「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a method of manufacturing a laminated ceramic electronic component which contains steps of making weight ratio of a binder different between one surface side and the other surface side of a ceramic green sheet and highly precisely controlling variation of the weight ratio of the binder by not requiring adjustment in a drying step of the ceramic green sheet or an additional heat treatment step.例文帳に追加

セラミックグリーンシートの乾燥工程における調整や付加的な加熱工程を必要とせずに、バインダ含有割合をセラミックグリーンシートの一方面側と他方面側とにおいて異ならせることができ、バインダ含有割合の変化を高精度に制御し得る工程を備えた積層セラミック電子部品の製造方法を得る。 - 特許庁

In this covered damage analyzer, a plurality of continuous sections is set in the waveform in a ground surface potential distribution (step S205), an inclination of the waveform in the ground surface potential distribution is drawn out in every of set sections (step S207), and the damaged point is detected based on a tendency of inclinations drawn out in the respective section.例文帳に追加

被覆損傷解析装置は、地表面電位分布の波形において複数の連続する区間を設定し（ステップＳ２０５）、設定された各区間別に地表面電位分布の波形の傾きを導出し（ステップＳ２０７）、各区間別に導出された傾きの傾向から損傷点を検出する。 - 特許庁

A method of applying photosensitive paste to circuit board in two stages comprises a step of compactly packing photosensitive paste prepared by mixing a photoresist with the circuit material in the through holes 5 of the circuit board 2 and a step of forming a photosensitive paste layer 4 on the surface of the circuit board 2 by applying the paste to the surface of the board 2.例文帳に追加

本発明に係る回路基板における感光ペースト２段塗着方法は、フォトレジストと回路材料を混合した感光ペーストを基板２のスルーホール５の内部に隙間なく充填する工程と、更に感光ペーストを前記回路基板２の表面に塗着して感光ペースト層４を形成する工程から構成される。 - 特許庁

Further, the method for manufacturing the electrophoresis particles includes a step to make the particle surface adsorb at least the reactive surfactant and a step to fix the amphiphilic residue originating from the reactive surfactant to the particle surface with a chemical reaction of the reactive functional group possessed by the reactive surfactant.例文帳に追加

粒子表面に少なくとも反応性界面活性剤を吸着させる工程、該反応性界面活性剤が有する反応性官能基の化学反応によって、粒子表面に反応性界面活性剤由来の両親媒性残基を固定化する工程を有する電気泳動粒子の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a nitride-based semiconductor layer includes a step of applying nitride processing to one main surface of the sapphire substrate at a temperature of 800-1,200°C before forming the nitride-based semiconductor layer, and a step of forming the nitride semiconductor layer by an organic metal vapor phase growing method on the surface of the nitride-processed sapphire substrate.例文帳に追加

窒化物系半導体層の形成方法は、窒化物系半導体層の形成前にサファイア基板の一主面を８００℃から１２００℃の範囲の温度で窒化処理し、その窒化処理されたサファイア基板面上に有機金属気相成長法により窒化物半導体層を結晶成長させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of forming an anode 14 and a cathode 13 on part of a valve metal base 2 having an enlarged surface layer and a dielectric layer formed on the surface of valve metal to make an electrolytic capacitor element 1, and a step of providing an open part (aperture 5) on the anode 14 of the element 1.例文帳に追加

弁金属の表面に拡面化層および誘電体層が形成された弁金属基体２の一部に陽極部１４および陰極部１３を形成して電解コンデンサ素体１を作製する工程、電解コンデンサ素体１の陽極部１４に開放部（開口部５）を設ける工程を含む。 - 特許庁

The method for processing the substrate comprises a first step for jetting droplet generated by mixing alkaline fluid with gas by a first two-fluid nozzle 48 to the surface of a substrate W, and a second step for jetting droplets generated by mixing hydrochloric acid or etching fluid with gas by a second two-fluid nozzle 80 to the surface of the substrate.例文帳に追加

第１の二流体ノズル４８により、アルカリ性液と気体とを混合して生成される液滴を基板Ｗの表面へ噴射する第１の工程と、第２の二流体ノズル８０により、塩酸またはエッチング液と気体とを混合して生成される液滴を基板表面へ噴射する第２の工程とを有する。 - 特許庁

The method is used to manufacture the inductor element 300, and it includes a step to etch a semiconductor substrate 110 to form a pillar-shaped part 140 wherein a face parallel to the semiconductor substrate 110 in the surface direction is apart from its periphery and a step to form an Au layer 320 on the surface of the pillar-shaped part 140.例文帳に追加

インダクタ素子３００の製造方法であって、半導体基板１１０をエッチングすることにより、半導体基板１１０の面方向に平行な面が周囲から離間した柱状部１４０を形成する工程と、柱状部１４０の表面にＡｕ層３２０を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disk comprises: an activator removing step (S110) removing the surface active agent from a polishing pad having a plurality of nap holes formed therein; and a polishing step (S120) polishing the glass substrate in a disk shape with the polishing pad from which the surface active agent is removed.例文帳に追加

本発明における磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、複数のナップ孔が形成された研磨パッドから界面活性剤を除去する活性剤除去工程（Ｓ１１０）と、界面活性剤が除去された研磨パッドを用いて円盤状のガラス基板を研磨する研磨工程（Ｓ１２０）と、を含む。 - 特許庁

A manufacturing method of a product with a tooth profile successively performs an upsetting step of upsetting a rough tooth profile 62 of a work, and an ironing step of ironing a tooth width surface 63 and an outside diameter surface 64 of the rough tooth profile 62 by an ironing unit 31 formed on a die 3 when performing the knock-out of the rough tooth profile 62.例文帳に追加

本歯形付き製品の製造方法は、粗材の粗歯形６２を据込加工する据込工程と、該粗歯形６２のノックアウト時に、金型３に形成されたしごき部３１によって該粗歯形６２の歯幅面６３及び外径面６４のしごき加工を行うしごき工程とを順次行うことを特徴とする。 - 特許庁

In the epitaxial crystal growth layer 2, a part of a region where a gate electrode 7 is arranged, becomes a smooth first region where a bunching step is not formed on the surface, and the entire region where the gate electrode 7 is not arranged, becomes a second region where the bunching step is formed on the surface.例文帳に追加

エピタキシャル結晶成長層２において、ゲート電極７が配置されている領域の一部は、表面にバンチングステップが形成されない平滑な第１領域となっており、ゲート電極７が配置されていない領域の全部は、表面にバンチングステップが形成された第２領域となっている。 - 特許庁

The method to improve adhesive properties of the copper face or the copper alloy face to resin comprises a step to bring water solution including an azole compound of 0.1 to 15 weight percent and an organic acid of 1 to 80 weight percent into contact with the surface of the copper or the copper alloy and a step to form a coating of the azole compound on the surface.例文帳に追加

銅または銅合金の表面に、アゾール化合物０．１〜１５重量％および有機酸１〜８０重量％を含有する水溶液を接触させ、前記表面にアゾール化合物の被膜を形成させることを特徴とする銅または銅合金の表面と樹脂との接着性を向上させる方法。 - 特許庁

In the lens and the lighting fixture equipped with the lens, the lens 14 controls light from an LED light source 13 having light distribution with expansion, and includes a step difference 39 fitted to a front surface of the LED light source 13 and an inclined plane 40 connecting between the step difference 39 and an outer peripheral end 38 of the lens surface.例文帳に追加

レンズおよびレンズを備えた照明器具においてレンズ１４は、広がりを持つ配光を有するＬＥＤ光源１３からの光を制御するレンズ１４であって、ＬＥＤ光源１３の前面に設けられた段差３９と、段差３９とレンズ表面の外周端３８とを結ぶ傾斜面４０とを有する。 - 特許庁

The radiation image conversion panel manufacturing method comprises a step of checking the surface state of a substrate before vapor deposition after a vacuum chamber is evacuated while a substrate is set in the vacuum chamber of a vacuum vapor deposition apparatus, and a step of depositing a fluorescent body layer on the surface of the substrate.例文帳に追加

真空時蒸着装置の真空チャンバ内に基板がセットされた状態で、前記真空チャンバ内を真空に排気した後に、蒸着前の前記基板の表面状態を確認する工程と、前記基板表面に蛍光体層を形成する工程とを有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor junction layer comprises a step of coating semiconductor crystalline grain boundaries, which are exposed on the surface of a first conductive type semiconductor substrate and form the semiconductor substrate with a dopant diffusion barrier layer, and a step of forming the semiconductor junction layer of a second type dopant diffused on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

第１導電型半導体基板表面に露出した該半導体基板を構成する半導体の結晶粒界を、ドーパント拡散バリア層で被覆し、前記基板表面に第２導電型ドーパントを拡散させて接合層を形成することを特徴とする半導体接合層の製造方法。 - 特許庁

This method for preventing asbestos from scattering comprises a first step of removing the contamination adhered to the surface of a contaminated slate by spraying a high-pressure liquid containing 2-10 w% emulsified silicone resin to the slate, and a second step of spraying liquid containing 10-50 wt.% emulsified silicone resin to the surface.例文帳に追加

汚れたスレートに対して、乳化したシリコーン樹脂分を２〜１０重量％含有する高圧液体を吹き付けて表面に付着した汚れを除去する第1工程と、その後で、乳化したシリコーン樹脂分を１０〜５０重量％含む液体を表面に吹き付ける第２工程からなる処理を行う。 - 特許庁

The device is formed to keep a lid element 30 surely closed (locked state) in the first step till reaching the cage to the surface of water, and, in the second step, after reaching the cage on the surface of water, to make the lid element 30 weakly closed state (half-locked state) capable of surely opening by swaying the fishing rod.例文帳に追加

かごが水面に達するまでの第１段階で、ふた部材３０をしっかりと閉じた状態（ロック状態）に維持した上、かごが水面に達した時点以降の第２段階では、釣竿をあおることによってふた部材３０を確実に開くことができる弱い閉じ状態（半ロック状態）にする。 - 特許庁

To provide a micro bead automatic identification method which includes the step of acquiring an image of a circular surface of the cylindrical micro bead having the identification pattern and a plurality of reference points formed on the circular surface and the step of acquiring information about both sides and/or tilting of the micro bead based on the positions of the reference points in the acquired image.例文帳に追加

識別パターンと複数の基準点を円形面に形成した円柱形のマイクロビーズの円形面の画像を取得するステップと、取得された画像において、基準点の位置に基づき、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報を取得するステップと、を含むマイクロビーズ自動識別方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes; a resist pattern forming step of forming a resist pattern by forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition, exposing and developing the resist film; and a patterning step of patterning the surface to be processed, by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

This method comprises a step for forming an element separating film which demarcates the active region and the field region by forming a trench in a specified region on a semiconductor substrate, and then burying an insulating film; and a step for etching the semiconductor substrate in the active region into a specified depth, so that the surface becomes a curved surface.例文帳に追加

半導体基板上の所定の領域にトレンチを形成した後、絶縁膜を埋め込むことにより、アクティブ領域とフィールド領域を画定する素子分離膜を形成する段階と、前記アクティブ領域の半導体基板を所定の深さにエッチングするが、表面が曲面となるようにエッチングする段階とを含む。 - 特許庁

The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information.例文帳に追加

基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 - 特許庁

The formation method includes (1) a step of forming a silicon oxide film 42 by thermally oxidizing a surface of a silicon layer 40 at an atmosphere temperature at which hydrogen atoms terminated on its surface are not detached, and (2) a step of obtaining a silicon nitride oxide film 42A by subjecting the obtained silicon oxide film 42 to a nitriding process.例文帳に追加

シリコン窒化酸化膜の形成方法は、（イ）表面を終端した水素原子が脱離しない雰囲気温度にて、シリコン層４０の表面を熱酸化することによって、シリコン酸化膜４２を形成する工程と、（ロ）得られたシリコン酸化膜４２を窒化処理することによって、シリコン窒化酸化膜４２Ａを得る工程から成る。 - 特許庁

A method for assembling a windmill for use in a pachinko game machine comprises a nail supporting step wherein a windmill body 1 is mounted by a nail 3 so as to be pivotal with respect to the surface of the game board, and a cover member mounting step wherein a cover member 2 is placed on the surface of the windmill body 1 pivotally supported on the game board.例文帳に追加

少なくとも遊技盤面に対して釘３により風車本体１を植着して回動可能に軸支する釘軸着工程と、遊技盤面上に軸支された風車本体１の表面に蓋部材２を覆設する蓋部材装着工程とからなるパチンコ機用風車の組立方法。 - 特許庁

The method for assembling an auxiliary air chamber member 13 includes: a step of arranging one widthwise end edge 13c in the auxiliary air chamber 13 into a groove part 17 of the first vertical wall surface 15; and a step of press-fitting the other widthwise end edge 13c in the auxiliary air chamber 13 into the groove part 17 of the second vertical wall surface 16.例文帳に追加

副気室部材１３の組付方法は、第１の縦壁面１５の溝部１７に、副気室部材１３の幅方向一端縁１３ｃを配置するステップと、第２の縦壁面１６の溝部１７に、副気室部材１３の幅方向他端縁１３ｃを圧入するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The outer peripheral part of the lens base material is worked into a prescribed shape by cutting (outer fairing process; step 32), thereafter, cut edge faces are polished up to the same extent as lens surface (polishing process; step 33) and the primer layer or the hard coat layer is formed on the surface of the lens base material (layer formation process; steps 34, 35).例文帳に追加

レンズ基材の外周部を切削により所定形状に切り出した（外整工程、ステップ３２）後、切削されたコバ面をレンズ表面と同程度まで研磨し（研磨工程、ステップ３３）、レンズ基材の表面にプライマー層またはハードコート層を形成する（層形成工程、ステップ３４および３５）。 - 特許庁

The step sheet 10 provided at the upstream side of a document feeding direction on the read glass has a multi-layered structure of an upper surface layer 11, an intermediate layer 12, a lower surface layer 13 and adhesive layers 14a, 14b.例文帳に追加

読取りガラス上の原稿搬送方向上流側に設けた段差シート１０は、上側表面層１１、中間層１２、下側表面層１３及び接着層１４ａ，１４ｂの多層構造とされている。 - 特許庁

A sleeve 12 is composed of a cylindrical portion 12a and a shaft portion 12d of a large diameter and, on its outer circumferential intermediate portion, there is formed a step portion having a perpendicular surface 12e contacting an end surface of an engaging portion 10b of a main body aide.例文帳に追加

スリーブ１２は、円筒部１２ａと径太の軸部１２ｄとからなり、その外周中間部には本体側の係合部１０ｂ端面に当接する垂直面１２ｅを有する段部が形成されている。 - 特許庁

To reduce mingling of impurity into a magnetic film, while a magnetic field is applied along the surface at a position near to the surface of the work piece, in a step for forming a magnetic film in GMR head and the like.例文帳に追加

ＧＭＲヘッド等の製造の際の磁性膜の作成において、対象物の表面付近にその表面に沿って磁界を印加しながら、作成する磁性膜中への不純物の混入を少なくする。 - 特許庁

A center accessory CY provided with the rolling surface 50 for making the game ball roll and move is disposed on the game board 10, and the rolling surface 50 is constituted by arranging a plurality of light emitting units 51 in a step shape.例文帳に追加

遊技盤１０上に遊技球を転動移動させる転動面５０を有してなるセンター役物ＣＹが配設されており、この転動面５０が複数の発光ユニット５１を階段状に並べて構成される。 - 特許庁

The method for roasting the fish includes attaching wheat flour on the surface of the pacific saury as a preparatory processing of a roasting step to form a thin film, baking the gluten of the wheat flower on the surface of the pacific saury, and then roasting at a temperature condition of surrounding temperature of 100 to 130°C for three hours.例文帳に追加

また、魚を長時間低温で焼く方法もあるが、焼く工程で榮養分や水分の流出が起こる問題点がありこれらを改善したサンマの小生方法を提供する。 - 特許庁

The second determination step determines a solid angle formed by regarding a surface of the pair of detector crystals determining the Line of Response as a bottom surface, for every point within the array of the discharge points corresponding to the Line of Response.例文帳に追加

第２決定ステップでは、同時計数線に対応する放出点のアレイ内の点ごとに、同時計数線を定める１対の検出器結晶の表面を底面として形成される立体角を決定する。 - 特許庁

To shorten the tact time by eliminating a step for stabilizing the gas state and resuming surface treatment immediately after a temporary stop for replacing an article to be treated when the surface treatment is performed using a treatment gas containing hydrogen fluoride (HF).例文帳に追加

フッ化水素（ＨＦ）を含む処理ガスにより表面処理する際、被処理物の取り替え等で一時停止した後、ガス状態の安定化工程を省き直ちに処理を再開可能にし、タクト時間を短縮する。 - 特許庁

When the needle 30 is being moved from a valve closing state to a valve opening state, the end surface 71 of the outer piston 70 abuts on the piston step surface 63 of the inner piston 60, and the outer piston 70 is pushed to move in the valve opening direction.例文帳に追加

アウタピストン７０は、ニードル３０が閉弁状態から開弁状態に移行するとき、端面７１がインナピストン６０のピストン段差面６３に当接し押されることで開弁方向に移動する。 - 特許庁

A vehicle body 2 has a vehicle main body 4 having a step surface 3 extending nearly horizontally on the upper surface, and a steering frame 11 extending vertically supported at the front portion of this vehicle main body 4 so as to be steerable.例文帳に追加

車体２が、上面にほぼ水平に延びるステップ面３を有する車体本体４と、上下方向に延びてこの車体本体４の前部に操向自在となるよう枢支される操向フレーム１１とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the transport roller includes a bending step of performing press processing so that the inner surface (C1) of a coil as an original material of a metal plate (60) becomes the inner circumferential surface of the metal plate formed into a cylindrical shape.例文帳に追加

金属板（６０）の元材となるコイルの内周側の面（Ｃ１）が、円筒状に形成された金属板の内周面となるようにプレス加工を行う曲げ工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display comprising a step of bonding a light-transmissive substrate where the occurrence of bubbles when the light-transmissive substrate is bonded to a display surface can be suppressed even when the display surface is made large.例文帳に追加

表示面が大型化しても、当該表示面への透光性基板の接着時の気泡の発生を抑制し得る透光性基板の接着工程を備えるディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

The support bracket 20 is formed with a step 45 with its bumper side being low so that the attachment surface of the attachment flange 12 and the attachment surface of the bumper reinforcing member 5 in the car body panel 13 are positioned approximately flush with each other.例文帳に追加

支持ブラケット２０には、取付フランジ１２の取付面と車体パネル１３におけるバンパ補強部材５の取付面とが略同一の水平面上に位置するように、バンパ側が低い段差部４５を形成する。 - 特許庁

The rotation speed of the step motor is controlled by the control apparatus depending on the position of the original on the transfer path, and the original is transferred at a reading moving speed within a predetermined range during reading the front surface or back surface.例文帳に追加

制御装置により、搬送経路上における原稿の位置に応じてステップモータの回転速度が制御され、表面又は裏面の読み取り中は原稿が所定範囲内の読取移動速度で搬送される。 - 特許庁

In a semiconductor layer forming step (S5), a solution for semiconductor layer formation which contains at least a silane coupling agent, an organic semiconductor, and a polymer resin is dripped on the surface of the insulating layer having been surface-processed.例文帳に追加

半導体層形成工程（Ｓ５）において、表面処理後の絶縁層表面に、シランカップリング剤と有機半導体と高分子樹脂とを少なくとも含有している半導体層形成用溶液を滴下する。 - 特許庁

Then, an SOG solution as a raw material of an SOG film 14 for restraining a step between an upper surface of the first aluminum wiring 12 and an upper surface of the semiconductor substrate 11 is applied over the whole of the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

次に、第１アルミ配線１２の上面と半導体基板１１の上面との段差を抑制するためのＳＯＧ膜１４の原料であるＳＯＧ液を、半導体基板１１全体に亘って塗布する。 - 特許庁

The method for manufacturing the titanium dioxide coating-formed material comprises a step of jetting titanium dioxide powder 4 toward the surface of the porous base material 1 to capture titanium dioxide powder 4 in pore parts 3 of the surface of the porous base material 1.例文帳に追加

本発明の二酸化チタンコーティング成形材の製造方法は、多孔質基材１の表面に二酸化チタン粉４を噴射して、多孔質基材１の表面の孔部３内に二酸化チタン粉４を捕捉させる。 - 特許庁

The method for producing the titanium oxide photocatalyst thin film comprises the step of subjecting a substrate to surface activation treatment, forming a titanium oxide thin film on the substrate, and subsequently subjecting the surface of the titanium oxide thin film to plasma treatment.例文帳に追加

基材を表面活性化処理した後、該基材上に酸化チタン系薄膜を形成し、次いで該酸化チタン系薄膜面をプラズマ処理することを特徴とする、酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display which includes a step of enabling a light-transmissive substrate 7 to be stuck to the display surface of a display body, while hardly having to impose a load on the display surface of the display body 1, and to provide the light-transmissive substrate 7.例文帳に追加

ディスプレイ本体１の表示面や透光性基板７へほとんど負荷を加えることなく、該表示面に透光性基板７を接着できる工程を備えたディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

In step S3-2, wettability is increased for the resinous portion 33 on the upper surface 19u of the substrate 19, and/or the wettability is reduced for the resinous portion 33, on the side surface 25S of the raised section 25 of the mold 21.例文帳に追加

工程Ｓ３−２では、基体１９の上面１９ｕの樹脂部３３に対する濡れ性を増加させる、及び／又は、モールド２１の盛り上げ部２５の側面２５Ｓの樹脂部３３に対する濡れ性を減少させる。 - 特許庁