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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > use patternに関連した英語例文

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use patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1099



例文

By using the noncontact IC card function, by a user consciously using a switch pattern of the external switch 11, unauthorized use by a third party can be prevented.例文帳に追加

非接触ICカード機能使用時は、ユーザが外部スイッチ11のスイッチパターンを意識して使用することにより、第三者による不正使用を防止できる。 - 特許庁

To use a layout pattern for bulk type semiconductor device in an SOI type semiconductor device by converting it with minimum necessary alteration.例文帳に追加

バルク型半導体装置に用いられていたレイアウトパターンを必要最小限の変更でSOI型半導体装置のレイアウトパターンに変換して用いる。 - 特許庁

To obtain a photoactive compound having a high sensitivity even to a short wavelength light source and useful for forming a pattern in a high resolution in a photoresist use.例文帳に追加

レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。 - 特許庁

By molding the optical element with the use of the mold, the optical element having the antireflection structure of the random pattern can be obtained.例文帳に追加

そして、この成形型を用いて光学素子を成形することにより、ランダムなパターンの反射防止構造を有する光学素子を得ることができる。 - 特許庁

例文

To execute pasting and bookbinding by previously setting a plurality of kinds of pasting patterns and selecting an arbitrary pasting pattern according to purpose and intended use by a user.例文帳に追加

複数種の糊付けパターンを予め設定し、ユーザが目的、用途に応じた任意の糊付けパターンを選択して、糊付け製本を実施できるようにする。 - 特許庁


例文

To verify pattern data for use in manufacturing a semiconductor integrated circuit while considering a three-dimensional structure of each layer of the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の各レイヤの3次元構造を考慮しつつ、半導体集積回路を作製するために用いられるパターンデータを検証する。 - 特許庁

To optimally control torque distribution between an engine and an electric motor correspondingly to various kinds of use environment or habits of a driver regardless of a prepared control pattern.例文帳に追加

予め用意された制御パターンに依らず様々な運転者の癖や使用環境に対応してエンジンと電動機とのトルク配分を最適に制御する。 - 特許庁

Among Japanese fusuma papers, it has the widest variety such as the plain paper that makes use of the touch of torinoko, the pattern put into paper by machine and patterns accomplished by later additional processing. 例文帳に追加

鳥の子の肌合いを活かした無地、機械による漉き模様、後加工による模様付けなど、和紙ふすま紙のなかでは最も種類が多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The pattern must be simpler compared with common yuzen dyeing, but excellent works often use a free and bold composition. 例文帳に追加

絵柄的には通常の友禅染めに比べて簡潔単純なものにならざるを得ないが、優れた作品にはのびやかで自由大胆な構図のものが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

例文

To provide a lighting device and a display apparatus which can reduce the size and improve the light use efficiency while reducing the occurrence of an interference pattern.例文帳に追加

小型化および光の利用率向上を図りつつ、干渉パターンの発生を低減することが可能な照明装置および表示装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a system that can use various kinds of medium and enables to flexibly change the pattern for gathering information in response to survey objects.例文帳に追加

各種の媒体を使用することができ、調査対象に応じて情報収集のパターンを柔軟に変更することができる情報収集を行う。 - 特許庁

To provide a method capable of accurately forming a pattern on a transcribed body by a transcription method in spite of any material of a substrate in use.例文帳に追加

使用する基板の材質等に関わらず、転写法により被転写体上に高精度にパターン形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To automatically associate individual and concrete information on a taken image with the image through the use of pattern recognition, thereby easily managing the image.例文帳に追加

撮像した画像に関する個別具体的な情報をパターン認識を利用し自動的に画像に関連付けして、容易に画像を管理できるようにする。 - 特許庁

A plurality of the channels 103a are formed in the concave 103 of the workpiece 102A to be a cavity core transferring a hairline pattern to the resin with the use of a bite 110.例文帳に追加

ヘアライン模様を樹脂に転写させるキャビティコアとなる被加工物102Aの凹面103にバイト110を用いて複数の溝103aを形成した。 - 特許庁

To substantially prevent the improper use of reproductions without executing pattern-matching with all copying-inhibition objects of numerous kinds.例文帳に追加

膨大な種類の全ての複写禁止対象とのパターンマッチングを実行しなくても、それらの複写物の悪用を実質的に防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a control device in which an operation for reducing use power is not impartial to some devices even if an operation pattern is changed according to a degree of a risk exceeding an upper limit value of the use power, when controlling a plurality of equipment operated by power so as not to exceed the upper limit value of the use power.例文帳に追加

電力によって作動する複数の設備を使用電力の上限値を越えないように制御する際に、使用電力の上限値を超える危険度によって運転パターンを変更しても、使用電力を低減する運転が一部の装置に偏らない制御装置を提供する。 - 特許庁

To optimize an antireflection film for use, when patterning a resist for use in an ion implantation step and enhance throughput in the manufacture of a semiconductor device, containing a step of ion-implanting impurities in a region selected by the use of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを使用して選択された領域に不純物をイオン注入する工程を含む半導体装置の製造方法に関し、イオン注入工程において使用されるレジストをパターニングする際に使用される反射防止膜の最適化を図るとともに、スループットを向上すること。 - 特許庁

A user depresses a U key 20 and depresses a release button 16 with the U key 20 moved to a U key use position P2, when photographing by using a user set pattern F, and the user depresses the release button 16 with the U key 20 kept at a U key non-use position P1, when photographing by using an initially set function pattern.例文帳に追加

ユーザーは、ユーザー設定パターンFを使って撮影したい場合にはUキー20を押してUキー20をUキー使用位置P2に移動させた状態でレリーズボタン16を押下し、初期設定の機能パターンで撮影したい場合には、Uキー20をUキー不使用位置P1に配置したままでレリーズボタン16を押下する。 - 特許庁

The cogeneration device 1 for domestic purpose is provided with a learning function for predicting an economical operation pattern to carry out operation while carrying out learning based upon measurement results of use conditions of electric power and heat in a household, and the measurement results of the use conditions of electric power and heat can be used in situations other than prediction of the operation pattern.例文帳に追加

家庭用コージェネレーション装置1は、家庭での電力および熱の利用状況の計測結果に基づく学習を行いながら、経済的な運転パターンを予測して運転するための学習機能を備え、電力および熱の利用状況の計測結果は、運転パターンの予測以外にも利用可能となる。 - 特許庁

In the fine line drawing method, a fine pattern is formed on a substrate by prior drawing of flying and adhering a fine fluid composed of a material capable of generating electric field concentration to the substrate with the use of an electric field, and subsequently, main drawing of flying and adhering a fine fluid onto the fine pattern with the use of an electric field is carried out.例文帳に追加

電界を用いて、電界集中を起こすことが可能な材料からなる微細流体を基板へ飛翔付着させる先描画によって基板上に微細パターンを形成し、続いて、該微細パターン上に、電界を用いて、微細流体を飛翔付着させる本描写を行う微細線描写方法。 - 特許庁

The generated connection ID is used for common possession of a common key used for encryption communication, selection of a communication protocol in use and selection of a frequency hopping pattern or a spread code pattern or the like in radio communication.例文帳に追加

生成した接続IDは、暗号化通信で用いる共通鍵を互いに所有することや、利用する通信プロトコルの選択、無線通信での周波数ホッピングパターンや拡散符号パターンの選択等に利用することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formation body that can form a high-definition pattern at low cost and with good manufacturing efficiency and that can use a non-parallel light source.例文帳に追加

本発明は、製造効率よく低コストに高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ平行光でない光源を用いることが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

In this pattern definition generation device 100, a function name determination part 162 determines a function name based on log data 151, and a pattern definition generation part 163 generates a use history storage table 153 based on the log data 151 and the function name.例文帳に追加

パターン定義生成装置100は、機能名判定部162がログデータ151に基づいて機能名を判定し、パターン定義生成部163が、ログデータ151および機能名を基にして、使用履歴記憶テーブル153を作成する。 - 特許庁

A luminance modulation part 623 determines, by use of a table in which each luminance pattern is associated with each combination of a code of transmitting information and lighting/extinguishing state, a luminance pattern of the lighting tool based on the transmitting information and the lighting/extinguishing state.例文帳に追加

輝度変調部623は、送信情報の符号と点灯/消灯状態との組合せごとに灯器の輝度パタンを対応付けたテーブルを用いて、送信情報および点灯/消灯状態から灯器の輝度パタンを決定する。 - 特許庁

To provide an exposure pattern data inspection apparatus, method and program which when a printed circuit board is produced by a direct drawing system, enable exposure pattern data for use in the direct drawing process to be accurately inspected in a shorter period of time than before.例文帳に追加

プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of reducing a process cost when performing substrate processing by preventing pattern collapse when a rinse liquid is removed from the substrate where a fine resist pattern is formed, with the amount of use of hydrophobing agent being reduced.例文帳に追加

微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective coating polymer for use in ultrafine pattern formation during fabrication of a semiconductor device, an organic anti-reflective coating composition containing the same and a method for forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic panel having a new surface irregular pattern which does not exist formerly while its manufacturing method which does not impair remarkably diversity of use materials, freedom of a pattern and a transfer property which are merits of injection molding is provided.例文帳に追加

従来にない斬新な表面凹凸模様を有する無機質パネル、および、注入成形の利点である使用材料の多様性、模様の自由度、転写性を大きく損なうことのないその製造方法を提供する。 - 特許庁

To create a new possibility for recording an intensity pattern generated in a contact surface by the principle of a disturbed total reflection, which can attain the image of the intensity pattern with high resolution and less distortion by use of a simple optical means.例文帳に追加

簡単な光学手段を用いて高解像度で歪みの少ない強度パターンの結像を達成する、妨害された全反射の原理で接触面に生じる強度パターンを記録するための新たな可能性を創作すること。 - 特許庁

Since the infrared ray imaging apparatus can properly eliminate the fixed pattern noise component caused by temperature unevenness of the internal shutter 5, the imaging apparatus can correct the fixed pattern noise with the accuracy nearly the same as that of a case when a large sized external shutter at the outside of the apparatus is in use.例文帳に追加

内部シャッタ5の温度むらに起因する固定パターンノイズ成分を的確に除去できるので、装置外部の大型の外部シャッタを使用した場合と略同等の精度で固定パターンノイズの補正が可能となる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin layered product which retains excellent resolution and adhesion of a resist pattern and suppresses intrusion of air when laminated on a substrate, accordingly, being suitable for use in production of a fine conductor pattern.例文帳に追加

レジストパターンの優れた解像度および密着性を維持し、かつ感光性樹脂積層体を基板にラミネートする際のラミエアーを抑制し、もって微細な導体パターンの製造に適した感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

The storage area of the pattern data for preparing the patterns to be displayed on the display screen 20 is secured, consequently the increase of the number of pieces of the pattern data is made possible, and it is made possible to use the liquid crystal display screen of a large display screen size.例文帳に追加

表示画面20上に表示する図柄を作成するための図柄データの記憶領域を確保して図柄データの個数の増加を可能とし、表示画面サイズの大きな液晶表示画面を用いることを可能とする。 - 特許庁

To provide a sewing machine capable of finding the location of an embroidery pattern on a sewing object by use of the image photographing the sewing object even when a size of the embroidery pattern exceeds the photographic range of a photographing means.例文帳に追加

刺繍模様の大きさが撮影手段の撮影範囲を超える場合であっても、刺繍模様の縫製対象物上の配置を、縫製対象物を撮影した画像を利用して確認することができるミシンを提供すること。 - 特許庁

The whole neurons use a corresponding prototype component stored in the global memory in each input pattern component and use a related prototype norm to carry out a basic (or partial) distance calculation during distance evaluation processing.例文帳に追加

入力パターンの構成要素ごとに、すべてのニューロンが、それに保管された対応するプロトタイプ構成要素を用いて、距離評価処理中に、関連する構成要素ノルムを使用して、基本(または部分的)距離計算を実行する。 - 特許庁

When the user speaks a word meaning the purpose of use of target spectacles, a speech recognition part of a spectacle frame for the purpose of use collates patterns of the intensity, frequency, etc., of the speech received by the microphone 13 with a pattern of a specified speech.例文帳に追加

使用者が、目的の眼鏡の用途を意味する言葉を発した時、その用途の眼鏡フレームの音声認識部が、マイク13が受音した音声の強度・周波数等のパターンを所定の音声のパターンと照合する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF THE POLYMER COMPOUND, COMPOUND FOR USE IN MANUFACTURE OF THE POLYMER COMPOUND, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法、該高分子化合物の製造に使用される化合物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an information recording and reproducing device with use of the cache method which permits the most efficient use of cache memory, irrespective of an access pattern transmitted from a host computer, in addition, a recording and reproducing controller, and a data recording and reproducing controller.例文帳に追加

ホストコンピュータからのアクセスパターンに関わらずに、キャッシュメモリを最大限に有効利用できるキャッシュ方式を用いた情報記録再生装置および記録再生制御装置およびデータ記録再生制御方法を提供する。 - 特許庁

By setting a minimum data pattern in loopback corresponding to one-time among data patterns, a repetition frequency in the loopback corresponding to one-time of the minimum data pattern, and a loopback frequency, it is not necessary to use a memory for storing the data pattern, and only a change of only setting of a loopback transfer means is needed to improve the extensibility and the controllability of the loopback pattern creation.例文帳に追加

データパターンのうちのループバック1回分における最小データパターンと、最小データパターンのループバック1回分における繰り返し回数と、ループバック回数とを設定することにより、データパターンを記憶するためのメモリを用いる必要が無くなりループバック転送手段の設定のみを変更するだけでよいので、ループバックパターン作成の可制御性、拡張性を向上させることができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern form includes a step in which an agent for transforming the surface material of a substrate is attached to the surface material of the substrate in the shape of a pattern by the use of a pattern, so as to chemically transform the surface material of the substrate, thereby forming a pattern of a region chemically transformed on the surface material of the substrate.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

As an example, a first LED can contain a lens for generating such light distribution pattern as has maximum intensity at the center, while a second LED can use a lens for generating such light distribution pattern having the maximum intensity that encloses the maximum intensity of the pattern generated by the first LED.例文帳に追加

例証として、第1のLEDは、中心に最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを含むことができ、一方第2のLEDには、第1のLEDによって生成されるパターンの最大強度を囲む最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを使用することができる。 - 特許庁

The method for forming a film pattern includes the steps of (a) positioning an energy-cure material for film formation on a substrate, and (b) applying energy to the film forming material with the pattern and the film-forming material being contacted with each other, with the use of a template having a pattern having raised and recessed portions.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、(a)エネルギー硬化型の膜形成用材料を基体上に配置する工程と、(b)凸部および凹部を含むパターンを有するテンプレートを使用して、前記パターンと前記膜形成用材料とを接触させた状態で、該膜形成用材料にエネルギーを付与する工程と、を含む。 - 特許庁

Use of a low-speed test device having a small number of terminals is made possible, by controlling the first and second transistors according to a pattern signal generated by the pattern generating section, and by providing a self-diagnosis control circuit (115) for transmitting the pattern signal to the input circuit.例文帳に追加

上記パターン生成部で生成されたパターン信号に従って上記第1トランジスタ及び上記第2トランジスタを制御することでパターン信号を上記入力回路に伝達する自己診断制御回路(115)を設けることによって、端子数が少なく且つ低速な試験装置の使用を可能にする。 - 特許庁

When the fine vias or trenches are embedded in the wiring (LSI) pattern formed on a semiconductor wafer, the pattern is plated by the use of a copper electroplating solution containing an azole or silane coupling agent, or the pattern is dipped in a pretreating solution for copper electroplating containing the azole or silane coupling agent, and then electroplated with copper.例文帳に追加

半導体ウェハー上に形成された配線(LSI)パターンの微細なビアあるいはトレンチの埋め込みに際し、アゾール又はシランカップリング剤を含有する銅電気めっき液を用いてめっきするか、又はアゾール又はシランカップリング剤を含有する銅電気めっき用前処理液に浸漬した後銅電気めっきする。 - 特許庁

The information acquiring device transmits an electric wave with a frequency extending over the use band, receives an electric wave reflected by the object, extracts a pattern of intensity distribution to the frequency of the received electric wave, and compares the extracted pattern with the pattern assigned to every kind of objects to discriminate the kind of the object.例文帳に追加

そして情報取得装置は,使用帯域にわたる周波数の電波を送信し,目標物により反射された電波を受信し,受信した電波の周波数に対する強度分布のパターンを抽出し,抽出したパターンと目標物の種類ごとに割り当てられたパターンとを比較して,目標物の種類を識別する。 - 特許庁

After a non-sensitized part of the negative photoresist film 18 and light blocking photoresist film 16 is removed, a positive photoresist film 14 is sensitized by whole surface exposure with g-rays 38 for forming a resist pattern 42 having a prescribed pattern, and a connection hole 44 is formed in an insulation layer 12 by the use of the resist pattern 42.例文帳に追加

ネガ型レジスト膜18と遮光フォトレジスト膜16との未感光部分を除去したのち、g線38による全面露光によりポジ型フォトレジスト膜14を感光させて所定のパターンを有するレジストパターン42を形成し、レジストパターン42を用いて絶縁層12に接続孔44を形成する。 - 特許庁

The cushion body includes: a pattern bag 30 formed in a desired shape; the elastic resin material 35 which is injected to the pattern bag 30 and is form-molded; a headrest stay 18 connected to a seat back frame; and the weight 40 arranged and fixed with respect to the pattern bag 30 by separation from the headrest stay 18 with the use of weight stoppers 50.例文帳に追加

所望形状に形成される型袋30と、この型袋30に注入して発泡成形される弾性樹脂材35と、シートバックフレームと連結するヘッドレストステー18と、錘留め具50にてヘッドレストステー18と離間して型袋30に対して固定配置される錘40とを備える。 - 特許庁

To prevent a head part from receiving a radiated radio wave and to prevent the directivity of a radiation pattern from being disturbed by preventing an antenna radiation source from approaching the head part during the use of a portable telephone set.例文帳に追加

携帯電話の使用中に、アンテナ輻射源が頭部に接近しないようにして、頭部に輻射電波を受けず、且つ、輻射パターンの指向性が乱れないようする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition ensuring good resolution and a good section shape of a pattern and suitable for use as a positive type resist having a good margin for exposure.例文帳に追加

良好な解像度、パターン断面形状が得られるとともに、露光マージンが良好なポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To make effective use of a light emitted from a light source by minimizing light blocked off by an adjusting shade for switching a lighting pattern between a high beam and a low beam.例文帳に追加

照射パターンを走行ビーム及びすれ違いビームに切り換える調整シェードによって遮られる光を少なくして、光源からの光を有効活用する。 - 特許庁

例文

A wafer image near a position serving as a position measurement spot at the time of search alignment is fetched (step S200), and a unique pattern is detected for use as a template candidate (step S300).例文帳に追加

サーチアライメント時に位置計測箇所となる位置近傍のウエハ画像を取り込み(ステップS200)、ユニークなパターンを検出してテンプレート候補とする(ステップS300)。 - 特許庁




  
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