「use pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a tube container having a three-dimensional pattern which can put the homogeneous three-dimensional pattern in a short time by an operation different from heating and suction by the use of simple equipment, can be manufactured inexpensively, and contributes to CO_2 reduction, ecology, and resource saving.例文帳に追加

簡易な設備を用い、加熱や吸引とは異なる操作で、均質な立体模様を短時間で付すことが可能で、安価に製造可能であると共に、ＣＯ_2削減やエコロジー、省資源化に資する立体模様を有するチューブ容器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.例文帳に追加

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The partition 621 coordinated with reference to the management information 71 with the use of the identification information of the drawing pattern to be drawn is specified, and the drawing data are outputted to an optical head 41 at a fast transfer rate to quickly draw the drawing pattern.例文帳に追加

描画対象の描画パターンの識別情報を用いて管理情報７１を参照することにより対応するパーティション６２１が特定され、描画データが光学ヘッド４１に高速な転送レートにて出力され、描画パターンが高速に描画される。 - 特許庁

To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern of an excellent shape, a method for forming a resist pattern, a photobase generator for use in the resist composition, and a new compound useful as the photobase generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。 - 特許庁

By adopting the reflector 7 and using the lens 5 whose half value angle in the vertical direction is larger than that in the horizontal direction of a radiation pattern (light distribution pattern), the desirable communication angle is provided in terms of practical use and the communication distance is made longer.例文帳に追加

反射板７の採用と、放射パターン（配光パターン）の水平方向の半値角よりも垂直方向の半値角が広い投光レンズ５を用いることで、実用上、好ましい通信角を備えるとともに通信距離も長いものを得たものである。 - 特許庁

To provide a decorative plate which is free from the omission of an image in case it happens to be a microdecorative pattern; prevents itself from being hurt by wear and contact even when an image has a sharp edge; and can effectively use a metallic luster peculiar to the decorative pattern.例文帳に追加

微小の装飾パターンであっても画像の脱落がなく、またエッジの鋭い画像であっても磨耗および接触による負傷を防止でき、かつ装飾パターンが本来有する金属光沢を有効に利用できる装飾プレートを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern setting device for functional switches of heavy equipment providing a user with convenience in use and improving work efficiency by freely changing a set pattern of functions performed by each functional switch of heavy equipment for driving a working device.例文帳に追加

本発明は、作業装置を駆動する重装備の各機能スイッチが果す機能の設定パターンが自由に変更できることで、作業者に使用上の便利さを与え、且つ、作業の効率性が向上される重装備の機能スイッチパターン設定装置を提供する。 - 特許庁

As a result, since a slight difference between the peaks of the standard pattern and the measurement pattern, and the acuities of the peaks, are used as information, this method can identify the material of the object with higher accuracy than conventional material identification methods which use only the positions of the peaks as information.例文帳に追加

この結果、標準パターンおよび測定パターンのピークの若干のずれ、また、ピークの鋭敏度などを情報とするので、ピークの位置のみを情報とする従来の材質識別方法と比較して、さらに正確に対象物の材質を識別することができる。 - 特許庁

Commonly needed functions to search for files and directories Search methodsSearch methods-- Types of methods what can be used in search functions Search methods and their patterns All search functions use $pattern parameter to specify match for filenames. 例文帳に追加

ファイルやディレクトリツリーを検索するために共通で必要となる関数群検索方法検索方法--検索関数で使用可能な方法の種類検索方法とそれらのパターン 全ての検索関数は、ファイル名をマッチさせるために指定する$pattern パラメータを使用します。 - PEAR

To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the laminate photospacer is formed, a shading pattern formed by using an inkjet method or a printing method is arranged on a part having no use for the laminate photospacer on a resist for forming the laminate photospacer to be masked and after that, the whole surface of the substrate is exposed and next, the shading pattern and the unexposed resist for forming the laminate photospacer on the part of the shading pattern part are removed.例文帳に追加

前記積層フォトスペーサを形成する際に、積層フォトスペーサ形成用レジスト上の積層フォトスペーサを不要とする部分に、インクジェット法または印刷法を用いて形成された遮光パターンを配置してマスキングし、その後基板を全面露光し、その後、前記遮光パターンと遮光パターン部分の未露光の積層フォトスペーサ形成用レジストを除去する。 - 特許庁

To increase the influence of a means for modulating a game by the effective use of effect sound by synchronizing with the fine change of a pattern variation pattern by a pattern variation screen, synchronizing with the informing timing by each display, and properly using the effect sound according to the contents of information (including a player's feeling) when informing by the display.例文帳に追加

図柄変動画面による図柄変動パターンの細かい変化に同期させ、かつ各表示による報知時期と同期させると共に、表示による報知の際に報知内容（遊技者の感情を含む）に応じて効果音を使い分けることで、効果音を有効利用することができ、遊技にメリハリをつける手段としての影響力を増大させる。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

The photomask pair includes a first photomask for use in a fist step and a second photomask for use in a second step subsequent to the first step, wherein a first monitor mark includes a monitor pattern 140 for monitoring element dimensions of a lower layer.例文帳に追加

第１工程において用いられる第１フォトマスクと、該第１工程の後の第２工程において用いられる第２フォトマスクとからなるフォトマスクペアにおいては、第１のモニタマークは、下層の素子寸法をモニタするためのモニタパターン１４０が設けられている。 - 特許庁

After the FULL button 30 is depressed, the computer 23 sends article picking data in use stored in a memory 40 and an operating pattern in use stored in a memory 39 stored in a travelling controller 37 to a work managing device 6 at a start point on the guide passage.例文帳に追加

満杯ボタン３０の押圧操作を受けてコンピュータ２３はメモリ４０に記憶した使用中の集品データと、走行用コントローラ３７のメモリ３９に記憶した使用中の運行パターンとを誘導路のスタート地点の作業管理装置６に送信する。 - 特許庁

A new event detection section 108 detects a nonsteady behavior in operation of appliances, which is different from that in a steady state, as a new event which is not present in the past use environment, from the flow pattern of the measured flow, under the environment for use of the fluid.例文帳に追加

新事象検知部１０８は、計測された流量の流量パターンから、流体の使用環境下において、従前の使用環境には存在しない事象である新事象として、器具運転時における定常時と異なる非定常的挙動を検知する。 - 特許庁

The determining means 31a in fulfillment of an execution condition and the game state determining means 31b use a common module 31e in determination of the fluctuation pattern.例文帳に追加

また、実行条件成立時判定手段３１ａと遊技状態決定手段３１ｂは、変動パターンの判定または決定の処理において、共通モジュール３１ｅを使用する。 - 特許庁

To enhance the accuracy of control of a color tone by properly setting a pixel of interest for the control, in terms of a method and a device for controlling the color tone of a pattern for use in a printer.例文帳に追加

印刷機の絵柄色調制御方法及び装置に関し、制御のための注目画素を適切に設定して、色調制御の精度を向上させることができるようにする。 - 特許庁

In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.例文帳に追加

そのＸ線回折パターンには、ＢａＣＯ_３の（１１１）面のピークが存在し、このピークの耐久後強度（Ｉ_Ａ）と初期強度（Ｉ_Ｆ）との強度比Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｆが、０．２〜１である。 - 特許庁

The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁

To enable a conductor and a passenger to confirm a reservation status and use status, etc. of each seat by a display pattern displayed by each indicator associated with each seat.例文帳に追加

この発明は、各座席に対応づけられている各表示器が表示している表示パターンにより車掌や乗客は、各座席の予約状況や利用状況などを確認できる。 - 特許庁

Depths of focus (S40, S80) are calculated with the use of a line pattern to be a standard as observation data, and the depths of focus calculated are used as indices of performance evaluation (S42, S82).例文帳に追加

観察資料として基準となるラインパターンを用いて焦点深度を算出し（Ｓ４０、Ｓ８０）、算出した前記焦点深度を性能評価の指標として用いる（Ｓ４２、Ｓ８０）。 - 特許庁

To provide a decorative sheet having an image pattern on the surface of a product, whose appearance changes during use, thereby preventing the consumer from being bored with the product appearance during its useful time.例文帳に追加

加飾シートを用いて製品の表面に形成される絵柄の外観を使用している間に変化させ、耐用寿命の間消費者が製品の外観に飽きるのを防止すること。 - 特許庁

To provide a solder resist layer having high reflection coefficient ensuring excellent ability in formation of fine pattern and highly efficient use of light emitted from LED or the like and also provide a print wiring board including the solder resist layer.例文帳に追加

ファインパターン化に優れると共に、ＬＥＤ等の光を効率よく利用し得る高反射率のソルダーレジスト層と、該ソルダーレジスト層を有するプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To use a few short-length feed pins to power an antenna element composed of a conductive pattern formed on a member for cabinet of a radio apparatus by a method, for example, plating.例文帳に追加

無線装置の筐体用部材に例えばめっき等の方法によって形成された導体パターンからなるアンテナ素子に対し、少数で丈の短い給電ピンを用いて給電する。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

When the user manually moves the work to overlap a terminal pattern thereon along various guide lines L1-L3, and determines the hole position, the user instructs an image registration by use of an input device.例文帳に追加

そして、ユーザが手動でワークを移動し、各種案内線Ｌ１〜Ｌ３に沿って端子パターンを重ね合わせ、抜き穴位置を決定すると、ユーザは入力装置を用いて画像登録を指示する。 - 特許庁

A mask is fabricated with use of mask creation data DBM after the correction, and thereafter the mask is mounted to the exposure apparatus and a predetermined pattern is transferred onto a semiconductor wafer.例文帳に追加

その補正後のマスクの作成データＤＢM を用いてマスクを製造した後、そのマスクを上記露光装置に装着して半導体ウエハ上に所定のパターンを転写するものである。 - 特許庁

To provide an electrode structure of a semiconductor device, which is restrained from decreasing in manufacturing yield and capable of making a pattern recognition and a semiconductor laser device which is manufactured by the use of the same.例文帳に追加

歩留りの低下を阻止することができて、しかもパターン認識できる半導体素子の電極構造およびそれを用いて作製された半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a voice packet processor for use with voice applications employing a fast pattern processor(FPP) and a routing switch processor(RSP) that retrieve and transmit protocol data units(PDUs).例文帳に追加

プロトコルデータユニット（ＰＤＵ）を送受する高速パターンプロセッサ（ＦＰＰ）およびルーティングスイッチプロセッサ（ＲＳＰ）を採用する音声アプリケーションと共に用いる音声パケットプロセッサを提供する。 - 特許庁

The conductive pattern 12 forms capacitance for anti-crosstalk as well as anti-reflection with the use of a parallel part within a single side of the board 11 and a polymerized part between both sides of the board 11.例文帳に追加

導体パターン１２は、基板１１の片面内の平行部分と、基板１１の両面間の重合部分とを利用して漏話対策用、反射対策用の容量を形成する。 - 特許庁

A presentation performance state showing the performance of the preliminary presentation is reported by use of a liquid crystal reporting part 36 displayed on the visible display part H of a pattern display device.例文帳に追加

そして、図柄表示装置の可視表示部Ｈに表示された液晶報知部３６を用いて、予告演出が実行されていることを示す演出実行状況を報知する。 - 特許庁

To provide a mounting machine for shortening an imaging time required for a plurality of prescribed positions by an individual piece arrangement pattern when using an imaging apparatus capable of imaging by the use of an area camera.例文帳に追加

エリアカメラにより撮像可能な撮像装置を用いた場合に、個片配置パターンにおける複数の所定位置の撮像時間を短縮することが可能な実装機を提供する。 - 特許庁

To provide a method of generating complementary masks based on a target pattern having features to be imaged on a substrate for use in a multiple-exposure lithographic imaging process.例文帳に追加

多重露光リソグラフィ写像プロセス中で使用される、基板上に写像されるフィーチャを有する目標パターンに基づく相補的マスクを生成するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having statisfying, at the same time, characteristics of sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness for the use of KrF excimer laser, electron beams and X rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The second mask pattern is transferred to the second area of the resist film by exposing the second area, which is adjacent with partially laid over to the first area of the resist, with use the second mask.例文帳に追加

第２のマスクを用いて、レジスト膜の第１の領域に部分的に重なって隣接する第２領域を露光することにより、レジスト膜の第２領域に第２のマスクパターンを転写する。 - 特許庁

To obtain a resist material that makes good use of the rectilinear propagation of electrons as a characteristic of an electron beam at a high accelerating voltage and attains high throughput while retaining high pattern line width controlling capability.例文帳に追加

高加速電圧電子線の特性である電子の直進性を生かし、高いパターン線幅制御性を維持したまま、高スループットを得ることができるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To directly form a resist pattern on an Al alloy surface for use in an electrode pad or a wiring, and to cause etching residues not to be produced, when Al alloy film is selectively dry-etched.例文帳に追加

電極パッドや配線に用いられるＡｌ合金表面上に直接レジストパターンを形成し、Ａｌ合金膜を選択的にドライエッチングしたとき、エッチング残渣が発生しないようにする。 - 特許庁

To provide a photocurable composition excellent in sensitivity, temporal storage stability and adhesion and suitable for use as a solder resist or for direct pattern formation with ultraviolet to violaceous laser light.例文帳に追加

感度、経時保存安定性、密着性に優れソルダーレジスト用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に好適な光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a circuit board which can make the resistivity of a circuit pattern small and can use an insulation substrate formed of a material having a low heat-resistance value, and also to provide the circuit board.例文帳に追加

回路パターンの比抵抗値を小さくでき、また耐熱温度の低い材料からなる絶縁基板を用いることができる回路基板の製造方法及び回路基板を提供する。 - 特許庁

Use of such drive signals COM allows satellite droplets to land so as to be superimposed on main droplets having landed, resulting in an improvement of the shape precision of the pattern.例文帳に追加

このような駆動信号ＣＯＭを用いることで着弾後のメイン液滴にサテライト液滴を重畳して着弾させることができ、パターンの形状精度の向上が図られる。 - 特許庁

To enable multi-history and high-speed printing without causing an increase in the scale of a circuit of hardware to the utmost, while making use of advantage brought about by generating a history pattern of thermal history control by using software.例文帳に追加

ソフトウェアを用いて熱履歴制御の履歴パターン生成を行うことによる利点を活かしつつ、ハードウェアの回路規模を極力増やさずに多履歴の高速印字化を可能にする。 - 特許庁

To provide a conductive composition to use for manufacturing a conductive pattern having a conductive path with a decreased cross-section area while maintaining high conductivity and low resistivity.例文帳に追加

高い伝導率および低い抵抗率を維持しながら、減少した断面積を有する導電路を有する伝導性パターンの製造に使用するための伝導性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a 3D panel board for use in a light emitting panel device, which clarifies the 3D effect by causing a prescribed pattern comprising an irregular structure to stand out when a panel body is irradiated with light.例文帳に追加

パネル本体に光線が照射されたときに、凹凸構造から成る所定のパターンを浮き立たせ、３Ｄ効果を明瞭化する発光パネル装置に用いる３Ｄパネル版を提供する。 - 特許庁