「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

This foreign substance detecting method comprises a step for measuring displacement oscillation generated on a measurement object surface when blowing air to the measurement object, a step for measuring a phase difference based on the measured displacement oscillation in each position of the measurement object, and a step for determining the presence/absence of the foreign substance based on the degree of the phase difference.例文帳に追加

本発明に係る異物検出方法は、被測定物に空気を吹き付けたときに被測定物表面に生ずる変位振動を測定する段階と、被測定物の各位置において測定された変位振動に基づいて位相差を求める段階と、該位相差の程度により異物の有無を判別する段階と、からなる。 - 特許庁

This method comprises a mortar filling step of filling a mortar 2 into the defective portion 1b formed on a fair-face concrete surface 1a, a form pattern forming step of forming a form trace pattern on the portion to be restored and a gradation step of stippling a gradation coating material moderated to a desired color with an inorganic pigment.例文帳に追加

打放しコンクリート表面１ａに生じた欠損部１ｂにモルタル２を充填するモルタル充填工程と、修復箇所に型枠跡模様を形成する型枠模様形成工程と、無機質顔料により所望の色に調整されたぼかし用塗材を叩き塗りするぼかし工程と、を有するものである。 - 特許庁

In the step (b), based on time when distortion of the surface of the timber indicates a predetermined condition, the step (b) is completed so as to transfer to the step (c).例文帳に追加

イ：木材を蒸煮する工程ロ：蒸煮工程を経た木材を高温低湿処理する工程、ハ：次いで、高温低湿処理された木材を所定含水率に達するまで乾燥させる工程、を具え、前記工程ロにおいて、木材表面のひずみが所定条件を示した時点を基準に工程ロを終了して工程ハに移行する。 - 特許庁

This method includes the step of forming a concave/convex pattern in the surface of a 2P resin layer formed on a flat substrate, the step of forming a recording layer on the concave/convex pattern, and the step of peeling the flat substrate from the 2P resin layer after the 2P resin layer and the recording layer are bonded to the support substrate of an optical recording medium.例文帳に追加

平坦基板上に塗布された２Ｐ樹脂層の表面に凹凸パターンを形成し、前記凹凸パターン上に記録層を形成し、前記２Ｐ樹脂層及び前記記録層を光記録媒体の支持基板上に接着した後に、前記平坦基板を前記２Ｐ樹脂層から剥離する光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the inner tube for the grassy carbon CVD device comprises a step of molding thermosetting resin to obtain a thermosetting resin tube, a step of carbonizing the thermosetting resin tube, and a step of making rough the inner surface of the obtained glassy carbon CVD device by sandblasting.例文帳に追加

熱硬化性樹脂を成形して熱硬化性樹脂製チューブを得る工程と、熱硬化性樹脂製チューブを炭素化処理する工程と、得られたガラス状炭素製チューブの内周面をサンドブラスト処理により粗面化する工程とを含むガラス状炭素製のＣＶＤ装置用インナーチューブの製造方法。 - 特許庁

The step for cleaning the resin pellet includes the step for introducing the resin pellet and water into the first cylinder body, and the step for cleaning the resin pellet by removing foreign matters from the surface of the resin pellet by water flow while conveying the resin pellet and the water toward the discharge port of the first cylinder body.例文帳に追加

樹脂ペレットを洗浄する工程は、樹脂ペレットと、水とを第一の筒体内に導入する工程と、第一の筒体の排出口に向けて前記樹脂ペレットと前記水とを搬送しながら、水流により樹脂ペレット表面から異物を除去して樹脂ペレットを洗浄する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the photocatalytic composite material comprises, at the least, a molding step of kneading a base material with a photocatalyst and molding the kneaded mixture and a crushing step of crushing the molded material obtained at the molding step to expose at least a part of the combined photocatalyst to the surface of the molded material.例文帳に追加

本発明の光触媒複合材料の製造方法は、基材と光触媒とを混練して成形する成形工程と、該成形工程により得られた成形物を粉砕し、該成形物の表面に前記光触媒の少なくとも一部を露出させる粉砕工程とを少なくとも含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method is constituted of a step of forming a storage-node electrode on a semiconductor substrate, a step of forming a dielectric film composed of a cycle silicon nitride film (cycle Si_3N_4 or SiO_xN_y) on the surface of the storage-node electrode, and a step of forming an upper electrode on the dielectric film.例文帳に追加

半導体ウェハ上にストレージノード電極を形成する段階と、前記ストレージノード電極の表面上にサイクルシリコン窒化膜（サイクルＳｉ_３Ｎ_４またはＳｉＯ_ｘＮ_ｙ）で構成された誘電体膜を形成する段階と、前記誘電体膜上に上部電極を形成する段階とを含んで構成される。 - 特許庁

The manufacturing method of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes: a step of forming a base dielectric layer; a step of forming a unit ceramic capacitor by alternately depositing internal dielectric layers and internal electrode layers on a top surface of the base dielectric layer; a step of stacking another one or more unit ceramic capacitor on the unit ceramic capacitor.例文帳に追加

本発明による積層セラミックスキャパシタの製造方法は、基礎誘電体層を形成する段階；前記基礎誘電体層の上面に内部誘電体層及び内部電極層を交互に蒸着した単位セラミックスキャパシタを形成する段階；及び前記単位セラミックスキャパシタを２層以上で積層する段階；を含む。 - 特許庁

A method for producing the carbon material coated with tantalum carbide is a method of forming the tantalum carbide coating film on a carbon substrate, and includes: a crystal nucleus forming step of forming a crystal nucleus of tantalum carbide on a surface of the carbon substrate; and a crystal growth step of growing the crystal nucleus of the tantalum carbide after the crystal nucleus forming step.例文帳に追加

炭素基材上に炭化タンタル被覆膜を形成する炭化タンタル被覆炭素材料の製造方法であり、炭素基材の表面に炭化タンタル結晶核を形成する結晶核生成工程と、結晶核生成工程後に炭化タンタル結晶核を結晶成長させる結晶成長工程とを含む。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a slitting 16 with a triangle cross-sectional surface that is extending to one side of the flat circuit in a predetermined direction; a step of depositing an adhesive 20 on side faces of the slitting 16; and a step of moving the side faces of the slitting 16 to make them closer.例文帳に追加

平面の回路の一方の側に広がっている三角形の断面を有する切込み１６を所定の方向に形成する段階と、切込み１６の側面上に接着剤２０を堆積する段階と、それらを近づけるために前記切込み１６の側面を共に移動させる段階とを含む。 - 特許庁

The method for producing the conductive fiber comprises (1) a step for treating a fiber with a polymerizable aniline compound in a supercritical or subcritical carbon dioxide fluid under a pressure of 5-35 MPa, and (2) a step for forming the conductive polyaniline coated film on the surface of the fiber by treating the fiber obtained in the step (1) with an oxidizing agent.例文帳に追加

下記の工程を含む導電性繊維の製造方法：（１）超臨界又は亜臨界二酸化炭素流体中、5〜35 MPaの圧力下、繊維を重合可能なアニリン化合物で処理する工程、及び（２）（１）で得られた繊維を酸化剤で処理して、繊維表面に導電性ポリアニリン被膜を形成する工程。 - 特許庁

When a coating liquid for forming a charge transport layer in a photosensitive layer formed in a surface of an electrophotographic photoreceptor is prepared, components for the charge transport layer except a binder resin are dissolved in an organic solvent (step a1), this solution is filtered (step a2) and the binder resin is added to the resulting filtrate (step a3).例文帳に追加

電子写真感光体の表面に形成される感光層のうち、電荷輸送層を形成するための塗液を調製するにあたり、バインダ樹脂以外の電荷輸送層用成分を有機溶媒に溶解し（ステップａ１）、この溶液を濾過し（ステップａ２）、得られる濾液にバインダ樹脂を加える（ステップａ３）。 - 特許庁

This method for manufacturing a low-dielectric porous film comprises a step (A) of forming a dielectric film on a semiconductor substrate, a step (B) of putting the semiconductor substrate in an atmosphere of a high pressure inert gas and a step (C) of quickly releasing the pressure of the atmosphere to form hole-cavities in the surface of the dielectric film.例文帳に追加

半導体基材に誘電膜を形成する工程（Ａ）と、該半導体基材を高圧不活性ガスの雰囲気に入れる工程（Ｂ）と、該雰囲気の圧力を迅速に解除し、該誘電膜の表面に孔洞を形成させる工程（Ｃ）とを含む、低誘電性の多孔性誘電膜の製造方法である。 - 特許庁

The resist film is heat treated (step S18) within the period after baking treatment (step S11) and before developing, film hardening treatment (step S19) and the residual reaction is accelerated until the degree of the progression of the residual reaction slows down, by which the progression of the residual reaction can be made nearly the same degree over the entire surface of the metallic sheet.例文帳に追加

焼付け処理（ステップＳ１１）後から現像、硬膜処理（ステップＳ１９）前の期間内で、レジスト膜を加熱処理（ステップＳ１８）して残反応の進行度合いが緩慢になるまで、残反応を促進させて、金属薄板の表面の全面に亘って残反応の進行度合いをほぼ同じ値することができる。 - 特許庁

This manufacturing method comprises: a step of forming at least one ink injection element 18 or 36 on a surface 14 of a substrate 10; a step of forming a slot 12 in the substrate so as to enable fluid communication between an ink supply source and the ink injection element; and a step of applying isotropic etching to the substrate with the slot.例文帳に追加

基板１０の表面１４上に少なくとも１つのインク射出素子１８、３６を形成するステップと、インク供給源とインク射出素子の間で流体連通を可能にするように基板内にスロット１２を形成するステップと、スロット付き基板に等方性エッチングを施すステップとを含む製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of a liquid crystal display panel includes an exposing step to expose the resist arranged on the surface of a panel substrate 1 and a step of cutting the substrate 1 into blocks like into a 1st block 21, a 2nd block 22, and a 3rd block 23 each having one or more liquid crystal panels before the exposing step.例文帳に追加

液晶表示パネルの製造方法は、パネル基板１の表面に配置されたレジストに対して露光を行なう露光工程を含み、露光工程の前に、第１区画２１、第２区画２２および第３区画２３が複数の液晶表示パネルを有するように、パネル基板１を区画ごとに分断する分断工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor device includes at least a step of forming groove sections on the main surface 1a of the semiconductor wafer 1 along the boundary faces of semiconductor elements, a step of forming the sealing resin layer, through which electrodes 2 and boundary lines 3 are exposed, after the groove sections are formed, and a step of only dicing the wafer 1 along the boundary lines 3.例文帳に追加

半導体ウェハ１の主面１ａに、半導体素子の境界面に沿って溝部を形成する工程と、その溝部の形成後、電極２および境界線３を露出させた封止樹脂層が形成される工程と、境界線に沿って半導体ウェハのみダイシングする工程を少なくとも備えている。 - 特許庁

Moreover, the manufacturing method of the solid electrolytic film is provided with a step of forming the inorganic material layer in face to face with the main surface of the porous material layer with the through-hole, a step of forming the opening in the inorganic material layer, and a step of filling the electrolyte into the through-hole and the opening.例文帳に追加

また、貫通孔を有する多孔質材料層の主面に対向して無機材料層を形成する工程と、前記無機材料層に開孔を形成する工程と、前記貫通孔と前記開孔に電解質を充填する工程と、を備えたことを特徴とする固体電解質膜の製造方法が提供される。 - 特許庁

The cutting process of a wafer comprises a step 52 for making the wafer as thin as 0.1 mm or less, a step 53 for forming a protective sheet having Vickers hardness of 2 or above tightly on one surface of the wafer, and a step 54 for cutting the wafer on which the protective sheet is formed by means of a grinding stone.例文帳に追加

ウエハの切断方法は、ウエハを少なくとも０．１ｍｍ以下の厚さまで薄化するステップ５２と、ウエハの一方の面にビッカース硬さ２以上の保護シートを密着形成する、保護シート形成ステップ５３と、保護シートが形成されたウエハを砥石で切断する切断ステップ５４とを有している。 - 特許庁

A method of manufacturing rare-earth magnet includes a pressing step of manufacturing a molded body 20, by compression molding rare-earth alloy powder containing ≤4,000 mass ppm oxygen by the dry pressing method, a step of making the molded body 20 impregnated with an organic solvent 21 from the surface of the body 20, and a step of sintering the body 20.例文帳に追加

酸素含有量４０００質量ｐｐｍ以下の希土類合金粉末を乾式プレス法によって圧縮成形し、それによって成形体２０を作製するプレス工程と、成形体２０の表面から有機溶剤２１を成形体に含浸させる工程と、成形体２０を焼結させる工程とを包含する。 - 特許庁

When the step is detected by the road surface detecting sensor 12, a computer 14 determines brake quantity and brake timing of respective electric brake devices 19a to 19d wherein a front wheel and a rear wheel run over the step by the step quantity and the vehicular speed, and outputs a control signal to a hydraulic actuator 15.例文帳に追加

コンピュータ１４は、路面検出センサ１２にて段差が検知されると、その段差量及び車速とから前輪及び後輪が当該段差を乗り越す際の各電動ブレーキ装置１９ａ〜１９ｄの制動量及び制動タイミングを決定して制御信号を油圧アクチュエータ１５に出力する。 - 特許庁

The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of processing the solid layer by a resist composition, or the like; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.例文帳に追加

基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層をレジスト組成物等で処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁

This method includes a step of preparing a pattern forming material having a wettability pattern composed of lyophilic areas and liquid repellent areas on the surface of a substrate, a step of applying an inspection liquid to the lyophilic areas, and a step of inspecting the inspection liquid applied to the lyophilic areas.例文帳に追加

基材表面に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有するパターン形成体を準備する工程と、上記親液性領域に検査液を付着させる工程と、上記親液性領域に付着した検査液を検査する工程とを有するパターン形成体の検査方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor apparatus includes: a step (a) which forms a wiring groove in an insulating film on a semiconductor substrate; and a step (b) which deposits a barrier metal film consisting of a metal not losing conductivity even if oxidized or a metal oxide having conductivity on the whole surface of an insulating film containing the wiring groove after the step (a).例文帳に追加

半導体基板上の絶縁膜に配線溝を形成する工程（ａ）と、この工程（ａ）の後に、前記配線溝を含む絶縁膜上の全面に、酸化されても導電性を失わない金属、または導電性を有する金属酸化物からなるバリアメタル膜を堆積する工程（ｂ）とを有する。 - 特許庁

In the process for producing a film having a high surface hardness, including the steps of forming a layer containing a filler through a step of melting and kneading the filler and a resin and an extrusion step, the resin is used for the melting and kneading step after grinding.例文帳に追加

充填材と樹脂とを熔融混練する工程と、押出し成型の工程とを含む工程で充填材含有層を形成する工程を含む高表面硬度フイルムの製造方法において、該樹脂を粉砕してから前記熔融混練の工程にて使用することを特徴とする高表面硬度フイルムの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the oxide microstructural body includes: a step of arranging an anodized layer on a substrate; a step of arranging a solid electrolyte layer with a recessed pattern formed on a surface thereof on the anodized layer; and a step of oxidizing the anodized layer at a bottom part of the recessed pattern by an anodizing method.例文帳に追加

基板上に被陽極酸化層を配置する工程と、表面に凹状パターンを形成した固体電解質層を該被陽極酸化層上に配置する工程と、陽極酸化法により凹状パターン底部の該被陽極酸化層を酸化する工程を含む酸化物微細構造体の製造方法。 - 特許庁

The window 2 is provided along its full periphery with a groove or step difference 2a having a predetermined width, a metallized layer 2b having a thickness corresponding to or less than the depth of the groove or step difference 2a is formed in the step difference, and only a major surface of the window 2 is polished without polishing the metallized layer 2b.例文帳に追加

サファイア窓２は周縁部に所定幅で全周にわたる溝部または段差部２ａが形成されるとともに、溝部または段差部２ａにその深さ相当未満の厚さでメタライズ層２ｂが被着され、メタライズ層２ｂを研磨しないようにしてサファイア窓２の主面のみが研磨されている。 - 特許庁

The method includes a step of heating a glass substrate at 200-400°C prior to a step of polishing the surface of the glass substrate, wherein even when stress distortion inside the glass is released by annealing and then, polishing as a polishing step is carried out, and generation of cracks is prevented so as to reduce an occurrence rate of defective products.例文帳に追加

ガラス基板の表面を研磨する工程の前にガラス基板を２００℃以上４００℃以下の温度で加熱する工程を設け、ガラス内部の応力歪みをアニールにより開放し、その跡に研磨工程としてのポリッシングを行ってもクラックの発生がなく不良品の発生率を少なくする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a conductor pattern, a step of printing mask portions on a board by using a printing material containing a solvent-soluble resin as a main component, a step of laminating a conductive member upon the whole surface of the substrate, and a step of removing the printing material with a solvent, are successively performed in this order.例文帳に追加

支持体上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料でマスク部分を印刷する工程と、導電性部材を全面に積層する工程と、前記印刷材料を溶剤で除去する工程とをこの順に有することを特徴とする導電性パターン製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the solid-state imaging element comprises, at least a step of forming the hole 13 in a part directly above the sensor 2 of the transparent film 9, the step of forming the organic polymer 10 by embedding the polymer in the hole 13, and the step of planarizing surface by etching back the polymer 10.例文帳に追加

そして、透明膜９の受光センサ部２の直上の部分に孔部１３を形成する工程と、この孔部１３を埋めて有機ポリマー１０を形成する工程と、この有機ポリマー１０に対してエッチバックを行って表面を平坦化する工程とを少なくとも有して上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

The method for detecting the transition metal containing the foreign substance includes: the step of exposing the separator to which the transition metal containing the foreign substance is attached, to acid steam thereby forming a transition metal salt on the surface of the foreign substance; the step of immersing the separator in an organic solvent solution being a color reagent; and the step of drying the separator.例文帳に追加

遷移金属含有異物が付着されたセパレータを酸蒸気に曝露して異物表面に遷移金属の塩を生成させる工程と、 前記セパレータを呈色試薬の有機溶媒溶液に浸漬する工程と、 前記セパレータを乾燥させる工程とを含むことを特徴とする遷移金属含有異物の検出方法。 - 特許庁

In paving by using aggregate whose major component is silicon dioxide to bond it with a moisture-curable urethane resin for paving, before the step of kneading the aggregate and the resin, the aggregate is subjected to surface treatment comprising a step of mixing the aggregate with a silane coupling agent to effect heat treatment and a step of mixing the heat treated aggregate with a polyol and drying it.例文帳に追加

二酸化ケイ素を主成分とする骨材を用いて、これを舗装用湿気硬化性ポリウレタン樹脂により結合する舗装に際して、これらの混練工程前に、前記骨材をシラン系カップリング剤と混合し熱処理する工程と、ポリオールを混合し乾燥する工程とに付して前記骨材の表面処理を行う。 - 特許庁

This method for treating an existing layer of asbestos sprayed on the surface of the basic material of a building comprises a step for impregnating connecting sealer containing asbestos melting agent being a calcium compound into the layer of asbestos, a step for solidifying the connecting sealer, and a step for heating the layer of asbestos after that.例文帳に追加

建築物等の基材表面に吹き付けられた既設アスベスト層の処理工法であって、前記アスベスト層内にカルシウム化合物であるアスベスト融解剤を含有したコネクトシ−ラ−を含浸させ、次いで、前記コネクトシ−ラ−を固化し、その後、かかるアスベスト層を加熱することを特徴とするアスベストの無害処理工法。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises: a dopant introduction step of introducing a dopant into a silicon carbide epitaxial layer 14; a carbon film formation step of forming a carbon film 24 on a surface of the epitaxial layer 14; and an annealing step of annealing the epitaxial layer 14 with the carbon film 24 remaining.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、炭化珪素のエピタキシャル層１４にドーパントを導入するドーパント導入工程と、エピタキシャル層１４の表面にカーボン膜２４を形成するカーボン膜形成工程と、カーボン膜２４が残存した状態でエピタキシャル層１４をアニール処理するアニール処理工程とを備える。 - 特許庁

A step part consisting of a step portion swelled by a light shielding film (11a) and a scanning line (3a), and a hollow portion formed in a first interlayer insulating film (12'), is formed on the surface of a third interlayer insulating film of the TFT array substrate (10), and pixel electrodes (9a) adjacent to each other are formed on the respective step parts.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板（１０）の第３層間絶縁膜（７）の表面は遮光膜（１１ａ）と走査線（３ａ）で盛り上がった段差部分と、第１層間絶縁膜（１２’）に形成された窪み部でなる段差部が形成され、各段差部上に隣接する画素電極（９ａ）が形成されている。 - 特許庁

(1) The image forming method includes: a step of forming an image by jetting ink containing active energy-ray curable material and color material, on a surface of the recording medium by an inkjet recording method; a step of performing discharge treatment; and a step of curing the ink by irradiation with active energy rays, the steps being performed in this order.例文帳に追加

（１）記録媒体の表面に活性エネルギー線硬化性の材料及び色材を含有するインクをインクジェット記録方式により吐出して画像を形成する工程、放電処理を行う工程、活性エネルギー線を照射して硬化させる工程を有し、各工程をこの順に行う画像形成方法。 - 特許庁

The method for manufacturing carbon nanotubes using the focused ion beam comprises a step to prepare a substrate 10, a step where ions 12 in the focused ion beam cave into the surface of the substrate 10 and a step to grow carbon nanotubes 14 on the scanned substrate 10.例文帳に追加

基板１０を準備する工程と、集束イオンビームを利用して、集束イオンビームに含まれたイオン１２が基板１０の表面に陥没される工程と、スキャンされた基板１０上に炭素ナノチューブ１４を成長させる工程と、を含む集束イオンビームを利用した炭素ナノチューブの製造方法である。 - 特許庁

When front wheels 2 to be driven by an engine 1 are to climb over a step after it is decided that the front wheels 2 have reached the step, the torque of a motor 3 for driving the rotation of rear wheels 4 is increased so that a frictional force between the front wheels 2 and the road surface can be increased, and rear wheel torque is increased to climb over the step.例文帳に追加

エンジン１で駆動される前輪２が段差に到達したものと判別されて段差を乗り越えようとしている場合に、後輪４を回転駆動するモータ３のトルクを増加させることで、前輪２と路面との摩擦力を高めるとともに後輪トルクを増加させて段差を乗り越えるようにしている。 - 特許庁

A film formation method includes a titanium film formation step of forming the titanium film on an interlayer insulation film 520 and a silicon-containing surface 512 on a bottom of a contact hole 530, a nitriding step of nitriding the entire titanium film to form the single titanium nitride film 550, and a tungsten film formation step of forming the tungsten film 560 on the titanium nitride film.例文帳に追加

層間絶縁膜５２０上およびコンタクトホール５３０底部のシリコン含有表面５１２上にチタン膜を形成するチタン膜形成工程と，このチタン膜をすべて窒化し，単一の窒化チタン膜５５０を形成する窒化工程と，窒化チタン膜上にタングステン膜５６０を形成するタングステン膜形成工程とを有する。 - 特許庁

The optoelectronics semiconductor chip is manufactured by a step for preparing sol 4a containing a doped nanocrystal and wavelength conversion material particles 4b, a step for applying at least a part of the surface of base bodies 2d and 11 with a sol layer 4, and a step for thermally treating the sol layer 4 for transition from sol to gel.例文帳に追加

上述のオプトエレクトロニクス半導体チップは、ドーピングされたナノ結晶と波長変換材料粒子４ｂを含むゾル４ａを準備するステップと、基体２ｄ，１１の表面の少なくとも一部分にゾル層４を施与するステップと、このゾル層４を熱処理してゾルからゲルに転移させるステップにより製造される。 - 特許庁

The method comprises a step of scanning a beam of electromagnetic energy across the surface of one or more process chamber components to make a plurality of features formed thereon, a step of positioning the one or more chamber components into a process chamber, and a step of initiating a process sequence within the process chamber.例文帳に追加

この方法は、１またはそれ以上のプロセスチャンバ構成部品の表面を横切って電磁エネルギのビームを走査させて該表面上に複数のフィーチャを形成させるステップと、１またはそれ以上のチャンバ構成部品をプロセスチャンバ内に位置決めするステップと、プロセスチャンバ内においてプロセスシーケンスを開始するステップとを含む。 - 特許庁

Consequently, no step is formed from the surface of the resin insulating layer 130 to the end surface 141, and solder 11 formed by fusing a solder ball 10 mounted on the end surface 141 of the external terminal electrode 140 do not have a bent portion as a starting point of cracking.例文帳に追加

これにより、縁樹脂層１３０の表面から端面１４１にかけて段差が形成されず、外部端子電極１４０の端面１４１上に載置したはんだボール１０を溶融させたはんだ１１には、クラックの基点となるような屈曲部は形成されない。 - 特許庁

To configure a mount frame, having an adhesive tape joined over a surface of a wafer where a circuit pattern is formed and a ring frame, such that the adhesive tape is rejoined to a wafer back surface side and an adhesive tape on the front surface side is peeled before conveyance to a dicing step.例文帳に追加

ウエハの回路パターンの形成された表面とリングフレームとにわたって粘着テープを貼付けて成るマウントフレームにおいて、ウエハ裏面側に粘着テープを貼り直すとともに、表面側の粘着テープを剥離してダイシング工程に搬送可能な状態にする。 - 特許庁

In the magnetic head slider 31, having two or more steps 5, 6 in the depth direction from a magnetic floating surface 7, and the depth of the step closer to the floating surface 7 set to 300 nm or lower, protective film 11 is provided in the floating surface 7 and all the steps 5, 6.例文帳に追加

磁気ヘッド浮上面７から深さ方向に２段以上の段差５、６を有し、浮上面７に近い段差部の深さが３００ｎｍ以下である磁気ヘッドスライダ３１において、磁気ヘッド浮上面７及びすべての段差部５、６に保護膜１１を有する。 - 特許庁