「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

A manufacturing method of the dried flower comprises a step wherein an aqueous polymer is applied to the fresh flower and dried to form a water permeable polymer coat on its surface, a step wherein the fresh flower is replaced with a dehydrating liquid and dehydrated via the permeable polymer coat and a step wherein the fresh flower is dried by evaporating the dehydrating liquid in the replaced fresh flower via the permeable polymer coating.例文帳に追加

生花に水性のポリマーを塗布乾燥してその表面に透水性のポリマー皮膜を形成する工程と、この生花を透水性のポリマー皮膜を通して脱水液で置換脱水する工程と、置換された生花中の脱水液を透水性のポリマー皮膜を通して気化させて生花を乾燥する工程とからなる。 - 特許庁

The repair treatment method for the water-repellent film having a ground surface layer includes (1) a process step of making a water-repellent function vanished by applying a plasma jet to the water-repellent film and (2) a process step of applying a water-repellent treating liquid to a region where the water-repellent function is made vanished by the process step described above.例文帳に追加

下地層を有する撥水性皮膜のリペア処理方法において、（１）前記撥水性皮膜にプラズマジェットを施すことにより、撥水機能を消失させる工程、（２）前記工程により撥水機能が消失させられた領域に、撥水処理液を塗布する工程、を含むことを特徴とする下地層を有する撥水性皮膜のリペア処理方法である。 - 特許庁

This surface treatment method for the steel member comprises a carburizing step S1 of performing carbo-hardening or carbo-nitrizing-hardening, a shot-peening step S2 of performing the shot-peening on the steel member, and a hardening step S3 of rapidly heating the steel member above the austenitic temperature after the shot-peening, and successively hardening the steel member.例文帳に追加

鋼部材の表面処理方法であって、上記鋼部材を浸炭焼入れまたは浸炭窒化焼入れする浸炭工程Ｓ１と、上記鋼部材にショットピーニングを施すショットピーニング工程Ｓ２と、上記ショットピーニングの後、上記鋼部材をオーステナイト化温度以上に急速加熱し、続いて焼入れを施す焼入れ工程Ｓ３とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board 108 includes a step of forming a wiring pattern 106 with a metal diffusion preventing layer 103 on the conductive frame 101 by electrolytic plating, a step of forming an insulating layer 107 on a wiring layer forming surface of the conductive frame 101, and a step of removing the conductive frame 101.例文帳に追加

導電性フレーム１０１上に、電解めっきにより、金属拡散防止層１０３が形成された配線パターン１０６を形成する工程と、前記導電性フレーム１０１の配線層形成面に絶縁層１０７を形成する工程と、前記導電性フレーム１０１を除去する工程とを含むプリント配線板１０８の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method for the linear heat source includes a step of providing a linear support body, a step of providing a carbon nanotube structure, and for installing the carbon nanotube structure on a surface of the linear support body, and a step of providing two electrodes, and for installing the two electrodes with a space, to be connected electrically to the carbon nanotube structure.例文帳に追加

本発明の線熱源の製造方法は、線状の支持体を提供するステップと、カーボンナノチューブ構造体を提供し、該カーボンナノチューブ構造体を前記線状の支持体の表面に設置するステップと、二つの電極を提供し、該二つの電極を、間隔を置いて設置し、前記カーボンナノチューブ構造体に電気的に接続させるステップと、を含む。 - 特許庁

This method for amplifying a nucleic acid comprises a step of preparing a pipette chip as a reaction container, a step of preparing a layer of mixed liquid of a specimen containing the nucleic acid and amplification reaction liquid, and an oil layer covering the upper surface of the mixed liquid layer in the pipette chip and a step of performing the amplification of the target gene in the pipette chip.例文帳に追加

ピペットチップを反応容器として用意する工程と、前記ピペットチップ中に、標的核酸を含む試料及び増幅反応液の混合液の層と、前記混合液の層の上面を覆うオイルの層とを調製する工程と、前記ピペットチップ中で前記標的核酸の増幅を行う工程とを含む、核酸増幅法。 - 特許庁

A manufacturing method of a multilayer film comprises: a step of forming a first layer (CoFeB); a step of forming a second layer (MgO) on the first layer (CoFeB); and a step of transferring crystal information of the second layer (MgO) to the first layer (CoFeB) by irradiating a surface of the second layer (MgO) with GCIB.例文帳に追加

実施形態に係わる多層膜の製造方法は、第１の層（ＣｏＦｅＢ）を形成する工程と、第１の層（ＣｏＦｅＢ）上に第２の層（ＭｇＯ）を形成する工程と、第２の層（ＭｇＯ）の表面に対してＧＣＩＢ照射を行うことにより、第２の層（ＭｇＯ）の結晶情報を第１の層（ＣｏＦｅＢ）に転写する工程とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a surface heat source includes: a step of providing a carbon nanotube structure; a step in which a first electrode and a second electrode are installed with an interval, and are electrically connected to a carbon nanotube structure; and a step in which a precursor of a substrate is provided, and the precursor of the substrate and the carbon nanotube structure are combined to form a heating element.例文帳に追加

本発明の面熱源の製造方法は、カーボンナノチューブ構造体を提供するステップと、第一電極及び第二電極を、間隔を置いて設置し、カーボンナノチューブ構造体と電気的に接続させるステップと、基体の前駆体を提供し、該基体の前駆体と前記カーボンナノチューブ構造体とを複合し、加熱素子を形成するステップと、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical waveguide device is characterized in that it has a step of making a first mold by dicing a substrate on the surface to form grooves thereon, a step of making a second mold for forming a clad by using the first mold, and a step of forming the clad of a high polymer material by using the second mold.例文帳に追加

本発明の光導波路装置の製造方法は、基板の表面をダイシングして、基板の表面に溝を形成した第一の型を作製する工程と、前記第一の型を用いてクラッド成型用の第二の型を成型する工程と、前記第二の型を用いて高分子材料のクラッドを成型する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for forming the casting mold includes a step of: forming body by kneading ceramic powder containing silicon nitride powder and a first binder solution; a step of: forming slurry by adding a second binder solution to the body; and a step of forming a mold releasing layer by applying the slurry to the surface of a casting mold base body.例文帳に追加

窒化珪素粉末を含むセラミック粉末と、第一バインダー溶液と、を混練して、坏土を形成する工程と、前記坏土に第二バインダー溶液を添加して、スラリーを形成する工程と、前記スラリーを鋳型用基体の表面に付着させて、離型層を形成する工程と、を備えることを特徴とする鋳型の形成方法とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加

（１）透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、（２）前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、（３）前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁

The method for producing the non-natural leather sheet includes: a coating step of coating a water-soluble thermosetting resin on the surface of a substrate subjected to a prescribed pretreatment; a drying step of drying the coated substrate under a temperature condition for curing the thermosetting resin; and a finishing step of heating and pressing the dried substrate to produce the final product.例文帳に追加

所定の前処理を施した基材の表面に、水溶性の熱硬化性樹脂をコーティングするコーティング工程と、コーティングを施した基材を、前記熱硬化性樹脂が硬化する温度条件下で乾燥させる乾燥工程と、乾燥させた基材を、加熱及び加圧して最終製品とする仕上工程と、を包含することを特徴とする。 - 特許庁

A method for forming an oxide film comprises a step for cleaning the surface of a silicon substrate 1, a step for annealing the silicon substrate 1 at a temperature higher than a temperature of thermal oxidation for forming a tunnel oxide film 3 in an atmosphere of Ar gas, and a step for forming the tunnel oxide film 3 through the thermal oxidation method.例文帳に追加

本発明に係る酸化膜の形成方法は、シリコン基板１表面を洗浄する工程と、上記シリコン基板１に、Ａｒガス雰囲気下でトンネル酸化膜３を形成する際の熱酸化温度以上の温度でアニールを施す工程と、上記シリコン基板１上に熱酸化法によりトンネル酸化膜３を形成する工程と、を具備するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the conductive film includes the step of interposing a fluidized material 2 containing a fibrous conductive material 2a between a mold 1 on the surface of which a predetermined unevenness 1a is formed and a substrate 3, the step of performing treatment to reduce the fluidity of the material 2, and the step of peeling the mold 1 from the material 2.例文帳に追加

表面に所定の凹凸形状１ａが形成されたモールド１と基板３との間に、繊維状導電性物質２ａを含み流動性を有する材料２を介在させた状態とする工程と、材料２の流動性を低下させる処理を行う工程と、モールド１を材料２から剥離する工程とを具備した導電膜の製造方法。 - 特許庁

The electrode material can be manufactured by a method including a mixture manufacturing step of preparing a mixture of a vaporizable member vaporized by heat and a first carbon material, a coating film forming step of coating the surface of the mixture with a film containing a second carbon material, and a heating step of vaporizing the vaporizable member of the mixture coated with the coating film.例文帳に追加

この電極材料は、加熱により気化する気化性部材と第一炭素材料との混合体を調製する混合体製造工程と、混合体の表面に第二炭素材料を含有する膜を被覆する被覆膜形成工程と、被覆膜を形成した混合体の気化性部材を気化させる加熱工程とを有する方法により製造できる。 - 特許庁

The method comprises a coating step to produce coated carbon nanotubes by mixing a polycarbosilane of 8-80 wt.% with carbon nanotubes of 92-20 wt.%, a cross-linking reaction step to cross-link the surface of a polycarbosilane coating film and a firing step to heat-treat the cross-linked coated carbon nanotubes at 800-1,600°C and in a non-oxidizing atmosphere.例文帳に追加

ポリカルボシラン8重量％乃至80重量％とカーボンナノチューブ92重量％乃至20重量％とを混合して被覆カーボンナノチューブを作る被覆工程と、ポリカルボシラン被膜の表面を架橋反応する架橋反応工程と、架橋された被覆カーボンナノチューブを800℃乃至1600℃の温度範囲で、非酸化性雰囲気中で熱処理する焼成工程とを有する。 - 特許庁

The method includes: a drying step 77 to dry an applied coating subsequent to application of the optically anisotropic layer composed of a liquid crystal compound to an alignment film layer formed on a surface of a transparent support; a cooling step 78 to cool the dried coating; and an ultraviolet ray irradiation step 79 to irradiate the cooled coating with an ultraviolet ray in a heated state.例文帳に追加

透明支持体の表面に形成した配向膜層上に液晶化合物からなる光学異方性層を塗布した後、塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程７７と、乾燥した塗膜を冷却する冷却工程７８と、冷却した塗膜を加熱した状態で紫外線を照射する紫外線照射工程７９と、を備える。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step (1) for charging a green tire into a mold in a vulcanizing device having a bladder 8 and the mold housing the bladder 8, (2) a step wherein the bladder expands, and a step (3) wherein the green tire is pressurized and heated to obtain the tire between a cavity surface of the mold and the bladder 8.例文帳に追加

この製造方法は、（１）ブラダー８と、このブラダー８が収容されるモールドとを備える加硫装置において、このモールドに、グリーンタイヤが投入される工程と、（２）このブラダー８が膨張する工程と、（３）このモールドのキャビティ面と、このブラダー８との間において、このグリーンタイヤが加圧及び加熱されてタイヤが得られる工程とを含む。 - 特許庁

It is hydrogen absorption method to have a stress measurement step which measures the stress generated in the hydrogen absorption vessel 50, which is generated by the expansion of hydrogen storing alloys powder when hydrogen storing alloy powder absorbs hydrogen, and a step of applying the pressure, corresponding to the stress measured by a stress measurement step, to the outer surface of hydrogen absorption vessel 50.例文帳に追加

水素吸蔵合金粉末が水素を吸蔵する際に生ずる水素吸蔵合金粉末の膨張によって水素吸蔵用容器５０に発生する応力を測定する応力測定ステップと、応力測定ステップにおいて測定された応力に対応する圧力を水素吸蔵用容器５０の外面に付加する加圧ステップとを有する水素吸蔵方法である。 - 特許庁

This manufacturing method of an organic electroluminescent element is characterized by comprising: a step for providing a substrate with pixel electrodes formed; a step for laminating the donor substrate attached to a frame on the entire surface of the substrate; and a step for forming an organic film layer pattern on the pixel electrodes by radiating laser in a predetermined area of the donor substrate.例文帳に追加

本発明による有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にフレームに付着されたドナー基板をラミネーションする段階と、前記ドナー基板の所定領域にレーザーを照射して前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A production method of the gas cell includes: a coating step of forming a coating layer on a surface of a plate material; an assembling step of assembling a plurality of the plate materials having the coating layer formed thereon so as to form a cell surrounded by the surfaces having the coating layer formed thereon; and a filling step of filling the formed cell with an alkali metal gas.例文帳に追加

ガスセルの製造方法は、板材の面にコーティング層を形成するコーティング工程と、前記コーティング層が形成された複数の前記板材を、前記コーティング層が形成された面で囲まれたセルを形成するように組み立てる組立工程と、前記形成されたセル内にアルカリ金属ガスを充填する充填工程とを有する。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step of selectively forming an under active layer containing a polymerization initiator on a surface of a layer to be etched on a substrate; a step of forming a polymer layer on the under active layer by living radical polymerization of an organic monomer; and a step of selectively etching the layer to be etched through the polymer layer as a mask.例文帳に追加

基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The cleaning method of a semiconductor wafer has a step for removing and cleaning foreign substances using an alkali-based chemical, cleaning step for neutralizing surface charge on the semiconductor wafer using slightly acidic cleaning liquid, and a step for removing and cleaning metal impurities remained on the semiconductor wafer using an acid-based chemical.例文帳に追加

本発明の半導体ウエハの洗浄方法は、アルカリ系薬液を用いて半導体ウエハ上の異物を除去洗浄する工程と、半導体ウエハの表面電荷を弱酸性の洗浄液を用いて中和する洗浄工程と、酸系薬液を用いて半導体ウエハ上に残る金属不純物を除去洗浄する工程とを備える。 - 特許庁

Next, when the detected value outputted from the revolution sensor 16 goes out of the range of revolutions (NO in step S7), the CPU 61 closes a first chemical solution surface valve 23, inhibits the opening of the valve thereafter (step S9), and outputs an alarm indicating the inhibition of the opening of the valve (step S10); and then the interlocking operation is completed.例文帳に追加

そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 - 特許庁

The plating method comprises the first step of wetting the concave 80 shaped on the surface to be plated of the workpiece W with deionized water 82 by contacting the surface with the deionized water 82, and the second step of forming a copper film on the surface to be plated of the workpiece in wetting condition with an electroplating after immersing the workpiece in a plating solution 14.例文帳に追加

本発明のめっき方法は、被処理体Ｗの被成膜面に純水８２等を付着させ、被処理体の成膜面に形成された凹部８０の内面を純水８２により濡らす第１ステップと、この第１ステップの後、被処理体の被成膜面が濡れた状態にて、被処理体をめっき液１４に浸漬し電解めっき法により被処理体の被成膜面に銅膜を成膜する第２ステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank substrate comprising a substrate having two main surfaces opposing to each other includes: a step of polishing the two main surfaces of the substrate; and a step of correcting a surface defect present on the main surface of the substrate by bringing flame at a burning temperature equal to or higher than the softening point of the substrate into contact with the surface defect.例文帳に追加

対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

The grinding method includes a step for grinding a semiconductor wafer 2 by touching a grinding wheel 22 to a ground surface 2a of the semiconductor wafer 2 and sliding the grinding wheel 22 relatively to the ground surface 2a, and a step for forming a gap between the ground surface 2a and the grinding wheel 22 by separating the grinding wheel 22 from the semiconductor wafer 2 and circulating grinding fluid through the gap.例文帳に追加

研削方法は、研削砥石２２を半導体ウエハ２の被削面２ａに接触させ、被削面２ａに対して研削砥石２２を相対的に摺動させることにより半導体ウエハ２に研削加工を施す工程と、研削加工の途中で、研削砥石２２を半導体ウエハ２から離間させて被削面２ａと研削砥石２２との間に間隙を形成し、この間隙に研削液を流通させる工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the foaming resin-coating roller including the shaft 1 and the foaming resin layer 4 arranged on an outer periphery of the shaft 1 is characterized by including a winding step of spirally winding a belt-like foaming resin layer 4 onto an outer circumferential surface of a shaft 1 and a removal step of cutting and removing the foaming resin 4 which protrudes from a coating planned surface on the outer circumferential surface.例文帳に追加

シャフト１と、該シャフト１の外周に設けられた発泡樹脂層４とを有する発泡樹脂被覆ローラを製造する方法において、該シャフト１の外周面に帯状の発泡樹脂４をスパイラル状に巻き付ける巻き付け工程と、該外周面の被覆予定面からはみ出す発泡樹脂４を切断して除去する除去工程とを有することを特徴とする発泡樹脂被覆ローラの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a resist pattern on a surface to be processed by forming a resist film on the surface using the resist composition for immersion exposure, irradiating the resist film with exposure light by immersion exposure, and developing it, and a step of transferring the pattern to the surface to be processed by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

The coating method of the fine particle surface for coating a surface of fine particles having an average particle diameter of 0.01-10 μm with a coating agent includes a step of dispersing the fine particles in a coating liquid that contains the coating agent, and a step of imparting ultrasonic waves to the coating liquid to generate fog that contains fine particles to which the coating agent adheres from the coating liquid surface.例文帳に追加

平均粒径が０．０１〜１０μｍの微粒子の表面を、コーティング剤によりコーティングする方法であって、前記微粒子を、前記コーティング剤を含むコーティング液中に分散させる工程、及び、前記コーティング液に超音波を付与し、当該コーティング液面から、前記コーティング剤が付着した微粒子を含む霧を発生させる工程を有することを特徴とする、微粒子表面のコーティング方法。 - 特許庁

An interception surface 48 facing the valve seat 43 of the valve element 44 has same radius as the outer diameter of the step part 57, magnetic material 49 made of magnet is embedded at a position facing the step part 57 of the valve element 44 and not contacting the valve seat 43.例文帳に追加

弁体４４の弁座４３と向かい合う遮断面４８は段差部５７の外径と同じ半径を有し、弁体４４の段差部５７と向かい合うとともに弁座４３と接触しない位置には磁石からなる磁性材料４９が埋設されている。 - 特許庁

In this printer for printing a new image on the used printing paper sheet, the margin part is detected from a paper surface, whereon the image is printed, of the printing paper sheet (step S103), and the new image is printed on the detected margin part (step S104).例文帳に追加

使用済みの印刷用紙に新たな画像を印刷する印刷装置であって、印刷用紙の画像が印刷されている紙面から余白部を検出し（ステップＳ１０３）、その検出された余白部に前記新たな画像を印刷するようにした（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

The cleaning method of the building exterior wall includes the step of directly applying a transparent gel cleaning material on stained portions on the exterior wall surface of a building, and the step of removing the gel cleaning material by washing the stained portions with water.例文帳に追加

本発明の建物外壁の洗浄方法は、透明なゲル状洗浄材料を建物の外壁表面の汚れ部分に直接塗布する工程と、汚れ部分を水洗することによりゲル状洗浄材料を取り除く工程とを有するものである。 - 特許庁

The image input unit 24 rotates between a housing position where the image input unit 24 is housed in a recessed part with a step 30 formed on an upper surface of the housing 25 and a protruding position where the image input unit 24 protrudes from the recessed part with the step 30 via the single shaft hinge device 67.例文帳に追加

画像入力ユニット２４は、一軸ヒンジ装置６７を介して、筐体２５の上面に形成された段付き凹部３０内に収容される収容位置と段付き凹部３０内から突出する突出位置との間を回動可能である。 - 特許庁

A regular step which is arrayed in the direction of m-axis is formed on the surface of the MgxZn1-xO substrate 1 in such a manner where a phenomenon, called as step bunching, can be prevented and the flatness of the film of semiconductor layer laminated on the substrate 1 can be improved.例文帳に追加

このようにして、ＭｇｘＺｎ１−ｘＯ基板１の表面に、ｍ軸方向に並ぶ規則的なステップを形成することで、ステップバンチングと呼ばれる現象を防ぎ、基板１上に積層される半導体層の膜の平坦性を向上させることができる。 - 特許庁

The flow rate measurement apparatus has a step part 27 projected from a bottom 21 of the connector housing 12 to an aperture 22 side, and in the adjustment terminal 26, an exposure part 34 exposed from the connector housing 12 is exposed from a surface 33 on the aperture 22 side of the step part 27.例文帳に追加

流量測定装置は、コネクタハウジング１２の底面２１から開口２２側に向かって突出する段部２７を有しており、調整端子２６は、コネクタハウジング１２から露出する露出部３４が、段部２７の開口２２側の面３３から露出している。 - 特許庁

Further, the raw material powder 10 may be placed in a fluidized state even in a sticking step of sticking the raw material powder 10 on the surface of the base metal 12 by keeping the base metal 12 in the raw material powder 10 for a predetermined time, and a step of taking out the base metal 12.例文帳に追加

なお、母材１２を原料粉末１０中に所定時間留めて母材１２の表面に原料粉末１０を付着させる付着工程、及び母材１２の取出工程においても原料粉末１０を流動化状態に置いてもよい。 - 特許庁

The axial outer end of the inner circumferential surface of the inner ring 3b is used as a clearance fitting part 22 for fitting to the small diameter step 10 by clearance fit and an axial intermediate part is used as a tight fitting part 23 for fitting to the small diameter step 10 by tight fit.例文帳に追加

上記内輪３ｂの内周面の軸方向外端部を、上記小径段部１０に隙間嵌めで嵌合する隙間嵌め嵌合部２２とし、同じく軸方向中間部を、上記小径段部１０に締り嵌めで嵌合する締り嵌め嵌合部２３とする。 - 特許庁

This thermal energy generation method includes a step of treating the powder so that the oxide on the surface of powder of the Pd containing alloy having deuterium super-absorptivity is removed, and a step of supplying high-purity deuterium gas to the treated powder.例文帳に追加

熱エネルギー発生方法は、重水素超吸収性を有するＰｄ含有合金の粉末の表面の酸化物が除去されるように粉末を処理するステップと、高純度の重水素ガスを処理された粉末に供給するステップとを包含する。 - 特許庁

The manufacturing method includes an embedding step to form a buried layer 14 by achieving the growth of semiconductor crystal containing In or Ga as a group III element while supplying oxygen in a step region M1 present on the (100) surface of group III-V compound semiconductor crystal.例文帳に追加

ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体結晶の（１００）面上に存在する段差領域Ｍ１を、酸素を供給しながらＩＩＩ族元素としてＩｎ又はＧａを含む半導体結晶を成長させて埋込層１４を形成する埋込工程を含む。 - 特許庁

The process of forming the tantalum carbide coating film includes: a first forming step of forming a first tantalum carbide coating film on a surface of the carbon substrate; and a second forming step of forming a new tantalum carbide coating film more than once on the first tantalum carbide coating film.例文帳に追加

炭化タンタル被覆膜形成工程は、炭素基材の表面に第１炭化タンタル被覆膜を形成する第１形成工程と、第１炭化タンタル被覆膜上に１回以上新たな炭化タンタル被覆膜を形成する第２形成工程とを有する。 - 特許庁

A golf club head processing method of performing blast processing on a face surface on which a scoreline has been formed includes a step of filling the scoreline with a masking material before the blast processing, and a step of removing the masking material from the scoreline after the blast processing.例文帳に追加

スコアラインが形成されたフェース面をブラスト処理するゴルフクラブヘッドの処理方法において、ブラスト処理の前に、前記スコアラインをマスキング材で埋める工程と、ブラスト処理の後に、前記マスキング材を前記スコアラインから除去する工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The method of producing an antireflection layer includes a step for coating at least one side of a resin substrate with dispersion liquid containing fine particles having peroxidized surfaces, and a step for making the fine particles adhere to the surface of the substrate by external stimulation treatment.例文帳に追加

樹脂基材の少なくとも片面に、表面が過酸化された微粒子を含む分散液を塗布する工程と、外部刺激処理によって前記微粒子を固着させる工程とを少なくとも含むことを特徴とする反射防止層の製造方法。 - 特許庁

A base installation step of installing the base 2 on the plate surface 137a, and a manipulator connection step of sequentially and separately carrying into the water chamber 131 and connecting them to the base 2 (connection link 3), are performed.例文帳に追加

このとき、ベース２を管板面１３７ａ上に設置するベース設置ステップと、分割されたマニピュレータ４（前段部および後段部）を順次かつ個別に水室１３１内に搬入してベース２（連結リンク３）に連結するマニピュレータ連結ステップとが行われる。 - 特許庁

To provide an adhesive tape capable of transferring a band-shaped adhesive layer on the paper surface as use for adhesion of papers and not bringing about inconvenience in a disintegration step and a regeneration step in a recycling treatment of papers bonded through the adhesive layer.例文帳に追加

紙類接着用として、紙表面に帯状の粘着剤層を転写することができ、かつ該粘着剤層を介して接着された紙類のリサイクル処理において、離解工程や再生工程などで不都合をもたらすことのない粘着テープを提供する。 - 特許庁