「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

The step parts 7 may be supported by the folded pieces 6 by disposing the case 3 on the undersurface of a lighting circuit board 8 mounted on the under surface of the body 1.例文帳に追加

また、本体１の下面に設けた点灯回路基板８の下面に受信部ケース３を配置して、前記折り曲げ片６で前記段部７を支持してもよい。 - 特許庁

A first elastic member 70 is placed between the second housing 30 and the first electrode 40, and biases the first electrode 40 against a first step surface 23 of the first housing 10.例文帳に追加

第１弾性部材７０は、第２ハウジング３０と第１電極４０との間に挟まれ、第１ハウジング１０の第１段差面２３に第１電極４０を付勢する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a semiconductor wafer which cleans the wafer without unevenness of a dicing dirt, in association with the step of injecting pure water to the entire surface of the wafer under equivalent pressure.例文帳に追加

ウェハ表面全体が同等な圧力で純水噴射される工程を伴ない、ダイシング汚れをむら無く洗浄する半導体ウェハの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The method for treating the surface treatment aqueous solution, which is used for treating the surface of the aluminum alloy plate containing manganese and/or magnesium and is the acidic aqueous solution or/and the alkaline aqueous solution, comprises a neutralization step of neutralizing the surface treatment aqueous solution and a removal step of removing at least a part of hydroxides of manganese and/or magnesium from neutralization products to be produced at the neutralization step.例文帳に追加

マンガンおよび／またはマグネシウムを含有するアルミニウム合金板の表面処理に用いる表面処理水溶液の処理方法であって、 前記表面処理水溶液が、酸性水溶液および／またはアルカリ性水溶液であり、 前記表面処理水溶液を中和処理する中和処理工程と、 前記中和処理によって生成する中和生成物のうち、マンガンの水酸化物および／またはマグネシウムの水酸化物の少なくとも一部を除去する除去工程と、を具備する表面処理水溶液の処理方法。 - 特許庁

In a wafer treatment step, a surface structure including a p breakdown-voltage region 10 is formed on the surface of a semiconductor wafer 1 while a rear-face structure including a p collector region 7 is formed on the rear face of the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

ウェハ処理工程において、半導体ウェハ１のおもて面にｐ耐圧領域１０を含む表面構造を形成するとともに、半導体ウェハ１の裏面にｐコレクタ領域７を含む裏面構造を形成する。 - 特許庁

The production method can avoid energy necessary for the plastic deformation of a powder from being used for activating the surface of the substrate, when forming the film on the surface of the substrate by plastic-deforming the powder in the film-forming step.例文帳に追加

この製造方法では、皮膜形成工程で粉末が基材の表面で塑性変形して皮膜を形成する際に、粉末の塑性変形に要するエネルギが基材の表面の活性化に費やされることが避けられる。 - 特許庁

The piece part has a step operation unit 12a to hold a stem 13a in a pressed condition in a degassing mode, and the stem operation unit has a recessed surface 12b and a gas guide surface 12c to guide the stem 13a to be moved downwardly.例文帳に追加

当該片部は、ガス抜きモードでステム１３ａを押圧状態に保持するステム作動部１２ａを備え、当該ステム作動部はステム１３ａを下動するように案内する凹状面１２ｂやガス誘導面１２ｃを備えている。 - 特許庁

A retainer ring 10 is fitted around a shaft 2, and a retainer ring 10 is also positioned by making an abutting surface 10b of the retainer ring 10 abut on a step height surface 2a of a boundary between a large diameter part 2b and a small diameter part 2c of the shaft 2.例文帳に追加

軸２にリテーナリング１０が外嵌され、さらに軸２の大径部２ｂと小径部２ｃとの境界の段差面２ａにリテーナリング１０の突き当て面１０ｂを突き当てることによってリテーナリング１０の位置決めがなされる。 - 特許庁

A second stopper 19 made of elastomer, synthetic resin, or the like is provided on a lower surface outer peripheral part of the vibrating plate 154 so as to be opposed to an inner peripheral step surface of an annular case member 112 of a case 11.例文帳に追加

また、前記振動板１５４の下面外周部には、エラストマあるいは合成樹脂等からなる第二のストッパ１９が、ケース１１の環状ケース部材１１２の内周段差面１１２ａと対向して設けられている。 - 特許庁

A wafer W with an Ru film formed on its surface, for example, is heated to preferentially orient a (001) face or (002) face with orientation of small lattice mismatching with Cu on a surface of the Ru film (step 3).例文帳に追加

例えば、表面にＲｕ膜が形成されたウエハＷを加熱処理して、Ｒｕ膜の表面に、Ｃｕとの格子不整合が小さい配向性を有する（００１）面または（００２）面を優先配向させる（ＳＴＥＰ３）。 - 特許庁

To improve the within-wafer uniformity of the density of active species and ions supplied to the surface of a substrate and increase the amount of the active species and ions supplied to the surface of the substrate, when carrying out a substrate processing step by an ALD method.例文帳に追加

ＡＬＤ法による基板処理工程を実施する際に、基板表面に供給される活性種やイオンの密度の面内均一性を向上させ、基板表面に供給される活性種やイオンの量を増加させる。 - 特許庁

The method for producing the oily slurry of the inorganic filler includes the steps of: (a) surface-treating aqueous slurry of the inorganic filler with unsaturated fatty acid soap; and (b) dispersing the aqueous slurry of the inorganic filler, surface-treated in the step (a), in oil.例文帳に追加

(a) 無機フィラーの水性スラリーを不飽和脂肪酸石鹸で表面処理する工程、(b) 工程(a)で表面処理した無機フィラーの水性スラリーを油に分散させる工程、を含む、無機フィラーの油性スラリーの製造方法。 - 特許庁

The relief coating method comprises a step of forming uneven patterns 5 on the surface of a metal plate 1 by etching and forming a coating 6 by applying a coating material to the surface of the metal plate 1 having the uneven patterns 5.例文帳に追加

レリーフ塗装方法は、金属板１の表面にエッチングにより凹凸模様５を形成する工程と、この凹凸模様５を有する金属板１の表面に塗料を塗布して塗膜６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

In the first step, the pulse laser light is radiated to the substrate and scanning is made along the scheduled division line, such that a reform layer that follows the scheduled division line is formed in the interior away from the front surface and the rear surface of the substrate.例文帳に追加

第１工程は、パルスレーザ光を基板に照射するとともに、分断予定ラインに沿って走査し、基板の表面及び裏面から離れた内部に、分断予定ラインに沿った改質層を形成する工程である。 - 特許庁

When thick line regions and thin line regions exist at inspection of a resist pattern 3a formed on the surface of a wafer for size distribution (step ST14), the scanning waveform of an ion implantation unit on the surface of the wafer is controlled according to information on the size distribution.例文帳に追加

ウエハ面内のレジストパターン３ａの寸法分布の検査の際に（ステップＳＴ１４）、太い領域と細い領域とがあった場合に、その寸法分布情報に応じて、イオン注入機のウエハ面内スキャン波形を制御する。 - 特許庁

To provide a film excellent in a coating step suitability which has less oligomer deposited on the surface of the coating layer when the coating layer is provided on the film surface, and does not cause a deterioration in transparency even when being treated under a high temperature.例文帳に追加

フィルム表面に塗布層を設けたときに、その塗布層表面に析出するオリゴマーが少なく、高温下で処理した場合でも透明性の低下を起こすことのない、塗布工程適性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

Then a groove portion 29b for guiding toner to the side of a developing area is provided on an inner peripheral surface 29a of the magnetic body seal member 29 and a step portion 30 is provided at an external end 29c of the inner peripheral surface 29a.例文帳に追加

そして、磁性体シール部材２９の内周面２９ａに、トナーを現像領域側へ導くための溝部２９ｂが設けられるとともに、内周面２９ａの外側端部２９ｃに段差部３０が設けられている。 - 特許庁

In a control circuit controlling the rotation of a lower surface plate, an upper surface plate, a sun gear, and an internal gear, a circuit is integrated for setting the number of revolutions at an established number of revolutions by manually operating a speed adjusting volume in a specific processing step.例文帳に追加

下定盤、上定盤、太陽ギア及びインターナルギアの回転を制御する制御回路に、特定の加工ステップにおいて速度調整ボリュームを手動で操作して回転数を設定回転数に設定する回路を組み込む。 - 特許庁

Consequently, when a gate insulating film is formed, enhanced oxidation is uniformly caused on the surfaces of the well region 3 and of source region 4, so that no step is formed between the surface of the well region 3 and the surface of the source region 4.例文帳に追加

このようにすれば、ゲート絶縁膜を形成するときに、ウェル領域３とソース領域４の表面で増速酸化が均一に起こり、もってウェル領域３表面とソース領域４表面の間に段差が生じることが無い。 - 特許庁

To easily provide a carbon nanotube (CNT) film structure equipped with a CNT layer constituted of a CNT assembly which has a flat surface free from a step and is composed of a plurality of CNT oriented (having anisotropy) in parallel to the surface of a substrate.例文帳に追加

段差がない平坦な表面で、基板の表面と平行に配向した（異方性を有する）複数のＣＮＴからなるＣＮＴ集合体で構成されるＣＮＴ層を備えたＣＮＴ膜構造体を容易に提供する。 - 特許庁

The columnar flank 45a is positioned inside the flank 50a of the cartridge 50 which is pushed out in the right-left direction and the upper-lower intermediate part of the slanting step surface 45b is positioned and arranged on the reverse surface 50f of the cartridge 50.例文帳に追加

押し出されるカートリッジ５０の側面５０ａに対して周側面４５ａを左右方向（カ−ヨ）の内側に位置させ、カートリッジ５０の下面５０ｆに対して傾斜段面４５ｂの上下中間部を位置させて配設した。 - 特許庁

When a silicon nitride film is to be used as an offset spacer for forming an extension region of the transistor, an oxide protective surface is formed by oxygen plasma treatment on a surface of the silicon nitride film prior to a step of removing a resist film.例文帳に追加

トランジスタのエクステンション領域を形成するためのオフセットスペーサとしてシリコン窒化膜を用いる場合に、レジスト膜を除去する工程の前に、シリコン窒化膜表面に酸素プラズマ処理により酸化保護表面を形成しておく。 - 特許庁

The first and second transparent substrates 11 and 12 are respectively formed with Fresnel lens structures 21 and 22 having a Fresnel lens surface in the shape of connecting the respective lens surfaces (a divided lens surface) divided in a concentric circle shape via a step height.例文帳に追加

第１および第２の透明基板１１、１２は、同心円状に分割された各レンズ面（分割レンズ面）が段差を介して接続された形状のフレネルレンズ面を有するフレネルレンズ構造２１、２２が、それぞれ形成されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the transport roller includes a bending step of making a pair of end faces (61a, 61b) of a metal plate (60) that rewinds a coil face each other and forming the metal plate into a cylindrical shape so that a surface (C1) of the outer peripheral side of the coil becomes the inner circumferential surface.例文帳に追加

コイルを巻き戻した金属板（６０）の一対の端面（６１ａ，６１ｂ）を対向させ、コイルの外周側の面（Ｃ１）が内周面となる円筒状に形成する曲げ工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

On the step 9, a corner part A of a first horizontal surface part arranged near a corner part of the mount base 6 is formed in a substantially triangular shape, and a second vertical surface part is arranged at a position which crosses a diagonal line of an outer shape of the tray 2.例文帳に追加

段差９は、載置台６の角部付近に配置される第一水平面部の角部Ａが略三角形状に形成されるとともに、第二垂直面部がトレイ２外形の対角線と交差する位置に配置される。 - 特許庁

A printer performs first wiping operation (step 4) in which the tip of the main wiper is brought into contact with the surface of a conveying belt, and then the main wiper and the face of the conveying belt are relatively moved in a conveying direction to wipe the surface of the conveying belt.例文帳に追加

プリンタは、搬送ベルトの表面にメインワイパの先端を接触させ、メインワイパと表面とを相対的に搬送方向に移動させて当該表面上の異物を払拭する第１ワイピング動作（ステップ４）を行う。 - 特許庁

The stepping health appliance with a handrail includes an integrated strong structure of a step floor surface A, a base floor surface B, a handrail C for stepping exercise, and a handrail D for a squat exercise and a training of standing on one leg.例文帳に追加

踏み台床面Ａ、ベース床面Ｂ、踏み台昇降運動用手すりＣ、スクワット運動用兼片足立ち訓練用手手すりＤを一体化させた強固な構造で手すり付き踏み台昇降健康器具を構成している。 - 特許庁

Thereafter molding is performed by shifting the timing for securing surface quality by pressurizing the second injection gate 2 to a point for securing surface quality while keeping the first injection gate 1 at a low pressure to prevent back flow in a pressure keeping step.例文帳に追加

その後、保圧工程では第１射出ゲート１は逆流を防ぐ程度の低い圧力で保圧し、第２射出ゲート２は品質を確保できる圧力まで昇圧させ、面品質を確保するタイミングをずらし成形する。 - 特許庁

In a process of a step S2, overcurrent is generated on the metal material pinched by the above sealing films with the use of high-frequency induction heating to heat its surface, and the sealing films are adhered on the surface of the metal material.例文帳に追加

ステップＳ２の工程において、高周波誘導加熱を用いて、上記シールフィルムにより挟持された上記金属材に対し渦電流を生じさせその表面を加熱して、上記シールフィルムを金属材の表面に接着させる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the Schottky barrier diode, a step (S10) of forming a first mask layer which covers part of a surface of the substrate and whose side shows a forward tapered shape with respect to the surface of the substrate on the GaN substrate is performed.例文帳に追加

ショットキーバリアダイオードの製造方法では、ＧａＮ基板上に、当該基板の表面の一部を覆うと共に側面が基板の表面に対して順テーパ状になっている第１のマスク層を形成する工程（Ｓ１０）を実施する。 - 特許庁

In the second step, the casing 10 is laser-welded to the lower main bearing 60 by radiating a laser beam to at least a part of the opposed surface portion of the part to be welded and the outer peripheral part 61 along the inner surface of the body casing part 11.例文帳に追加

第２工程では、被溶接部と外周部６１との対面部分の少なくとも一部に、胴体ケーシング部１１の内面に沿うようにレーザー光を照射して、ケーシング１０と下部主軸受６０とをレーザー溶接する。 - 特許庁

In the film-depositing step, an epitaxial film is grown on the surface of the GaN substrate 10, by supplying a reaction gas containing ammonium, to a region opposing the surface of the GaN substrate 10 disposed on the susceptor 4.例文帳に追加

成膜工程では、サセプタ４上に配置されたＧａＮ基板１０の表面と対向する領域にアンモニアを含む反応ガスを供給することにより、ＧａＮ基板１０の表面上にエピタキシャル膜を成長させる。 - 特許庁

A surface to be placed with the microplate has such a step difference that the position of a circumference part is lower than that of a center part, and a swing rotor is rotated at a high speed in a state that the reverse bottom surface of a sample injecting hole part of the microplate is held by the center part.例文帳に追加

マイクロプレートが載置される面を中央部より周辺部が低い段差のある面とし、マイクロプレートの試料注入穴部の裏底面が上記中央部により保持された状態でスイングロータを高速回転する。 - 特許庁

A bolt 20 is threadedly engaged with a screw hole 17 formed on a tip surface of this rotary shaft 5, and a step part 18 arranged on an inner peripheral surface of the sleeve la is pressed down by a collar part 22 arranged in a head part 21 of this bolt 20.例文帳に追加

又、この回転軸５の先端面に形成したねじ孔１７にボルト２０を螺合させ、このボルト２０の頭部２１に設けた鍔部２２により、上記スリーブ１ａの内周面に設けた段部１８を抑え付ける。 - 特許庁

To provide an electroless plating method which can form a protective film with a uniform thickness on the surface of wires by completely removing an anticorrosive agent and/or a metal complex from the surface of a substrate, prior to catalyst-imparting treatment and/or an electroless plating step.例文帳に追加

触媒付与処理及び／または無電解めっきに先立って、基板の表面から防食剤及び／または金属錯体を完全に除去して、配線表面に均一な膜厚の保護膜を成膜できるようにする。 - 特許庁

The semiconductor device is manufactured as follows: in a sealing step of sealing a joint part between the cap 2 and the cap 5, a sealant 9 composed of a resin is formed such that the entirety of an upper surface 5a of the cap 5 and the entirety of a lower surface 2b of the cap 2 are respectively exposed.例文帳に追加

キャップ２とキャップ５の接合部を封止する封止工程において、キャップ５の上面５ａ全体と、キャップ２の下面２ｂ全体がそれぞれ露出するように樹脂から成る封止体９を形成する。 - 特許庁

Consequently, recessed and projecting sections are also produced on a conductive film 11 formed on the second interlayer insulating film 84 by the step formed on the surface of the insulating film 84, and the surface area of the conductive film 11 becomes larger due to the recessed and projecting sections.例文帳に追加

その結果、第２層間絶縁膜８４表面の段差により、第２層間絶縁膜８４上に形成された導電膜１１にも凹凸が生じ、その凹凸によって導電膜１１の表面積が大きくなる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes a step of adhering a plurality of the semiconductor elements 2 divided into individual chip shapes with an adhering resin 5 so that the front surface of the substrate 1 where an element structure 21 as the semiconductor element 2 is made may meet to the front surface of the substrate 1.例文帳に追加

個々のチップ状に分割された半導体素子２を、複数個、その半導体素子２としての素子構造２１が作り込まれた表面が基板１の表面に対して対面するように貼合樹脂５で貼着する。 - 特許庁

The data at a plurality of angular positions are acquired in a manner similar to the first step, and the shape data of the reference surface and the shape data of the surface to be inspected are separated from first rotational average shape data and second rotational average shape data.例文帳に追加

第一工程と同様に複数の角度位置でのデータを取得し、第１回転平均形状データ及び第２回転平均形状データから参照面の形状データと被検面の形状データとを分離する。 - 特許庁

The auxiliary member 5 is approximately as high as the surface of the engine hood 1, a clip 6 is provided on an upper surface on its short side 5b, and a long side 5a is provided parallel to a step 4 to cover an opening part on the seat installation type recessed part 2 side.例文帳に追加

補助部材５は、エンジンフード１の表面とほぼ同一の高さを有し、その短辺側５ｂ上面にクリップ６を設け、長辺側５ａは座席設置用凹部２側の開口部を覆うよう段差４に平行に設けた。 - 特許庁

A step 47 is provided on an inner surface of a bottom part 20 of a needle support member 17 facing to a bottom surface of a needle valve.例文帳に追加

ニードル弁の底面と対向するニードル支持部材１７の底部２０の内部表面に段４７を設け、噴孔１４を、段４７を跨いで内部表面に開口させ、内周側開口縁５１を外周側開口縁５２よりも上方に設ける。 - 特許庁

In a displacement step, the terminal electrode 30 is displaced from an outer circumferential surface 21 side to an inner periphery surface 22 side of the ring core 20 so that the one-end-side facing part 35 passes through the part of the stepped notch 25 specified by the deep bottom part.例文帳に追加

移動工程では、一端側対向部３５が深底部により規定される階段状切欠き２５の部分を通過するようにリングコア２０の外周面２１側から内周面２２側へ端子電極３０を移動させる。 - 特許庁

The inclined surfaces 15 and 16 include projecting step portions 15a and 16a, respectively, between the side surface 10a of the WDM unit 10 provided with the transmission device 30 and the optical path L1, which reach the side surface 10a.例文帳に追加

斜面１５，１６は、送信デバイス３０が設けられたＷＤＭユニット１０の側面１０ａと光路Ｌ１との間に凸状の段差部分１５ａ，１６ａを有しており、該段差部分１５ａ，１６ａが側面１０ａに達している。 - 特許庁

A groove 13a which is deeper than the bottom surface of n^+-type source region 14 is formed in the surface region of p-type channel region 13, and a step 13b is formed on the groove 13a side of the n^+-type source region 14.例文帳に追加

また、Ｐ型チャネル領域１３の表面領域にはＮ^＋型ソース領域１４の底面よりも深い溝部１３ａが形成され、Ｎ^＋型ソース領域１４の溝部１３ａ側には段差部１３ｂが形成されている。 - 特許庁

To provide a cleaning method capable of cleaning a transfer surface, a side surface, and a side step part of a mold at the same time when a mold matrix for press-molding a glass substrate is cleaned, and of stably obtaining a mold free from a defect without requiring any manual work.例文帳に追加

ガラス基板のプレス成形用金型母材を洗浄する際に、金型転写面と側面及び側面段部を同時に洗浄でき、欠陥の無い成形金型を人手を介さず安定して得る方法を提供する。 - 特許庁