「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

The disk blank 31 is brought into contact with the spacer 32 on the whole surface thereof, and the spacer 32 at the lowermost step has a portion in no contact with the spacer supporting member 33.例文帳に追加

ディスクブランク３１はその全面でスペーサ３２に接触し、最下段のスペーサ３２はスペーサ支持部材３３と接触しない部分を有する。 - 特許庁

To provide a mounting adapter 22 easily mounting a chandelier-shaped luminaire 23 to a heavy load type hooking ceiling body 12 of which the outer periphery surface is provided with a projected step part 13.例文帳に追加

外周面に段部13が突設された高荷重形引掛シーリングボディ12にシャンデリア形の照明器具23を簡単に取り付ける取付アダプタ22を提供する。 - 特許庁

Subsequently, in a first electroless plating step, a gate electrode 6 is formed on the SAM 10 while a barrier film 14 is collectively formed on the lower surface of the SAM 11.例文帳に追加

次に、第一無電解めっき工程で、ゲート電極６をＳＡＭ１０上に形成し、バリア膜１４をＳＡＭ１１の下面に一括形成する。 - 特許庁

(C) A second heating step 3b in which the molding precursor is heated, and each of the surface temperature and center temperature is raised to the molding temperature region.例文帳に追加

（Ｃ）成形品前駆体を加熱して、その表面温度および中心温度のそれぞれを、成形温度域まで昇温する第二の加熱工程３ｂ。 - 特許庁

In the green tire forming step, a green tire is formed by laminating the belt and tread assembly 19 on the outer peripheral surface of the previously formed band assembly.例文帳に追加

生タイヤ形成工程工程では、予め形成したおいたバンド組立体の外周面にベルト・トレッド組立体１９を貼り付けて生ケースを形成する。 - 特許庁

To provide a method of uniformly fixing a substrate to a pasting base while preventing an abrasive from flowing to the rear surface in a semiconductor substrate rough polishing step.例文帳に追加

半導体基板の粗研磨工程において、裏面への研磨剤の流れ込みを防ぎ、かつより均一に基板を貼付台へ固定する方法を提供する。 - 特許庁

This lighter is composed by forming a step 1a/1b on the outer surfaces 1a or 1b of a case 1 or a fuel tank and by forming a coating film 1c on the higher surface 1a.例文帳に追加

ケース１又は燃料槽の外表面１ａ，１ｂに段差１ａ／１ｂをつけて高い方の表面１ａに塗装膜１ｃを形成したライター。 - 特許庁

The footboard 22 has an end face in the stair width direction W_0, and has a nosing side 25 and a riser side 25a on both sides in the direction of a step surface size.例文帳に追加

踏板２２は階段幅Ｗ_０方向の端面を有し、踏みづら寸法方向の両側を夫々段鼻側２５、蹴込み側２５ａとする。 - 特許庁

The step for doping the fin is carried out by depositing a blocking mask material at least on the top surface of the fin after patterning the gate stack.例文帳に追加

フィンのドーピング工程は、ゲートスタックのパターニング工程後に、少なくともフィンの上面にブロッキングマスク材料を堆積する工程により行われる。 - 特許庁

To provide a technique capable of reducing losses of a diode without forming a step on a surface of a semiconductor layer between a transistor and the diode.例文帳に追加

トランジスタとダイオードの間の半導体層の表面に段差を形成することなく、ダイオードの損失を低減することができる技術を提供する。 - 特許庁

Since the step is separated from the substrate surface even when an energy required for an excess on a barrier is obtained during a time when the electrons obliquely flow, no electron is injected.例文帳に追加

斜めに流れている間にバリアを越えるのに必要なエネルギーを得ても、基板表面から離れているため、電子の注入は起こらない。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave element having a superior piezoelectric layer without the step of polishing of diamond layer, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

ダイヤモンド層の研磨工程がなく、また良好な圧電体層を有する表面弾性波素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain sufficient shape controllability at a gate electrode forming time without possibility of contaminating a recess surface before or after the step of forming a gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極の形成工程の前後でリセス表面が汚染される恐れがなく、ゲート電極の形成時に十分な形状制御性が得られるようにする。 - 特許庁

The production method comprises the step of reacting a polymer substrate having ionized ionic functional groups with ions present on the surface of calcium phosphate sintered compact.例文帳に追加

イオン化しているイオン性官能基を有する高分子基材と、リン酸カルシウム焼結体の表面に存在するイオンとを反応させる反応工程を行う。 - 特許庁

A method for manufacturing an epitaxial layer includes a step for loading a substrate, having a semiconductor surface exposed into a reaction chamber.例文帳に追加

一実施例によるエピタキシャル層の製造方法は反応チャンバ内に露出した半導体表面を有する基板をローディングさせるステップを具備する。 - 特許庁

Thus, the external terminals can be formed on the upper surface and the side face of the post even without performing a step of removing the sealing layer with the laser.例文帳に追加

これにより、レーザーで封止層を除去する工程を行なわずとも、外部端子をポストの上面と側面とに形成することが可能となる。 - 特許庁

In the first step, a first carbon nanofiber produced by a vapor growth method is oxidized to produce a second carbon nanofiber 40 having an oxidized surface.例文帳に追加

第１の工程は、気相成長法によって製造された第１のカーボンナノファイバーを酸化処理して表面が酸化された第２のカーボンナノファイバー４０を得る。 - 特許庁

To prevent a lead electrode from being broken owing to a reverse taper formed on an end surface of a mesa stage part in a manufacturing step of a mesa type piezoelectric vibrating element.例文帳に追加

メサ型圧電振動素子の製造工程において、メサ段部の端面に発生する逆テーパによりリード電極が断線することを防止する。 - 特許庁

The projecting linear defects K which occur on the main surface of the substrate W are vapor- phase etched by using a hydrogen chloride gas (step S3).例文帳に追加

シリコン単結晶基板の主表面に形成されている凸形状の線状形状欠陥Ｋを塩化水素ガスにより気相エッチングする（ステップＳ３）。 - 特許庁

A method of forming a device includes a step of providing a printed circuit board substrate 120 having a die attaching region on a first surface of thereof.例文帳に追加

デバイスを形成する方法は、その第１表面上にダイ取付け領域を有するプリント回路基板基材１２０を提供するステップを含む。 - 特許庁

Thus, the upper stage side thermal insulation panel 10 is not pushed forward, and the surface step height is not differentiated between the mutual upper-lower thermal insulation panels 10.例文帳に追加

このため、上段側の断熱パネル１０が前方に押されることがなく、上下の断熱パネル１０同士で面段差が発生しないようになる。 - 特許庁

In the pre-amorphous implanting step, impact is applied to a silicon surface of the substrate 200 using BF2+ ions, and an amorphous layer 22 is formed thereon.例文帳に追加

プレアモルファス打ち込みプロセスは、ＢＦ__２^＋イオンを用いて基板２００のシリコン表面に衝撃を与え、その上にアモルファス層２２２が形成されるようにする。 - 特許庁

Further, in the cleaning of the molten metal before the inspection step (S11) and after the molten metal preparing steps (S2 and S5), the surface of the molten metal is shielded with oxidation preventing gas.例文帳に追加

さらに、上記検査ステップ（Ｓ１１）前で上記溶湯調製ステップ（Ｓ２，Ｓ５）後の溶湯清浄化に際して、溶湯表面を酸化防止ガスによりシールドする。 - 特許庁

A downward projecting finger hooking projected portion 25 is formed in the vicinity of a tip 20F in a finger contact surface 21D of a finger hooking step 21.例文帳に追加

指掛け用段差部２１の指接触面２１Ｄうち、先端２０Ｆ近傍には、下方に突出する指掛り用凸部２５が形成されている。 - 特許庁

Before the step of rolling the multicore wire, surface roughness Ra is set 0.5 μm or lower in a range of a measuring length of 1 mm.例文帳に追加

多芯線を圧延する工程前において、多芯線の表面粗さＲａは測定長１ｍｍの範囲で０．５μｍ以下となるようにされる。 - 特許庁

A method of manufacturing a solid electrolytic capacitor includes a step of forming the capacitor element 1 by winding an anode foil 2 and a cathode foil 3 having an oxide coating formed on the surface via a separator 4.例文帳に追加

表面に酸化皮膜が形成されている陽極箔２と陰極箔３とをセパレータ４を介して巻回してコンデンサ素子１を形成する。 - 特許庁

The surface position information of the wafer measured by the sensor does not include data at a place having a large step where the alignment control in the exposure cannot be made.例文帳に追加

このセンサで計測したウェハの面位置情報には、露光時の位置合わせ制御が不能になるような段差の大きい個所のデータは含まれなくなる。 - 特許庁

The temperature rise of the parts 1 is prevented by forming a heat-insulating layer 5 on at least the first surface 6 of the parts 1 facing a heating source used in a reflow step.例文帳に追加

リフロー工程における加熱熱源に対向する部品１の少なくとも第１の面６に断熱層５を形成し、部品１の温度上昇を防ぐ。 - 特許庁

At the step parts of the stepped protrusions 10c, 10c,..., the metal plate 12 is secured while spaced apart from the carrier 10 through an air layer 20 along the surface.例文帳に追加

段付き突起１０ｃ，１０ｃ…の段部で、キャリア１０から離して表面に沿って空気層２０を介在させて金属板１２を配設固定する。 - 特許庁

A method of forming a rough surface on an object to be worked includes a step of forming a mask forming coat 10 made of Ag on a principal plane 8 of a semiconductor wafer 1 for forming the semiconductor light-emitting element.例文帳に追加

半導体発光素子を形成するための半導体ウエーハ（１）の主面（８）上にAgから成るマスク形成用被膜（１０）を形成する。 - 特許庁

A web washer 82 fitted to the small diameter part 124 abuts on the inside step difference part 128 of a sleeve portion 126 hanging from the peripheral surface of the bush 74.例文帳に追加

この小径部１２４に嵌合されたウェブワッシャ８２は、ブッシュ７４の外周面から垂下した袖部１２６の内部の段差部１２８に当接する。 - 特許庁

Die blocks 31-39, locking mechanisms 51-59 and guide mechanisms 61-68, and punches 81-89 are arranged on and fixed to a base surface 1a of a fixed base 1, and a movable base 2 in a step-like pattern, respectively.例文帳に追加

固定基盤1の盤面1aにはダイスブロック31〜39と係止機構51〜59と案内機構61〜68を、可動基盤2にはポンチ81〜89をそれぞれ階段状に配置固定する。 - 特許庁

To manufacture a shell type outer ring provided with a step part having a thrust surface by deep drawing a steel sheet and to reduce the number of parts.例文帳に追加

このシェル形針状ころ軸受は，薄板鋼板の深絞り加工でスラスト面を持つ段部を備えたシェル形外輪を作製し，部品点数を低減する。 - 特許庁

As a connection step part 522 of a bolt 5 is screwed to a thread part 44 of the fixture 4, a shoulder 53 of the bolt 5 is pushed to a circular shoulder surface 35 of a sleeve 3.例文帳に追加

ボルト５の連結段部５２２がフィクスチャー４のねじ部４４にねじ込まれると、ボルト５の肩５３はスリーブ３の環状肩面３５に押し付けられる。 - 特許庁

After a specified portion of a substrate 2 is etched to a required depth, a surface corresponding to a side wall of a step-like element generated by the etching is etched.例文帳に追加

基板の或る領域を必要な深さだけエッチングした後に、エッチングにより生じた階段状要素の側壁に相当する面をエッチングをする。 - 特許庁

To provide a method of etching semiconductor device by which the side wall of the step of a semiconductor device constituted of the principal surface and side wall of the device is etched.例文帳に追加

主表面と側壁とから構成される段差を有する半導体装置の段差の側壁をエッチングする方法提供することを課題とする。 - 特許庁

In the printing step, an ink is arranged on the water-rinsed surface 32 of the light-transmissive resin plate 35 to thereby print a pattern 37 consisting of dots.例文帳に追加

印刷工程は、水洗処理された透光性樹脂板３５の表面３２上にインクを滴下することによって、ドットパターン３７を印刷する。 - 特許庁

The thermal diffusion equation solution part 35 calculates the temperature distribution of the wafer by calculating transitional thermal diffusion of the wafer surface in a lamp heating step based on the model.例文帳に追加

熱拡散方程式解法部３５は、モデルに基づき、ランプ加熱工程でのウエハ表面の過渡熱拡散を計算しウエハの温度分布を算出する。 - 特許庁

The circulation/rinsing step is performed in the state that the water injected from the injection part S is blown to an inner surface TI of a side wall of the tank T.例文帳に追加

循環すすぎ工程は、噴射部Ｓから噴射された水がタンクＴの側壁の内部面ＴＩに吹き付けられる状態で実施される。 - 特許庁

The step part 4 for connecting a portion of the one height H1 of the floor bottom surface 1e and the lower end part 1c of the opening part 1b is covered with a closable lid member 6.例文帳に追加

フロア底面１ｅの一方の高さＨ１の部位と開口部１ｂの下端部１ｃとを結ぶ段部４は、閉塞可能な蓋部材６で覆われる。 - 特許庁

A thin part 20 is formed without generating a step height on an inner surface by reducing an outer diameter of the opening end part of a cylinder 1 of a single cylinder type gas containing hydraulic shock absorber.例文帳に追加

単筒式ガス入り油圧緩衝器のシリンダ１の開口端部の外径を縮径して、内面に段差を生じさせないで薄肉部２０を形成する。 - 特許庁

More particularly, the method includes a working step for making the thickness distribution of the metallic layer uniform as far as possible after the formation of the thermally sprayed metallic layer on the outside surface.例文帳に追加

特に、外面に対して溶射金属層を形成後、当該金属層の厚さ分布を均一に近づけるための加工ステップを具備することが望ましい。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor memory device comprises a step of forming a silicon oxide film 4a for isolating a cell region from a peripheral region in a P-well 3 on a surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１表面のＰウェル３の内部にセル領域と周辺領域とを分離するシリコン酸化膜４ａを形成する。 - 特許庁

A fitting part 1c in a polygonal shape in plan view is provided on a top surface position of the grinding member 1 corresponding to a root of the male screw 1b in a protruded step shape.例文帳に追加

この雄ネジ１ｂの付け根にあたる研削部材１の上面位置に、平面から見て多角形状の嵌合部１ｃを、凸段差状に形成する。 - 特許庁

A process for preparing a flexible device having a superoleophobic surface is used, comprising: a step of providing a flexible substrate; a step of disposing a silicon layer 10 on the flexible substrate 12; a step of using photolithography to create a textured pattern in the silicon layer 10 on the substrate wherein the textured pattern comprises a groove structure 16; and a step of chemically modifying the textured surface by disposing an insulation protective oleophobic coating thereon.例文帳に追加

可撓性基板を設けるステップと、可撓性基板１２上にシリコン層１０を施すステップと、写真平板法を用いて基板上のシリコン層１０にテクスチャー加工されたパターンを作成するステップと、この際テクスチャー加工されたパターンは溝構造１６を含むステップと、テクスチャー加工された表面を、その上に絶縁保護的な疎油性被膜を施すことにより化学的に修飾するステップと、を含む超疎油性表面を有する可撓性デバイスを作製するための方法を用いる。 - 特許庁