「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

In the case of providing the optical light filtering plate 11 between a CCD 7 and a photographing lens in a digital still camera, the plate 11 is fixed on the front surface of the CCD 7 by providing a step 107 at the outer periphery part of the plate 11 and fitting a holding member 13 in the step 107 so that the top surface of the member 13 may not be projected from the plate 11.例文帳に追加

デジタルスチルカメラにおいて、ＣＣＤ７と撮影レンズの間に光学濾光板１１を設ける場合、光学濾光板１１の外周部に段差１０７を設け、その段差に保持部材１３をはめこみ、保持部材１３のトップ面が光学濾光板１１よりはみ出さないようにして、光学濾光板１１をＣＣＤ７の前面に固定する。 - 特許庁

In a stage for forming groove patterns on the air bearing surface of a thin film magnetic head slider 15 by photolithography technology, photoresist patterns 2 and 3 used for working are formed in step-shapes corresponding to a shallow pattern 12 and a deep pattern 13 and the photoresist patterns are transferred onto the air bearing surface in one etching step to work the shallow and deep grooves collectively.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドスライダー１５のエアーベアリング面にフォトリソグラフィ技術により溝パターンを形成する工程に際して、加工に用いるフォトレジストのパターン２、３を、浅溝パターン１２及び深溝パターン１３に対応した階段状に形成し、フォトレジストのパターンを、一回のエッチングによりエアーベアリング面上に転写し、浅溝、及び深溝の加工を一括して行う。 - 特許庁

The method for surface treating an aluminum material comprises at least a step of dispersing a photocatalytic oxide particles 1, in an aqueous solution dissolving a resin solid content exhibiting hydrophilic property to generate a photocatalytic oxide particle dispersion resin coating liquid, and a step of coating a surface of the aluminum material 3 with the coating liquid.例文帳に追加

本発明のアルミニウム表面処理方法は、親水性を呈する樹脂固形分が溶解した水溶液に光触媒性酸化物粒子を分散させて光触媒性酸化物粒子分散樹脂コーティング液を生成する工程と、前記光触媒性酸化物粒子分散樹脂コーティング液をアルミニウム材表面に塗布する工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

This laser marking method comprises a first step of forming a membrane 2 or adhesion on the surface of a marked material 1 composed of a transparent body or a laser light transmitting body, and a second step of radiating a laser beam LB to the membrane or the adhesion and to form projection and depression on the surface of the marked material in a process for removing the membrane or the adhesion from the marked material.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材(1) の表面に膜(2) 又は付着物を形成する第一工程と、膜又は付着物にレーザ光線LBを照射し、膜又は付着物が被マーキング材から除去される過程で被マーキング材の表面に凹凸を形成する第二工程とからなる。 - 特許庁

The step light device 6 can be assembled simply only by inserting the casing 10 of the step light 9 into casing storage part 27 of a mounting plate 26 so that the oversurface 28b of a flat plate part 28 is positioned flush with a light permeation surface 10a and by filling a seal material filling groove 36 formed at the periphery of the light permeation surface 10a with a seal material 37.例文帳に追加

ステップライト装置６は、平板部２８の上面２８ｂと光透過面１０ａとが面一になるように、取付プレート２６の筐体収容部２７にステップライト９の筐体１０を挿入し、光透過面１０ａの周囲に形成されるシール材充填溝部３６にシール材３７を充填するだけで簡便に組み立てることができる。 - 特許庁

Nearly at the center of the inner-periphery surface of the retaining member 13, a step part 131 is formed over an entire periphery, and a part at the downstream side in the direction for transmitting ultrasonic waves lower than the step part 131 is a waveguide part 132 for preventing ultrasonic waves being transmitted from an ultrasonic wave transmission/reception surface 12a of the ultrasonic vibrator 12 from being diffused.例文帳に追加

保持部材１３の内周面のほぼ中央付近には、段差部１３１が全周にわたって形成されていて、この段差部１３１よりも超音波送出方向下流側の部分は、超音波振動子１２の超音波送受面１２ａから送出される超音波が拡散するのを防止するための導波部１３２になっている。 - 特許庁

The manufacturing method of a glass substrate for a disk like magnetic recording medium includes a step for filling cracks formed in end parts 3 and 4 of the glass substrate 1 with a binder which can be chemically bonded to the glass substrate 1 and a mirror surface polishing step for polishing the end parts 3 and 4 of the glass substrate 1 where the cracks are filled with the binder into a mirror surface state.例文帳に追加

円盤状の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板１の端部３，４に形成されたクラックを、ガラス基板１と化学結合可能な結合剤を用いて埋める工程と、クラックが埋められたガラス基板１の端部３及び４を鏡面状態に研磨する鏡面研磨工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A seal member forming step for forming a seal member 15 on the surface of a first substrate base material 31 in a lattice shape so as to include a parting region 50 when viewed from the normal direction of the surface of the first substrate base material 31 and a parting step for parting a lamination substrate base material 34 together with the seal member 15 in the parting region 50, are performed.例文帳に追加

第１基板母材３１の表面に対し、シール部材１５を、第１基板母材３１の表面の法線方向から見て、分断領域５０を含むように格子状に形成するシール部材形成工程と、分断領域５０において貼合せ基板母材３４をシール部材１５と共に分断する分断工程とを行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the ferroelectric domain array structure includes a step for forming a ferroelectric film that comprises one surface and has a constant thickness, and a step for forming the ferroelectric domain array structure in the ferroelectric film by applying a constant electric field, vertical to a surface to the ferroelectric film.例文帳に追加

本発明の強誘電分域アレイ構造の製造方法は、一つの表面を備え、且つ一定の厚さを有する強誘電フィルムを提供するステップと、前記強誘電フィルムに、前記表面に垂直なように、一定の電界を印加することにより、前記強誘電フィルム内に、強誘電分域アレイ構造を形成するステップとを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display element comprising the liquid crystal sealed between two sheets of opposing substrates with electrodes and the alignment layers formed thereon, has a step to plasma treat a substrate surface on which the electrode had been formed and a step to form the alignment layer on the plasma treated surface of the plasma treated substrate.例文帳に追加

電極及び配向膜が形成された二枚の対向する基板間に液晶が封入された液晶表示素子の製造方法であって、電極が形成された基板の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施された基板のプラズマ処理面に配向膜を形成する工程とを有する液晶表示素子の製造方法 - 特許庁

Another embodiment provides a manufacturing method for a solar cell module including: (a) a step of preparing a solar cell including an electrode pattern on at least one surface; and (b) a step of forming a light-transmitting passivation film by performing parylene coating on at least a front surface of the solar cell.例文帳に追加

また、他の実施形態によると、（ａ）少なくとも一面に電極パターンが形成された太陽電池セルを準備する段階と、（ｂ）太陽電池セルの少なくとも前面上にパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）コーティングを行って光透過性パッシベーション膜を形成する段階と、を含んでなる太陽電池モジュールの製造方法が提案される。 - 特許庁

Instead of a conventional method for thinning the SOI wafer accompanying an etching stop, a method including a step of measuring thickness of a semiconductor wafer layer from its mirror finished surface to the solid-state image sensor and a step of plasma-etching the semiconductor wafer layer from the mirror finished surface to a predetermined thickness while controlling the plasma-etching amount based on the residual thickness data, is adopted.例文帳に追加

エッチングストップを伴った従来法のＳＯＩウェーハの薄膜化に代えて、半導体ウェーハ層の鏡面化された面から固体撮像素子までの厚さを測定し、その残厚データに基づき、半導体ウェーハ層を、その鏡面化された面から所定厚さまで、プラズマエッチング量を制御してプラズマエッチングする方法を採用した。 - 特許庁

In one embodiment, the substrate manufacturing method includes: a first step for forming a film 13 on which a compressive stress is loaded, on a rear face 12 of a semiconductor wafer 10; and a second step for performing a high-temperature and short-time heat treatment to only a front surface 11 of the semiconductor wafer 10 by irradiating the surface 11 with a flash.例文帳に追加

本発明の基板の製造方法の一実施形態は、半導体ウェーハ１０の裏面１２に、圧縮応力を負荷する膜１３を形成する第１工程と、表面１１に対して閃光を照射することによって、半導体ウェーハ１０の表面１１のみに高温かつ短時間の熱処理を施す第２工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method includes a step of coating the surface of the ceramic coating member 11 with a treating solution containing a metal salt to produce a compound oxide by reacting with a titanium compound in the titanium-based ceramic film 11b and a following step of producing the compound oxide to form the surface coating film 12 composed of the compound oxide.例文帳に追加

本方法は、セラミックコーティング部材１１の表面に、チタン系セラミックス膜１１ｂのチタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩を含む処理液を塗布する工程と、その後、前記複合酸化物を生成させて、その複合酸化物によって構成される表面被覆膜１２を形成する工程とを含む。 - 特許庁

Adhesion of the radioactive substance is efficiently suppressed by an oxide film removal step (S1-S5) for removing an oxide film on a metal material surface with which a coolant including the radioactive substance is brought into contact, and by a titanium oxide adhesion step (S6) for allowing titanium oxide to adhere onto the metal material surface after removing the oxide film.例文帳に追加

放射性物質を含む冷却材が接する金属材料表面の酸化皮膜を除去する酸化被膜除去工程（Ｓ１〜Ｓ５）と、前記酸化皮膜を除去した後に前記金属材料表面にチタン酸化物を付着させるチタン酸化物付着工程（Ｓ６）により、放射性物質の付着を効率的に抑制する。 - 特許庁

To provide a crawler type traveling vehicle which allows running on an upper surface side of a rising step without difficulty in a space part having a small vertical direction dimension and achieves the running-on without providing a driving mechanism such as a motor for rotation with an easy operation to run the vehicle on the upper surface side of the step part.例文帳に追加

上下方向の寸法が小さい空間部においてもそこにあるのぼりの段差部の上面側に難なく乗り上がらせることができ、しかも、それを、回動のためのモーター等の駆動機構を備えさせることなく実現できると共に、段差部の上面側に乗り上がらせる操作が容易な、クローラー式走行車を提供する。 - 特許庁

In a substrate processing by the substrate processing apparatus, a hydrophobizing step (S101) for selectively hydrophobizing the peripheral edge of the main surface of the substrate and a liquid film forming step (S102) for supplying the processing liquid to the substrate which is horizontally held after the hydrophobizing process is performed and forming the liquid film of processing liquid covering the main surface of the substrate are performed.例文帳に追加

この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 - 特許庁

A method for removing a spraying material containing asbestos 2 sprayed on the surface 1a of a base material 1 comprises a step of injecting acid liquid into around an adhesive surface T between the spraying material containing asbestos and the base material and a step of spraying neutral or acidic liquid L to the spraying material containing asbestos injected with the acid liquid.例文帳に追加

基材１の表面１ａに吹き付けられたアスベスト含有吹付け材２の除去方法であって、アスベスト含有吹付け材の基材との接着面Ｔ付近に酸性液を注入する工程と、酸性液が注入されたアスベスト含有吹付け材に対して中性または酸性の液体Ｌを散布する工程と、を備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing an optical amplifier 10 includes a step to arrange a light hardening material in which optical amplification material is mixed in the vicinity of end surface of an optical fiber 20, and a step to propagate a laser light to the optical fiber 20 and to harden the light hardening material by the irradiation of the laser light emitted from the end surface of the optical fiber 20.例文帳に追加

光増幅器１０の製造方法は、光増幅材料が混合された光硬化性材料を、光ファイバ２０の端面近傍に配置するステップと、光ファイバ２０にレーザ光を伝搬させ、光ファイバ２０の端面から出射されるレーザ光の照射により光硬化性材料を硬化させるステップなどを含む。 - 特許庁

Owing to a construction method for a step mounting hole of a manhole, which is characterized in that a bearing surface orthogonal to an axial direction of the step mounting hole is formed on an inner wall surface side of the manhole, only one kind of bottomed cylindrical body having a flange formed at a right angle to an axis of the cylindrical body is sufficient regardless of the size of the manhole.例文帳に追加

マンホールの内壁面側にステップ取付孔の軸方向に直交する座面を形成することを特徴とするマンホールのステップ取付孔の施工方法により、マンホールの大きさに拘らず、有底筒状体は、筒状体軸に対し直角に形成されたフランジを有する１種類の形状のものでよいこととなった。 - 特許庁

A toner box 40 of a developer supply device 10 has step portions 40A to 40D formed on its outer peripheral surface, a leaf spring 60 is pressed against the outer peripheral surface of the toner box 40, and when the leaf spring 60 gets over the step portions 40A to 40D, the toner box 40 is given vibrations by the elasticity of the leaf spring 60.例文帳に追加

現像剤供給装置１０では、トナーボックス４０の外周面に段差部４０Ａ〜Ｄが形成され、板バネ６０がトナーボックス４０の外周面に圧接されており、モータ４６によってトナーボックス１０が回転されて板バネ６０が段差部４０Ａ〜Ｄを乗越えた時に、板バネ６０の弾力でトナーボックス４０に振動が与えられる。 - 特許庁

The method for manufacturing the iron based member having a coating film in at least a part of its surface includes a step of forming an undercoat film by projecting zinc particles on the surface of a base material consisting of an iron based material and a step of forming the coating film consisting of a resin based paint in at least a part on the undercoat film.例文帳に追加

表面の少なくとも一部に塗膜を有する鉄系部材を製造する方法であって、鉄系材料からなる母材表面に亜鉛粒子を投射して下地皮膜を形成する工程と、該下地皮膜上の少なくとも一部に樹脂系塗料からなる塗膜を形成する工程を含むことを特徴とする鉄系部材の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the photocatalytic body comprises a step of fixing the photocatalyst particle to the surface layer of the inorganic porous base material to be manufactured by firing, namely, baking and fixing the photocatalyst particle to the surface layer of the inorganic porous base material at a step of cooling the fired inorganic porous base material.例文帳に追加

焼成することにより製造される無機多孔質基材の表層に光触媒粒子を固定してなる光触媒体の製造方法であって、該無機多孔質基材を焼成して製造する際、該焼成後の冷却過程において光触媒粒子を無機多孔質基材の表層に焼付け固定させることを特徴とする。 - 特許庁

The joining method comprises a joining pretreatment step of depositing scattering particles containing carbon atoms on a surface of a base member formed of metallic materials while irradiating vacuum ultraviolet ray of the wavelength of 50-100 nm, and a joining step of joining other member on the surface of the base member with the scattering particles deposited thereon.例文帳に追加

金属系材料からなる基材の表面に波長５０ｎｍ〜１００ｎｍの真空紫外光を照射しつつ炭素原子を含む飛散粒子を付着させる接合前処理工程と、 前記飛散粒子が付着した前記基材の表面上に他の部材を接合せしめる接合工程と、を含むことを特徴とする接合方法。 - 特許庁

The method for activating impurities introduced into a semiconductor substrate 44 comprises; a step for forming a semiconductor region by introducing impurities from the surface of the semiconductor substrate 44; and a step for irradiating a local region on the surface of the semiconductor substrate 44 with a plurality of pulse lasers 22 and 24 using a plurality of laser oscillators 12 and 16.例文帳に追加

半導体基板４４内に導入された不純物を活性化させる方法であり、半導体基板４４の表面から不純物を導入して半導体領域を形成する工程と、半導体基板４４の表面の局所領域に複数のレーザ発振器１２、１６を用いて複数のパルスレーザ２２、２４を照射する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated film which is the laminated film having a sealant layer containing a lubricant on at least one side surface of a substrate film, and where sliding property of the substrate film surface in a bag making step is suppressed, and which can easily release the sealant layer contacted in a filling step.例文帳に追加

基材フィルムの少なくとも一方の面に滑剤を含むシーラント層を備える積層フィルムであって、製袋工程において基材フィルム表面の滑り性が抑制されており、一方、充填工程において接触したシーラント層同士を容易に剥離できることのできる積層フィルムの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The protection film of the semiconductor wafer is formed of a cured film of a curable fluoropolyether elastomer composition, the method for protecting the semiconductor wafer surface includes a step of covering one or both surfaces of the semiconductor wafer, and the method for processing the semiconductor wafer includes a step (a) of coating one surface of the semiconductor wafer with the protection film to obtain a protection film coated semiconductor wafer.例文帳に追加

硬化性フルオロポリエーテルエラストマー組成物の硬化皮膜からなる半導体ウエハの保護膜；半導体ウエハの片面または両面を上記保護膜で被覆することを含む半導体ウエハ表面の保護方法；（ａ）半導体ウエハの片面を上記保護膜で被覆して保護膜被覆半導体ウエハを得る工程を有する半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁

The surface-treated zinc oxide particle is produced through a first step of: mixing a dispersion obtained by dispersing zinc oxide fine particles in a solvent with a silane compound to obtain a mixed solution and heating and drying the mixed solution to produce a dried body; and a second step of: disintegrating the dried body to produce the surface-treated zinc oxide fine particle.例文帳に追加

酸化亜鉛微粒子を溶媒に分散した分散液と、シラン化合物とを混合して混合液を得、当該混合液を加熱処理して乾固させて、乾固体を製造する第一工程と、当該該乾固体を解砕して、表面処理酸化亜鉛微粒子を製造する第二工程とを経て、表面処理酸化亜鉛微粒子を製造する。 - 特許庁

A manufacturing method of an AlN crystal 8 comprises: a step for growing the AlN crystal 8 on the surface of an SiC seed crystal substrate 3; and a step for extracting at least a part of the AlN crystal 8b in a range 8a of 2 mm to 60 mm on the AlN crystal 8 side from the surface of the SiC seed crystal substrate 3.例文帳に追加

ＳｉＣ種結晶基板３の表面上にＡｌＮ結晶８を成長させる工程と、ＳｉＣ種結晶基板３の表面からＡｌＮ結晶８側に２ｍｍ以上６０ｍｍ以下の範囲８ａにある少なくとも一部のＡｌＮ結晶８ｂを取り出す工程と、を含む、ＡｌＮ結晶８の製造方法である。 - 特許庁

A friction coefficient between a tire model and a road surface model is set to be a first friction coefficient lower than an actual friction coefficient between a tire and a road surface, a first load greater than a load to be actually applied to the tire is applied to the tire model (Step S103), and the deformation calculation of the tire model is executed (Step S104).例文帳に追加

タイヤモデルと路面モデルとの間における摩擦係数を、タイヤと路面との間における実際の摩擦係数よりも低い第１の摩擦係数に設定し、かつタイヤへ実際に負荷される荷重よりも大きい第１の荷重を前記タイヤモデルに負荷して（ステップＳ１０３）、前記タイヤモデルの変形計算を実行する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

The method for forming a thin film includes: a coating film formation step of forming a coating film by coating the coating liquid on the surface of a substrate; and an exposure step of irradiating the coating film with electromagnetic radiation with a wavelength which belongs to the light absorption band of the ligand or the light absorption band of the metal compound particle whose surface is modified by the ligand.例文帳に追加

その塗布液を、基体の表面に塗布して、塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜に、前記配位子の光吸収帯、又は前記配位子で表面を修飾された前記金属化合物粒子の光吸収帯に属する波長の電磁波を照射する露光工程と、を備えることを特徴とする薄膜形成方法。 - 特許庁

The method for producing the toner comprises a step for forming major toner particles wherein the major toner particles containing at least a resin particle are formed, and a step for forming the coating layer wherein the coating layer is formed on the surface of major toner particle by having the surface adhered by or covered with a toner functional material by using at least one of the supercritical fluid or the subcritical fluid.例文帳に追加

少なくとも樹脂微粒子を含むトナー母体粒子を製造するトナー母体粒子製造工程と、超臨界流体及び亜臨界流体の少なくともいずれかを用いて前記トナー母体粒子の表面にトナー機能性物質を付着乃至被覆させて被覆層を形成する被覆層形成工程とを含むトナーの製造方法である。 - 特許庁

After the bonding surface of the disk substrate is coated with a cation polymerization type UV curing resin composition to a toric form, the surface is not irradiated with the UV rays during the standby time c after the start of the required process step time a set in a UV irradiation process step and thereafter the cation polymerization type UV curing resin composition is irradiated with the UV rays for the required processing time b.例文帳に追加

ディスク基板の貼合わせ面にカチオン重合型紫外線硬化性組成物を円環状に塗布した後、紫外線照射工程で設定した工程所要時間ａの開始後、待機時間ｃの間だけ紫外線照射せず、その後にカチオン重合型紫外線硬化性組成物に要処理時間ｂだけ紫外線照射する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk by which etching by washing does not give influence on the smoothness of a final glass substrate principal surface after a second polishing (mirror-surface polishing) step while an abrasive used in a first polishing (coarsely polishing) step and consisting essentially of a rare earth oxide is effectively removed by washing.例文帳に追加

第１の研磨（粗研磨）工程にて使用した、希土類酸化物を主成分とする研磨材を、洗浄によって効果的に除去しつつ、洗浄によるエッチングが、第２の研磨（鏡面研磨）工程後の最終的なガラス基板主表面の平滑性にも影響を与えない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing for spraying dry ice particles on the raw film, and a step of forming the irregularity pattern on the surface of the raw film having a fine irregularity formed by emboss processing.例文帳に追加

製造方法は、ドライアイス粒を前記原反の表面に吹きつけるブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated substrate includes a step of forming a first buffer film having a surface of 0.1 to 10,000 nm in surface roughness R_rms on at least one of a group III nitride semiconductor substrate and a first support substrate and a step of laminating the group III nitride semiconductor substrate on the first support substrate with the first buffer film interposed.例文帳に追加

この貼り合わせ基板の製造方法は、III族窒化物半導体基板及び第１支持基板のうち少なくとも一方上に、表面粗さＲ_ｒｍｓが０．１〜１００００ｎｍの表面を有する第１緩衝膜を形成する工程と、第１緩衝膜を介して、第１支持基板にIII族窒化物半導体基板を貼り合わせる工程とを含む。 - 特許庁

In the method for manufacturing a bag-shaped separation membrane which is formed by overlapping and joining ends of a base material and one end is opened, a step of overlapping the joining ends of the base material and thermally welding, and a step of coating on a surface of the base material by a separation membrane material after thermally welding and forming a front surface layer are provided.例文帳に追加

基材の端部を重ねて接合することにより形成される、一端側が開放された袋状分離膜の製造方法において、基材の接合する端部を重ねて熱溶着する工程と、熱溶着した後に基材の表面を分離膜素材によってコーティングして表皮層を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

This shield boring method includes a step of forming circumferential grooves on the surface of the working face by means of the circumferential groove forming chain cutters 20A-20D provided on the cutter head 10 of the shield machine 1 and a step of forming radial grooves on the surface of the working face by means of the radial groove forming chain cutters 30A-30D provided on the cutter head 10.例文帳に追加

シールド掘進方法は、シールド掘進機１のカッタヘッド１０に設けた円周溝形成用チェーンカッタ２０Ａ〜２０Ｄにより切羽の表面に円周溝Ｒ(ａ)〜Ｒ(ｋ)を形成する工程と、カッタヘッド１０に設けた放射溝形成用チェーンカッタ３０Ａ〜３０Ｄにより切羽の表面に放射溝Ｌ，Ｌ…を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The process for forming the metallic layer on the surface of the substrate comprises a step wherein a metal halide layer is formed from a halogen-containing precursor and a metal-containing precursor on at least part of the surface and a step wherein the metal halide layer is exposed to a reducing agent to yield the metallic layer.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属層を堆積する方法において、前記表面の少なくとも一部の上で、ハロゲン含有前駆体及び金属含有前駆体から金属ハライド層を成長させる工程、及び前記金属ハライド層を還元剤に曝露して前記金属層を提供する工程が含まれるように構成する。 - 特許庁

The method of fabricating a GeSbTe thin film includes: a first step of forming a GeSbTe thin film on a surface of a substrate by chemically reacting a first precursor including Ge, a second precursor including Sb, and a third precursor including Te in a reaction chamber; and a second step of processing the surface of the GeSbTe thin film with hydrogen plasma.例文帳に追加

反応チャンバ内でＧｅを含む第１前駆体、Ｓｂを含む第２前駆体及びＴｅを含む第３前駆体間の化学反応により基板の表面にＧｅＳｂＴｅ薄膜を形成する第１ステップ及び前記ＧｅＳｂＴｅ薄膜の表面を水素プラズマで表面処理する第２ステップを含むＧｅＳｂＴｅ薄膜の製造方法である。 - 特許庁

A method of forming an image in an image forming apparatus comprises a step 515 for mapping a surface region of a medium on which the image is to be formed by the image forming apparatus, and a step 535 for controlling the image forming apparatus based on the mapped surface region.例文帳に追加

画像作成装置における画像作成の方法において、前記画像作成装置により画像作成すべき媒体の表面域をマッピングするステップ５１５と、前記媒体上にのみ画像作成が行なわれるように、マッピングされた表面域に基づき前記画像作成装置を制御するステップ５３５とを含むことを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the artificial organ component 1 constituting the artificial organ includes a step of seeding and cultivating a cell A producing an extracellular substrate 3 on the surface of a base material 2 and a step of sticking to the surface of the base material 2 and annihilating the cell A producing the extracellular substrate 3.例文帳に追加

人工臓器を構成する人工臓器構成材１の製造方法であって、細胞外基質３を産生する細胞Ａを基材２の表面に播種して培養するステップと、基材２表面に接着して細胞外基質３を産生した細胞Ａを死滅させるステップを含む人工臓器構成材１の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a main etching step to etch by a plasma an area which is not covered with an organic material of a film made of material containing silicon, until the surface of the oxidized film of a base material is exposed after thorough removal, and an over-etching step to further etch the surface of the exposed oxidized film by the plasma, in the separate chambers respectively.例文帳に追加

シリコンを含む材料の膜の有機材料によって被覆されていない領域を、概略除去されて下地の酸化膜表面が露出するまでプラズマエッチングするメインエッチングと、酸化膜が露出された表面をさらにプラズマエッチングするオーバーエッチングとを各々異なる別々のチャンバー内で行うことにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of mounting an electronic component 110 including an electrode 112 on the rear of a base 120 having a hole 122 formed to expose the electrode 112 to the surface of the base 120 through the hole 122, and a step of forming a wire 130 connecting the electrode 112 with the surface of the base 120 through the hole 122.例文帳に追加

電極１１２を備えた電子部品１１０を、孔１２２が形成された基体１２０の裏面側に装着し、孔１２２を通して基体１２０の表面側に電極１１２を露出させる工程と、孔１２２を通って電極１１２と基体１２０の表面側とを結ぶ配線１３０を形成する工程とを有する。 - 特許庁

This method comprises a step of ejecting ink containing an electroluminescent light-emitting material on the buffer layer 30 at a rate greater than the maximum volume rate that can be held on the top surface of the buffer layer 30 by a surface tension and a step of obtaining a light emitting layer 40 by drying the ink ejected onto the buffer layer 30.例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス発光材料を含有するインクを、バッファ層３０上に、バッファ層３０の上面内に表面張力により保持できる最大体積量よりも大きい量でもって吐出する吐出工程と、バッファ層３０上に吐出されたインクを乾燥させることにより発光層４０を得る工程とを有する。 - 特許庁