されて端子５が樹脂へ強固に密着固定されるので、従来の同端子のようにワイヤボンディング面を有する部分に段差部を設けてこれを埋設する必要性が無い。 - 特許庁

The method includes: a step for acquiring a measurement data set having a point group corresponding to the surface of the cutting tool; and a step of acquiring a point set on a prescribed section by virtually slicing the point group in the prescribed section.例文帳に追加

本方法は、切削工具の表面に対応する点集団を有する測定データセットを取得する段階と、所定のセクションにおいて点集団を仮想的にスライスして該所定のセクション上の点セットを取得する段階とを含む。 - 特許庁

Furthermore, by suppressing cyclic swell occurrence caused by shrinkage on a surface, a front face FF having desired flatness can be formed in a flattening step that is a final step of manufacturing an ultraviolet-curable resin member Qa.例文帳に追加

また、収縮による表面における周期的なうねりの発生を抑制して、紫外線硬化性樹脂部材Ｑａの作製の最終工程である平坦化工程において、所望の平坦度を有する最表面ＦＦの形成が可能としている。 - 特許庁

In a first step 6, the surface of the ultraviolet active sealing agent 5 is preliminarily crosslinked by ultraviolet irradiation and in a subsequent second step 8, an adhesive 4 at the turndown of the edge and the sealing agent 5 are cured by heat.例文帳に追加

その際、第１のステップで、紫外線活性のシーリング材５の表面が紫外線照射によって予備架橋され（６）、それに直接続く第２のステップにおいて、熱の作用によって、縁折り曲げ部接着剤４とシーリング材５が硬化される（８）。 - 特許庁

When a first Al alloy wire 2 is formed by a two-step sputtering method, a lower Al alloy film 23 is formed by first-step sputtering, and subsequently a W film 24 is formed directly on the surface of the film 23 by sputtering.例文帳に追加

１ｓｔＡｌ合金配線２を２ステップスパッタ法により形成する際、１ｓｔステップスパッタにより、下側Ａｌ合金膜２３を成膜し、続いて、スパッタにより、下側Ａｌ合金膜２３の表面上に、直接、Ｗ膜２４を成膜する。 - 特許庁

A ring 412A for forming the raceway surface formed portion 412 is pre-molded (step ST1), and a powder forging is performed by using a metal powder for manufacturing the outer ring body portion 411 by inserting a ring 412A into a forging mold (step ST3).例文帳に追加

軌道面形成部分４１２を形成するためのリング４１２Ａをプレ成形し（ステップＳＴ１）、鍛造型にリング４１２Ａを入れて外輪本体部分４１１を製造するための金属粉末を用いて粉末鍛造を行う（ステップＳＴ３）。 - 特許庁

There is provided a method for manufacturing an optical film having irregularities on the surface, which comprises a step of applying a solvent mixture containing a poor solvent on a resin film base material containing cellulose ester, and a step of drying.例文帳に追加

表面に凹凸構造を有する光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステルを含む樹脂フィルム基材に貧溶媒を含む混合溶媒を塗工する工程及び乾燥する工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

Further the method includes: a step of forming a nickel layer by depositing nickel on the surface of a female mold having a shape corresponding to the shape of the foundation structure by the NVD method; and a step of forming a component by working the deposited nickel layer.例文帳に追加

また、基礎構造体の形状に対応した形状の雌型の表面にＮＶＤ法によりニッケルを蒸着してニッケル層を形成するステップと、蒸着したニッケル層に加工を施すことによって構成部品を形成するステップと、を含む。 - 特許庁

The crimping step is a step in which, as shown in Fig.3(c), a getter material 8 containing a powder-like gas adsorption metal and a binder are crimped on the surface of a substrate 2 by pressing by a die 32 and a molding 9 as shown in the Fig.3(d) is obtained.例文帳に追加

圧着工程は、図３（ｃ）に示すように、金型３２によりプレスして、基体２の表面に粉末状のガス吸着金属とバインダとを含むゲッター材８を圧着して、図３（ｄ）に示す成型体９を得る工程である。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step of forming a thin film 102 on a main face of substrate 101 and a step of forming a slit 104 penetrated from the backside of substrate 101 to the surface of thin film 102, by irradiation of FIB 103 from the backside of substrate 101.例文帳に追加

基板１０１の主面に薄膜１０２を形成する工程と、ＦＩＢ１０３を基板１０１の裏面から照射して、基板１０１の裏面から薄膜１０２の表面まで貫通する間隙１０４を形成する工程とを備える。 - 特許庁

Then, the friction coefficient between the tire model and the road surface model is reset to be the actual friction coefficient and the load to be applied to the tire model is reset to be the actual load (Step S105), and the calculation is performed until the tire model is in a balanced condition (Step S106).例文帳に追加

次に、タイヤモデルと路面モデルとの間における摩擦係数を実際の摩擦係数に、タイヤモデルに負荷する荷重を実際の荷重に再設定し（ステップＳ１０５）、タイヤモデルが平衡状態になるまで計算する（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

The durability evaluation method for a thin film includes a sample making step of fixing a shearing stress granting means on the surface of a thin film to make a sample, and a sample expansion contraction step of expanding and contracting the sample made.例文帳に追加

薄膜の表面に剪断応力付与手段を固定し、テストピースを作製する、テストピース作製工程と、作製されたテストピースを伸縮させる、テストピース伸縮工程と、を備えることを特徴とする薄膜の耐久性評価方法とする。 - 特許庁