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waveguide methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2476件
In the method for manufacturing the optical waveguide device, the substrate including a pyroelectric crystal having a certain bulk resistant value is prepared, the substrate is heated for a certain time and moreover at a certain temperature under a reduced pressure environment, and whereby the bulk resistance of the substrate is set to 1013 Ω.cm or less.例文帳に追加
本発明の他の対応によれば、本発明の光学導波路デバイスを製造する方法は、あるバルク抵抗値を有するピロ電気クリスタルを含む基板を用意し、この基板を減圧環境の下で、ある時間、かつある温度で加熱して、基板のバルク抵抗を10^13Ω・cm以下にさせる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a polymer optical waveguide which has a plurality of kinds of cores, differing at least in thickness inner layer within the same plane and/or a plurality of different kinds of cores differing in refractive index in the same plane, at low cost and in a simple manner.例文帳に追加
同一平面内層に少なくとも厚み方向寸法が異なる複数種類のコア及び/又は同一平面内に屈折率の異なる複数種類のコアを備えた高分子光導波路を、簡便な方法により低コストで製造する方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing the polygonal semiconductor ring laser comprises steps of growing an n-type AlGaAs clad layer 11, an active layer region 12, an AlAs-current constriction layer 13, and a p-type AlGaAs clad layer 14 on an n-type GaAs substrate in Fig. (a); and patterning a first resist 1 thereon, in a shape of an optical waveguide.例文帳に追加
(a)において、n型GaAs基板上に、n型AlGaAsクラッド層11、活性層領域12、AlAs電流狭窄層13と、p型AlGaAsクラッド層14を成長させ、その上に第一のレジスト1を光導波路の形状にパターニングする。 - 特許庁
The method of manufacturing the optoelectric composite member includes: a step in which an electric wiring plate is laminated on a lower support; a step in which an upper support is laminated; a step in which the lower support is peeled off; and a step in which the optical waveguide is formed on the peeled off face of the lower support.例文帳に追加
本発明は、下部支持体上に電気配線板を積層する工程、上部支持体を積層する工程、下部支持体を剥離する工程、及び前記下部支持体の剥離面に光導波路を形成する工程を有する光電気複合部材の製造方法である。 - 特許庁
In a method of forming a grating, light for exposure is transmitted through a phase mask satisfying an expression (1) to obtain diffracted light, and an optical waveguide component which has photosensitivity is arranged in an area diffracted light beams interfere with each other to form a periodic light intensity distribution, and then exposed.例文帳に追加
式(1)を満たす位相マスクに露光用の光を透過させて回折光とし、該回折光が互いに干渉し合い周期的な光強度分布となる領域に、光感受性をもった光導波路部品を配して、該光導波路部品を露光しグレーティングを形成する構成とする。 - 特許庁
The manufacturing method of the optical waveguide 1 has a process for forming the laminated body and a process for forming the reinforcing part 6 different from the 1st cladding layer 2 at at least one side of the light incident and emitting end sides other than the middle part 5 of the laminated body by projecting it from the surface of the 1st cladding layer.例文帳に追加
前記積層体を作製する工程と、前記積層体の中間部分5を除く光入出射端側の少なくとも一方に、第1クラッド層2とは別の補強部6を、第1クラッド層2の面から突出して形成する工程とを有する、光導波路1の製造方法。 - 特許庁
To provide an SSC chip in which improvement of the yield and simplification of the step are attained compared with a conventional PLC chip having an optical waveguide circuit to which a spot size converter (SSC) is added, and to provide a fiber array with SSC, a PLC module with SSC, and a method for manufacturing the SSC chip.例文帳に追加
スポットサイズ変換器(SSC)を付加した光導波路回路を有する従来のPLCチップよりも歩留まりの向上と工程の簡素化を図れるSSCチップ、SSC付きファイバアレイ、SSC付きPLCモジュールおよびSSCチップの製造方法を提供する。 - 特許庁
A GaN buffer layer 14, an n-type GaN contact layer 16, an n-type AlGaN clad layer 18, and an n-type GaN optical waveguide layer 20, are successively grown on a (c) surface sapphire substrate 12 at 1,000°C by an MOCVD method, in the same way as conventional manner.例文帳に追加
本方法では、従来と同様にして、MOCVD法により1000℃で、c面のサファイア基板上12上に、GaNバッファ層14、n型GaNコンタクト層16、n型AlGaNクラッド層18、及びn型GaN光導波層20を順次成長させる。 - 特許庁
By the manufacturing method for the optical waveguide, unevenness (waving) of a wafer is removed by heat-treating the wafer where a plurality of optical waveguides are formed on a uniform curved surface and the wafer is uniformly curved, so it is made easy to control stress generated by subsequent processing.例文帳に追加
また、本発明による光導波路の製造方法によれば、光導波路が複数形成されたウエハを一様な曲面上に載置して加熱処理することにより、ウエハの凹凸(うねり)が除去され、一様に湾曲するため、その後の加工により発生する応力の制御が容易になる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical module which has a small number of components as well as high reliability, and which can be manufactured at a low cost, wherein time and labor for adjusting optical axes are reduced when optically coupling an optical transmission path and an optical semiconductor element using an optical waveguide for optical path conversion.例文帳に追加
光伝送路と光半導体素子とを光路変換用光導波路を用いて光結合させる際に、光軸の調整にかかる手間を低減し、かつ、少ない構成部品数で信頼性が高く、ローコストに製造が可能な光モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the photoelectric composite substrate includes: a first process of sticking an optical waveguide on the substrate surface of a substrate with metal foil via an adhesive layer; and a second process of making the metal foil of the substrate with the metal foil into a conductor pattern to construct an electric wiring board.例文帳に追加
金属箔付き基板の基板表面に接着剤層を介して光導波路を張り合わせる第1の工程と、金属箔付き基板の金属箔を導体パターン化して電気配線基板を構築する第2の工程を有する光電気複合基板の製造方法である。 - 特許庁
To provide an optical waveguide device which enables the yield to be improved and which makes alignment possible, highly accurately and easily, for an optical collimation or converging means for the purpose of efficient optical incidence and emission, and also to provide its manufacturing method as well as an optical information processor and electronic equipment.例文帳に追加
歩留りを向上させることができ、効果的な光入出射を行うための光のコリメーション又は集束手段を高精度かつ容易にアライメントすることができる光導波装置及びその製造方法、並びに光情報処理装置及び電子機器を提供すること。 - 特許庁
To obtain a chip, a manufacturing method for the chip and a chip storing module storing the chip by which a higher yield is obtained from one wafer with respect to a grating in which a shape occupied by the whole element on the wafer like an array waveguide grating is formed into a shape other than a rectangle.例文帳に追加
アレイ導波路格子のようにウェハ上における素子全体の占有する形状が矩形以外の形状となっているものについて、1つのウェハからより多くの収量を得ることのできるチップ、そのチップの製造方法およびそのチップを収容したチップ収容モジュールを得ること。 - 特許庁
A first electrode film pattern 108 for the waveguide other than the stripe is a pattern for positioning used by a infrared transmission method when packaging.例文帳に追加
加工性に優れ、埋込層形成の結晶成長工程にも耐えうる耐熱性の金属材料、非金属材料、または化合物材料を第一の電極膜101に用いることで、電極形成先行プロセスにおいて埋込導波路を作製し、埋込型光導波路素子の高速化を実現する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the optical waveguide substrate by forming a quartz glass film on the heated silicon 1 by exposing the silicon to steam and oxidizing the silicon, the steam generated by causing the molecular vibration of continuously replenished pure water of about room temperature at the highest by microwaves is supplied to the silicon.例文帳に追加
加熱されたシリコン1を水蒸気に曝露して酸化することで石英ガラス膜を形成し、光導波路基板を製造する方法であって、連続的に補給される高くても室温程度の純水をマイクロ波により分子振動させて発生する該水蒸気を、該シリコンに供給する。 - 特許庁
In the optical waveguide which is composed of a substrate 10, a core 20 formed on the substrate 10 and a clad 30 formed so as to cover the core 20 and its manufacturing method, the core 20 is formed so that the cross section shape is rectangular and moreover at least one or more corner parts 40 are rounded.例文帳に追加
基板10と、その基板10上に形成されたコア20と、そのコア20を覆うように形成されたクラッド30とからなる光導波路及びその製造方法において、上記コア20の断面形状が矩形状でかつ少なくとも1か所以上の角部40が丸みを帯びるように形成する。 - 特許庁
To surely and correctly adjust a prescribed input coupling of optical output emitted from a light-emitting device to an optical waveguide fiber in compliance with the wishes curing manufacturing, without increasing adjusting cost, manufacturing cost and expense cost, in an optical fiber transmission element and its assembling method.例文帳に追加
光ファイバ送信エレメントとその組み立て方法とを提供し、製造中に光出射装置から光導波ファイバへ出射される光出力の所定の入力結合を所望に応じて確実かつ正確に、さらに調整コスト、製造コスト、費用コストを増大させずに調整できるようにする。 - 特許庁
In the method for producing the plastic lens or the optical waveguide which is obtained by arranging a light source, the light transmittable mold, and a photosetting resin composition in this order and photo-curing the photosetting resin composition by making it to be irradiated with light through the light transmitting mold, the light transmittable mold has light diffusing properties.例文帳に追加
光源、光透過性モールド及び光硬化性樹脂組成物をこの順で配置し、光透過性モールドを通して光を照射して光硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られるプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法において、光透過性モールドが光拡散性を有するものとする。 - 特許庁
The method of manufacturing an optical waveguide includes: a cutting process in which a linear core part is formed by cutting a core film having a first refractive index for forming core part; and a coating process in which the periphery of the linear core part is coated by a clad material having a refractive index smaller than that of the first refractive index.例文帳に追加
本発明の光導波路の製造方法は、コア部を形成するための第1屈折率を有するコアフィルムを、切断して線状のコア部を形成する切断工程と、前記線状のコア部の周囲を、前記第1屈折率よりも低い屈折率を有するクラッド材料で覆う被覆工程と、を有する。 - 特許庁
To provide a method of improving positional accuracy of an electrode and an optical waveguide and directly mounting/manufacturing a surface emitting optical element on an optical path conversion element highly accurately by passive mounting, in a multichannel optical path conversion element comprising a plurality of optical waveguides and a mirror and converting the direction of an optical path made incident from the surface of the element.例文帳に追加
複数の光導波路とミラーによって構成され、素子表面から入射した光路の方向を変換する多チャンネルの光路変換素子において、電極と光導波路の位置精度を高め、高精度にパッシブ実装で面発光素子を光路変換素子へ直接実装製造できる方法を提供する。 - 特許庁
A manufacturing method of an optical waveguide comprises a first step for forming a layer 910 containing a polymer 915; and a second step for forming a refractive index distribution in the layer 910 by irradiating the layer 910 with an active radiation beam 930, isomerizing or dimerizing a part of a chemical structure in the polymer 915.例文帳に追加
ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に対して活性放射線のビーム930を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。 - 特許庁
The method includes a step wherein a workpiece including a layer of a material suitable for a waveguide strip is provided, the layer is patternized so that the workpiece includes a base part 101 and at least one projected part, a cladding layer 115 is formed on the projected part, and the cladding layer 115 is attached to a substrate 120.例文帳に追加
この方法は、導波路ストリップに適した材料の層を含んでいるワークピースを提供し、ワークピースがベース部101と少なくとも一つの突出部とを含むように、その層をパターン化し、クラッディング層115を突出部上に形成して、クラッディング層115を基板120に取り付けるステップを含んでいる。 - 特許庁
As a method for linking microwaves in the directional couplers 30A, 30B, there is provided on a printed-circuit board 31 a detector 40 comprising micro strip lines that are formed in the length of an eighth wavelength of the microwave used and the microwaves propagating inside a waveguide are detected by the detector 40.例文帳に追加
方向性結合器30A,30Bにおけるマイクロ波との結合方法として、プリント基板31上に、使用するマイクロ波の1/8波長の長さに形成したマイクロストリップ線路からなる検出部40を設け、この検出部40により導波管内を伝搬するマイクロ波の検出を行う。 - 特許庁
To provide an optical coupler which can reduce optical fiber coupling loss for an optical waveguide having a large specific refractive index difference, has large manufacture tolerance, a high yield, a small size, and large position tolerance, and is equipped with a spot size converting function and can be formed at an arbitrary position on a substrate, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
比屈折率差が高い光導波路に対して光ファイバ結合損失を小さくでき、製造トレランスが高く、高歩留まりであり、小型で位置トレランスも大きく、基板上の任意の位置に形成可能なスポットサイズ変換機能を有する光結合器及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing such a refractive index diffraction grating that can maintain the effect to enhance the changes in the refractive index by irradiation with UV rays for a long time without depending on the time having passed after the addition of hydrogen molecules to an optical waveguide and that has stable spectral characteristics can be obtained.例文帳に追加
光導波路への水素分子添加後の経過時間にかかわりなく、紫外光照射による屈折率変化量の増大効果を長期にわたって維持することができ、さらには安定したスペクトル特性を有する屈折率回折格子を得ることができる屈折率回折格子の作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide both of the light waveguide device and a fluorometric analyzer for quantitatively detecting the quantity of fluorescence from fluorescent protein with high reproducibility, especially the micro-change in the quantity of fluorescence caused by an external factor with high reproducibility, and a detection method of a chemical substance using them.例文帳に追加
蛍光タンパク質からの蛍光量を高い再現性で定量的に検出することができ、特に、外的な要因による微小な蛍光量変化を高い再現性で定量的に検出することができる光導波路デバイスと蛍光分析装置並びにそれを用いた化学物質の検出方法を提供する。 - 特許庁
By the manufacturing method of the optical waveguide, while impressing high frequency power to a susceptor 40 which supports a first clad 12 having a groove 12b on the first clad 12 using a plasma CVD device 200, a core film 14a having a groove 14b corresponding to the groove 12b is formed first.例文帳に追加
本発明の光導波路の製造方法によれば、まず、溝12bを有する第1クラッド12上に、プラズマCVD装置200を用いて第1クラッド12を支持するサセプタ40に高周波電力を印加しながら、その溝12bに対応する溝14bを有するコア膜14aを成膜する。 - 特許庁
To provide an optical output controller and the control method thereof that can facilitate determination processing and control processing for an indication value and increase efficiency of table data stored in a memory regardless of materials and structures of a thin film heater and an optical waveguide and even when a plurality of single VOAs are integrated to high density.例文帳に追加
薄膜ヒータや光導波路の材質や構造に関係なく、かつ複数の単一VOAを高密で集積した場合にも、指示値の決定処理や制御処理が簡便であり、さらにメモリに格納するテーブルデータの効率化も高めることが可能な光出力制御装置およびその制御方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method has a first process to form a clad layer 12 possessing a projected part whose side surface is inclined on a surface on a base plate 10, a second process to form a reflection film 13 on the side surface of the projected part of the clad layer 12 and a third process to form the optical waveguide 14 on the projected part of the clad layer 12.例文帳に追加
この製造方法は、側面が傾斜した凸部を、表面に有するクラッド層12を基板10上に形成する第1の工程と、クラッド層12の凸部の側面上に、反射膜13を形成する第2の工程と、クラッド層12の凸部の上に、光導波路14を形成する第3の工程とを有する。 - 特許庁
To provide a new method for controlling the refractive index of an optical material by which an optical material can be applied to various optical devices such as a fiber grating and an optical waveguide by enhancing the mechanical strength and transparency of the optical material, the refractive index can be exactly controlled and control can be carried out at a low cost because of a simple process.例文帳に追加
光学材料の機械的強度、透明性を向上させることにより、ファイバグレーティング、光導波路等の各種光学デバイスに応用でき、かつ屈折率を精密に制御でき、また工程が簡素であるため安価に実施できる、新規な光学材料の屈折率制御方法を提供すること。 - 特許庁
The method for producing the integrated optoelectronic device (1) includes the steps for providing the substrate (4), providing at lest one optoelectronic component (2) on the substrate (4), providing at least one of sol-gel glass waveguides (9a...9n) on the substrate (4) and optically connecting the waveguide to at least one optoelectronic component (2).例文帳に追加
集積光電子ディバイス(1)を製造する方法は、基板(4)を用意し、基板(4)の上に少なくとも1つの光電子部品(2)を設け、そして基板(4)の上に少なくとも1つのゾル−ゲルガラス導波路(9a…9n)を設け、かつ少なくとも1つの光電子部品(2)に光学的に接続させる工程を含む。 - 特許庁
In the method of manufacturing the optical waveguide, a core layer is formed on the surface of an underclad layer and an overclad layer is formed so as to cover the surface of the core layer or no overclad layer is formed, wherein at least one layer of the underclad layer, the core layer and the overclad layer is formed by using a photo-curable resin sheet 2a, 3a, 4a.例文帳に追加
アンダークラッド層の表面にコア層を形成し、そのコア層の表面に、オーバークラッド層を被覆形成するかもしくは形成しないで光導波路を製造する方法であって、上記アンダークラッド層,コア層およびオーバークラッド層の少なくとも1層を、光硬化性樹脂シート2a,3a,4aを用いて形成する。 - 特許庁
In the method of manufacturing a quartz glass-based optical waveguide by forming a quartz glass-based core and clad on a quartz glass- based substrate and then heat treating it, the heat treatment is carried out on a jig having a layered structure consisting of a heat-resistant plate, first spacer plate and second spacer plate.例文帳に追加
石英ガラス基板上に石英ガラス系コア及びクラッドを形成した後、熱処理を施すことにより石英ガラス系光導波路を製造する石英ガラス系光導波路の製造方法において、前記熱処理を耐熱性板と第一スペーサ板と第二スペーサ板とから成る積層構造型治具の上で施したことにある。 - 特許庁
A manufacturing method of an optical waveguide comprises a first step for forming a layer 910 containing a polymer 915; and a second step for forming a refractive index distribution in the layer 910 by irradiating the layer 910 with an active radiation beam 930, isomerizing or dimerizing a part of a chemical structure in the polymer 915 to change a refractive index.例文帳に追加
ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線のビーム930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。 - 特許庁
A manufacturing method of an optical waveguide comprises a first step for forming a layer 910 containing a polymer 915; and a second step for forming a refractive index distribution in the layer 910 by irradiating the layer 910 with an active radiation beam 930, isomerizing or dimerizing a part of a chemical structure in the polymer 915 to change a refractive index.例文帳に追加
ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を異性化または二量化させ、屈折率を変化させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。 - 特許庁
In a method for manufacturing the optical waveguide device, an under clad layer 2 and a core layer 3 are deposited on a quarts substrate 1 and further a cap layer 4 whose refractive index is equal to that of the under clad layer 2 is deposited on the core layer 3 successively under the same value of high frequency power by the use of a plasma CVD(chemical vapor deposition) device.例文帳に追加
本発明に係る光導波路デバイスの作製方法によれば、プラズマCVD装置を用いて、高周波電力値同一の下で、石英基板1上にアンダークラッド層2とコア層3と、さらにコア層3の上に、屈折率がアンダークラッド層2と等しいキャップ層4とが順次形成される。 - 特許庁
The method for manufacturing the high polymer optical waveguide having at least a clad layer and a core formed on the clad layer is characterized in that the core is formed by supplying composition for forming the core part only to the part at which the core is formed on the clad layer.例文帳に追加
クラッド層と、該クラッド層上に形成されたコアとを少なくとも有する高分子光導波路の製造方法であって、前記コアは、前記クラッド層上にコア部分形成用組成物をコアとなるべき部分にのみ供給して形成することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for forming transparent glass films which is capable of simultaneously treating multiple sheets even in a limited soaking range, does not allow air bubbles to remain in the glass films, is capable of forming a clad glass film for a low-loss optical waveguide and can suppress the generation of foreign matter by chipping of a jig or a furnace core tube.例文帳に追加
限られた均熱範囲でも多数枚を同時に処理することができ、ガラス膜中に気泡が残留せず、低損失な光導波路用のクラッドガラス膜を形成でき、しかも治具や炉芯管のかけによる異物の発生を抑えることができる、透明ガラス膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a simulation method for two-dimensional magnetic field, its program and a recording medium with the program recorded, capable of accurately calculating two-dimensional TM-mode electromagnetic field (TE mode for slab waveguide) in the case that two regions with different dielectric constants contact with a boundary of a straight line.例文帳に追加
誘電率が異なる2つの領域が1つの直線を境界として接している場合の二次元TMモード電磁界(スラブ導波路としてはTEモード)を高い精度で計算することを可能とする二次元電磁界シミュレーション方法、そのプログラム、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する事。 - 特許庁
To provide a surface emitting laser which has an enlarged waveguide diameter, even with the diameter, a fundamental transverse mode light propagation can be obtained by making small a refractive index difference between an oxidation region and a non-oxidation region constituting a current constriction structure, and thereby light output of the surface emitting laser is increased, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加
電流狭窄構造を構成する酸化領域と非酸化領域との屈折率差を小さくすることにより、基本横モード光伝搬が得られる導波路径を大きくすることができ、光出力を増大させることが可能となる面発光レーザおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a forming method of a metal oxide thin film pattern by which distribution of refractive index in an inorg. optical waveguide, photonic band and interference mirror having small transmission loss and excellent heat resistance can be produced and which is advantageous for the surface imaging process in semiconductor microfabrication and for the formation of a fine metal wiring pattern.例文帳に追加
伝搬損失が小さく、耐熱性に優れた無機系の光導波路やフォトニックバンド、干渉鏡などの屈折率分布を形成でき、かつ半導体微細加工における表面イメージング工程や、微細金属配線パターンの形成に有用な、金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the optical waveguide film having a distribution of the refractive index in a light transmitting polymer film, a solution containing polymerizable monomers and a polymerization initiator is supplied by an ink jet method to only a part where the gradient of the refractive index is required in the light transmitting polymer film, and then the polymerizable monomers are polymerized to produce a distribution of the refractive index.例文帳に追加
透光性高分子フィルム中に屈折率分布を設けた光導波路フィルムの製造法において、該透光性高分子フィルム中に、重合性モノマーと重合開始剤を含む溶液をインクジェット法により屈折率分布の必要な部分にのみ供給した後、該重合性モノマーを重合させて、屈折率分布を設けることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the optical waveguide comprising a core and upper and lower clads between which the core is held comprises: a patterning process of performing the patterning of the core shapes by irradiating the surface of core material stacked on the lower part clad material with laser beams; and a development process of developing the core material on which the core shapes are patterned.例文帳に追加
コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされたコア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。 - 特許庁
To obtain a nonlinear optical material which is a waveguide type nonlinear optical material and effectively can performs poling without using a conductive polymer as a lower cladding layer, has a large electro-optic effect and excellent stability, and provide a method of manufacturing the same, and a nonlinear optical element using the nonlinear optical material.例文帳に追加
導波路型の非線形光学材料であって、下部クラッド層に導電性ポリマーを用いることなく有効にポーリングを行うことができ、電気光学効果が大きく、しかも安定性に優れる非線形光学材料、及びその製造方法、並びに上記非線形光学材料を用いた非線形光学素子を得ることである。 - 特許庁
In the method for manufacturing a ridge type or buried optical waveguide, a core part formation part on a flat lower clad layer 2 is coated with a primer in advance, and a dispenser is used to directly write with a transparent resin having a refractive index higher than that of the lower clad layer on the primer coated part, thus forming a core part.例文帳に追加
リッジ型又は埋め込み型光導波路の製造方法において、平坦な下部クラッド層2上のコア部形成部分に、予めプライマーを塗布し、プライマー塗布部の上に下部クラッド層よりも屈折率の高い透明樹脂を、ディスペンサーを使用して直接描画することにより、コア部3を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 特許庁
A grating 30, constituted of an n-type AlGaN layer, is formed by a selective growth method using lateral growth via a selective growth mask 32 formed of a dielectric film on the n-type AlGaN clad layer 18, and embedded by the n-type GaN optical waveguide layer 20 whose index of refraction is different from that of the n-type AlGaN layer.例文帳に追加
n型AlGaN層からなる回折格子30は、誘電体膜で形成された選択成長マスク32を介してn型AlGaNクラッド層18上にAlGaNの横方向成長性を利用した選択成長法により設けられ、n型AlGaN層とは屈折率の異なるn型GaN光導波層20で埋め込まれている。 - 特許庁
In a method of controlling operation of the certain mechanism having the separable component, preferably, the dispenser, electromagnetic radiation passing through the waveguide mounted at least partially on the separable component is measured, and the mechanism is operated only when the measured electromagnetic radiation agrees with one or more parameters selected in advance.例文帳に追加
離脱可能なコンポーネントを有するある機構、好ましくはディスペンサ、の作動を制御する方法であって、離脱可能なコンポーネント上に少なくとも部分的に担持された導波管を通過する電磁放射線を測定し、測定された電磁放射線が一以上の予め選択されたパラメータに合致する場合にのみ上記機構を作動させる方法。 - 特許庁
The manufacturing method of a nitride semiconductor laser element includes the steps of: laminating an n-type epitaxial layer, an active layer 14, and a p-type epitaxial layer; forming a waveguide structure by a striped ridge part 19 on the p-type epitaxial layer; and forming a photoresist film 70 to be shaped to cover only the ridge part 19.例文帳に追加
この窒化物系半導体レーザ素子の製造方法では、n型のエピタキシャル層と、活性層14と、p型のエピタキシャル層とを積層する工程と、p型のエピタキシャル層にストライプ状のリッジ部19による導波路構造を形成する工程と、リッジ部19のみを被覆する形状となるようにフォトレジスト膜70を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
A method for manufacturing a ridge type semiconductor laser comprises: a semiconductor stacked layer forming step S1 for forming a semiconductor stacked layer 23 having an active layer 13 and an etching stop layer 17; a first semiconductor stacked layer etching step S3; a semiconductor part forming step S5; a ridge waveguide part forming step S7; and a semiconductor diffracting grating element forming step S9.例文帳に追加
リッジ型半導体レーザの製造方法は、活性層13とエッチングストップ層17を含む半導体積層23を形成する半導体積層形成工程S1と、第1半導体積層エッチング工程S3と、半導体部形成工程S5と、リッジ導波路部形成工程S7と、半導体回折格子要素形成工程S9とを備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing optical waveguides, by which a treatment comprising reacting a structural defect present in a light propagation part of the optical waveguide, e.g., an optical fiber, with deuterium molecules or hydrogen molecules having the same effect as that of the deuterium molecules can be performed in a shorter period of time, and a plurality of optical fibers can be collectively and simultaneously treated.例文帳に追加
本発明の目的は、光導波路、例えば光ファイバの、光が伝播する部分に存在する構造欠陥と重水素分子あるいはこれと同じ効果を有する水素分子とを反応させる処理を、より短時間に、かつ複数本の光ファイバを同時に一括処理できる光導波路の製造方法を提供することある。 - 特許庁
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