「use pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A layout pattern preparation section 27 in a lithographic process margin evaluation device 120 prepares a plurality of design layout patterns, with the use of analysis conditions and information stored in a layout pattern template holding section 22.例文帳に追加

リソグラフィプロセスマージン評価装置１２０内のレイアウトパターン作成部２７は、解析条件とレイアウトパターンテンプレート保持部２２に保存された情報とを用いて複数の設計レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

The second estimated destination and an estimated operation pattern to the second estimated destination from a current position is estimated by using measured vehicle position with stored operation pattern information combined for use.例文帳に追加

測定された車両位置を、記憶された運転パターン情報と組み合わせて使用して、第２予想目的地、及び現在位置から第２予想目的地までの予想運転パターンが予測される。 - 特許庁

To use a magnetic head having a recording element and a reproducing element which are excellent in thermal stability and a recording property and are wider than a track period of a bit pattern, even when the bit pattern is densely integrated.例文帳に追加

ビットパターンを高密度に集積した場合にも，熱安定性と記録性に優れ，ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。 - 特許庁

To provide a recording method of pattern formation to a printed circuit board for electric circuit which allows electric impedance to be constant upon the use of high frequency signal, causes no stripping of pattern and, moreover, does not require exposure time so much.例文帳に追加

高周波信号使用時に電気的インピーダンスが一定になる、パターン剥がれのない、しかも露光時間をそれほど要しない、電気回路用プリント基板へのパターン形成の記録方法を提供する。 - 特許庁

A CPU 40 calculates the inter-paper distance from a form in use, a linear speed, etc., and a color shift correction pattern selection section 45 selects a color shift correction pattern sized so as to be fit between sheets of paper.例文帳に追加

ＣＰＵ４０において、使用する用紙、線速等から紙間距離を算出し、この紙間に収まるような色ずれ補正パターンを色ずれ補正パターン選択部４５において選択する。 - 特許庁

A photoresist film 30 is formed on the inorganic insulating layer 23, subjected to light exposure of a pattern shape, and then subjected to a developing treatment with use of a developer to form a resist pattern 30B' in a developing step.例文帳に追加

そして、この無機絶縁層２３上にフォトレジスト膜３０を形成してパターン状に露光した後に、現像工程において、現像液を用いて現像することでレジストパターン３０Ｂ’を形成する。 - 特許庁

This ellipse detection device executes pattern matching to all pixels in image data of a processing target by use of a previously stored mask pattern (S2-3) to estimate normal directions of edge pixels.例文帳に追加

楕円検出装置は、予め記憶しているマスクパターンを用いて処理対象の画像データ中の全画素に対してパターンマッチングを行うことにより（Ｓ２−３）、エッジ画素の法線方向を予測する。 - 特許庁

POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

To provide a sheet for an electronic pen, which has a dot pattern enabling the use of the electronic pen in a bad environment such as an outdoor one.例文帳に追加

屋外などの悪環境下において、電子ペンを使用することができるドットパターンを有した電子ペン用シートを提供する。 - 特許庁

To provide a mobile phone whose antenna is not hindered by the head of a user when the mobile phone is in use unchanged without changing the antenna pattern and impedance.例文帳に追加

使用時にアンテナが頭部の邪魔にならず、またアンテナパターンやアンテナインピーダンスの変化の少ない携帯電話機を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition enabling production of a highly-sensitive and contrasty polyimide film pattern which can use an i line as its illuminant.例文帳に追加

光源としてｉ線が使用可能であり、高感度で、コントラストのよいポリイミド膜パターンの形成が可能な感光性組成物を得る。 - 特許庁

In this range finder device, a light pattern is projected to a subject, for example, by use of a light source array part 11 comprising the array of a plurality of light sources as LED.例文帳に追加

例えばＬＥＤのような光源を複数個配列した光源アレイ部１１を用いて、被写体へ光パタンを投射する。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus, an information processing method and a program, enabling effective use of an extracted vein pattern.例文帳に追加

抽出した静脈パターンを効果的に利用することが可能な情報処理装置、情報処理方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

These measurement values are compared with values measured in the previous plasma etching operation by the use of a pattern recognition technology.例文帳に追加

これらの測定値は次いで、パターン認識技術を使って、以前のプラズマエッチング動作中に取られた以前の測定値と比較される。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device having high degree of freedom of a processing pattern, where the improvement in use efficiency of readout light can be attained.例文帳に追加

読み出し光の利用効率の向上を図ることができると共に、加工パターンの自由度の高いレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a receiver that precisely detect a modulation system in use from the pattern of a unique word (UW) in a received signal.例文帳に追加

受信信号中のユニークワード（ＵＷ）のパターンから使用されている変調方式を精度よく検出する受信機を提供する。 - 特許庁

DIRECT ELECTROSTATIC PRINTING METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN ON CONDUCTIVE SURFACE AND USE THEREOF IN PRODUCTION OF PRINTED CIRCUITBOARD例文帳に追加

導電性表面上にレジストパタ—ンを形成するための直接静電印刷法及びプリント回路板のための作製法におけるその使用 - 特許庁

The plastic orifice plate (28) having a specific pattern of orifices is formed with the use of a photoimageable polymer (20) and photolithography.例文帳に追加

フォトイメージング可能なポリマー（２０）およびフォトリソグラフィーを用いて、規定したオリフィスのパターンを有するプラスチックのオリフィス板（２８）を形成する。 - 特許庁

To properly judge and inform the exchange time of the bobbin even when the sewing pattern is changed during the use of a bobbin.例文帳に追加

１つのボビンを使用している途中で縫製パターンが変更された場合でも、そのボビンの交換時期を適切に判定して報知する。 - 特許庁

The use of the pattern of the decimation achieves the band width a half or three-quarters in the data sampling rate after the decimation.例文帳に追加

このデシメーション・パターンを使用して、デシメーション後のデータ・サンプリング・レートの２分の１乃至４分の３の帯域幅を達成することができる。 - 特許庁

In addition, the use of the resist pattern 7 can precisely etch the base material 1 or the thin film previously formed on the base material 1.例文帳に追加

なお、このレジストパターン７を用いて基体１または基体１の上に予め形成した薄膜を精度よくエッチングすることができる。 - 特許庁

METHOD, PROGRAM PRODUCT AND APPARATUS FOR PERFORMING MODEL BASED COLORING PROCESS FOR PATTERN DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加

多重露光プロセスにおいて用いるパターン分解のためのモデルベースのカラーリングプロセスを実行するための方法、プログラム製品、及び装置 - 特許庁

To provide a method for forming a polyimide pattern containing no photosensitive agent, without having to use a water-insoluble organic solvent.例文帳に追加

非水溶性の有機溶媒を用いることなく、感光剤を含まないポリイミドのパターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

In the fusin-an (a tea room in the residence of the head of the Omotesenke (the house of Omotesen)), senke-matsuba (a pine needle pattern for exclusive use of the Senke family; which also known as kobore-matsuba) is favored, while the Urasenke (the house of Urasen) favors shiki-matsuba (covering pine needles). 例文帳に追加

表千家の不審庵には千家松葉（こぼれ松葉ともいう）、裏千家には敷松葉が好まれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

When pattern pieces for making Western clothing are cut out from cloth, a lot of pieces in various shapes mostly other than rectangular are left so, they are difficult to use for other purposes. 例文帳に追加

洋服を作るために布を切った後に余る不要な布は、長方形でない布が多く、別の目的に利用しにくい。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Therefore, if your form is using always the same pattern to display form element labels and form element html, it is recommended to use the Dynamic renderer. 例文帳に追加

もし常に同じようなパターンで要素ラベルやフォーム要素の html を出力するのなら、動的レンダラを使用するほうがお勧めです。 - PEAR

To provide a projection type display device and a control method thereof which facilitate precise focus adjustment without the use of a specific pattern.例文帳に追加

専用のパターンを使用することなく正確にフォーカス調整し易くした投射型表示装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display device, which improves use efficiency of a substrate by making a pattern region for interlayer shift measurement small.例文帳に追加

層間ズレ測定用パターン領域を小さくし、基板の利用効率を向上した表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying the requirements of wide exposure latitude, reduction in line edge roughness, a desirable pattern configuration and dry etching resistance and giving a pattern with few defects after development, and to provide a method for forming a pattern by use of the above composition.例文帳に追加

広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a release film suitable for use in a coextrusion transfer sheet, capable of transferring a pattern or a metal film pattern to be transferred accurately and clearly and capable of obtaining a beautiful transfer pattern having a high-grade feeling without reducing gloss.例文帳に追加

成形同時転写シート用として好適な離型フィルムであって、転写する図柄や金属薄膜模様が、正確かつ明瞭に転写でき、また、光沢を落とすことなく美麗な高級感のある転写模様が得られる離型フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a processing liquid for forming a pattern due to a chemically amplified resist composition superior in in-plane uniformity (CDU) and defect performance of a resist pattern and in addition, for forming the resist pattern reducing an amount of use of the processing liquid in order to stably form a highly precise fine pattern for manufacturing highly integrated and highly precise electronic device, and to provide a method for forming the pattern using it.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer mask, a transfer mask and an exposure method by the use of a photoresist which is free from partial peeling and cracks even if the film thickness of the resist pattern is increased when a support layer opening is formed by forming the resist pattern by the use of the photoresist on the silicon support layer.例文帳に追加

シリコン支持層にフォトレジストにてレジストパターンを形成して支持層開口部を形成する際、レジストパターンの膜厚を厚くしても部分剥離、亀裂等が発生しないフォトレジストを用いた転写マスクの製造方法、転写マスク及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Also, a past time-series pattern preparation part 5 designates a plurality of dates and times in the past when the use state is considered to be similar to the present use state, and extracts the parking state in the designated dates and times from the input information data base 2 as a past time-series pattern.例文帳に追加

また、過去時系列パターン作成部５は、現在の利用状況に類似していると考えられる過去の年月日時刻を複数指定し、指定した年月日時刻における駐車状況を過去時系列パターンとして入力情報データベース２から抽出する。 - 特許庁

The reduction pattern selection section 17 selects a reduction pattern from among the plurality of reduction patterns in the storage section 16 in accordance with baseline consumption acquired by the reference amount acquiring section 14 and final predictive power consumption determined by the use planned amount arithmetic section 15 in such a manner that use of resources within the unit term achieves the use reduction target.例文帳に追加

削減パターン選択部１７は、単位期間における資源の使用が使用削減目標を達成するように、基準量取得部１４で取得されたベースライン消費量と、使用予定量演算部１５で求められた最終予測消費電力量とに応じて、記憶部１６の複数の削減パターンから削減パターンを選択する。 - 特許庁

To transfer a pattern on a specimen with high accuracy by the use of an exposure device of a CP type using a beam which varies in blur with the direction of X or Y.例文帳に追加

ＸＹ方向でビームのぼけ量が異なるＣＰ方式の露光装置を用いて、試料上にパターンを高精度に転写すること。 - 特許庁

A preferred embodiment in an ArF excimer laser system is configured as a MOPA (Master Oscillator Power Amplifier) and specifically designed for use as a light source for integrated-circuit pattern lithography.例文帳に追加

好適な実施形態は、MOPAとして構成され、特に集積回路パターン転写用の光源用として設計されたArFエキシマレーザシステムである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition containing a new compound suitable for use as an acid generator for a resist composition, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

At this time, a dot pattern is generated in consideration of characteristics of a printer so that dimensions for use in decoding by a reader are readable values.例文帳に追加

このとき、読取装置が復号に使用する寸法が読取可能な値となるように印刷装置の特性を考慮してドットパターンを生成する。 - 特許庁

To detect bridge failure, without having to use additional test pattern for detecting bridge failure and reduce omissions of bridge failure detection.例文帳に追加

ブリッジ故障検出用の追加的なテストパタンを用いることなくブリッジ故障の検出を可能とし、また、ブリッジ故障の検出漏れを減らす。 - 特許庁

To provide a method of measurements of an even function component and an odd function component of aberration even if a pattern is not selected in use, and furthermore, a measurement of aberration near optical axis.例文帳に追加

パターンを使い分けなくとも収差の偶関数成分と奇関数成分を測定でき、更に光軸付近の収差も測定できる。 - 特許庁

To provide more general use by easily corresponding to the number and position of a non-printing area, if changed with the change of paging and picture pattern.例文帳に追加

面付けや絵柄の変更によって非画線部の本数や位置に変更があっても簡単に対応可能とし汎用性を向上させる。 - 特許庁

The descriptive contents are always accompanied by the descriptor and representation of the descriptive contents can be classified according to use of the descriptor (especially a pattern of appearance).例文帳に追加

記述内容は必ず記述子を伴い、その記述子の使われ方（特に出現パターン）によって記述内容の表現を分類できる。 - 特許庁

Since this can be conducted without the use of a plasma, a semiconductor device or a circuit pattern formed previously on the wafer can be avoided from being damaged by plasma.例文帳に追加

プラズマを使用せずに済むので、ウエハに先に形成された半導体素子や回路パターン等にプラズマダメージを与えるのを未然に回避できる。 - 特許庁

By use of the alignment information, a testing position is derived on the basis of the alignment information of the electrode pattern included in the model data.例文帳に追加

次に、このアライメント情報を用いて、上記機種データに含まれる電極パターン部の配列情報に基づき、検査位置が導出される。 - 特許庁