「x-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An address signal 10 which represents the address signal of track which is one of servo information is composed of a pattern 12 representing a gray code and a phase pattern 14 which extends over a plurality of tracks and intersects obliquely to the track direction X.例文帳に追加

サーボ情報の一つであるトラックのアドレス情報を示すアドレス信号10をグレイコードを示すパターン12と、複数トラックに跨って延びる、トラック方向Ｘに斜めに交叉する位相パターン14とにより構成する。 - 特許庁

Areas selected at random out of many dot pattern areas 36 arrayed in an X direction and a Y direction by the size of a width (b) × the width (a) on an original plate pattern 35 are set to be light-shielded dots 37A-37E.例文帳に追加

原版パターン３５上に幅ｂ×幅ａでＸ方向、及びＹ方向に多数配列されたドットパターン領域３６の内からランダムに選択された領域を遮光ドット３７Ａ〜３７Ｅとしておく。 - 特許庁

Moreover, the thickness X of the conductor pattern 7 is equal to 90-115% of the distance Y between two conductor patterns 7 adjacent in the lamination direction, and the edges 5c, 5d of the conductor pattern 7 in the widthwise direction thereof are rounded.例文帳に追加

そして、導体パターン７の厚みＸは、積層方向に隣り合う導体パターン７の間の距離Ｙの９０〜１１５％の厚みとなっており、導体パターン７の幅方向の縁部５ｃ，５ｄは丸みを帯びている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁

A pattern image P formed on a running body is imaged on a light incident face of the photodetector 100, and the pattern image P on the light incident face is moved in the x-axis direction in accordance with running of the running body.例文帳に追加

走行体に形成されたパターンの像Ｐが光検出器１００の光入射面上に結像され、走行体の走行に応じて、光入射面上のパターン像Ｐはｘ軸方向に移動する。 - 特許庁

The horizontal movement determination means 6 generates and outputs signals of movement in X and Y directions on the basis of changes of the picked-up pattern design.例文帳に追加

水平動判断手段６は、撮像されたパターン模様の変化に基づいて、Ｘ方向、Ｙ方向への移動信号を生成して出力する。 - 特許庁

In addition, the coefficient of variation of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is set at 40% or lower.例文帳に追加

そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の変動係数を４０％以下とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた軟Ｘ線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

Small holes 6 arrayed in one line at predetermined spaces in the tire peripheral direction T are arranged in the pattern elements A, B, C, D, and they are different in axial length x.例文帳に追加

タイヤ周方向Ｔに所定の間隔で１列に配列した小孔６がパターン要素Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに配置され、その軸方向長さｘが異なっている。 - 特許庁

An imaging apparatus 3 picks up a state that the object M is conveyed in the X axis direction and passes through the slit pattern image from an angle different from that of the projector 2.例文帳に追加

撮像装置３は、物体ＭがＸ軸方向に搬送されスリットパターン像を通過する様子を、プロジェクタ２とは異なる角度から撮像する。 - 特許庁

Consequently, the vertical one row portion of the wafer 15 is exposed to a pattern by projecting the X-ray 10 upon the all patterns 11 of one vertical row.例文帳に追加

これによって、上下一列のパターン１１の全部にＸ線１０が照射することで、ウエハ１５における上下一列分にパターン露光される。 - 特許庁

The compound preferably has an X-ray refraction pattern in which the ratio of peaks on its (003) plane and (104) plane, I(003)/I(104) is 0.4-0.9.例文帳に追加

該化合物は、そのＸ線回折パターンにおける（００３）面と（１０４）面とのピーク比であるＩ（００３）／Ｉ（１０４）が０．４〜０．９であることが好ましい。 - 特許庁

A crank angle of the crank pattern 12a is 90 degrees and has both of a straight line component extending in the X direction and a straight line component extending in the Y direction.例文帳に追加

クランクパターン１２ａのクランク角は９０度であり、Ｘ方向に延びる直線成分とＹ方向に延びる直線成分の両方を有している。 - 特許庁

Deviation in density of the gradation pattern image is then determined based on the gap of the density matching position x from a reference position thus detecting error of the ink ejection characteristics.例文帳に追加

濃度一致位置ｘの基準位置からのずれに基づいてグラデーションパターン画像の濃度偏差を求め、これによりインク吐出特性の誤差を検出する。 - 特許庁

That is, when the pattern for the detection is shifted in an X direction, it is measured by detecting (distance between V1 and V2)-(distance between V2 and V3).例文帳に追加

つまり、検出用パターンがＸ方向にずれた時には、（Ｖ１とＶ２間の距離）−（Ｖ２とＶ３間の距離）を検出することにより、測定できる。 - 特許庁

A plurality of p+ collector layers 16 and p+ emitter layers 17 are provided in a line pattern extending in the Y direction orthogonal to the X direction between the n+ base layers 15.例文帳に追加

ｎ^＋ベース層１５の間に、Ｘ方向に直交するＹ方向に延びるラインパターンのｐ^＋コレクタ層１６及びｐ^＋エミッタ層１７を、複数設ける。 - 特許庁

By integrating y=f(x) in the standard coordinates used upon calculating the coordinate data, the area of the pattern is obtained and one-dimensional data can be converted into two-dimensional data.例文帳に追加

座標データを算出する際に使用した基準座標でｙ＝ｆ（ｘ）を積分するとパターンの面積が得られ、二次元データへの変換が可能となる。 - 特許庁

A pattern forming region PA of the photomask M is obtained by repeatedly disposing, in a Y direction, a beltlike one-unit region U1 which extends along an X direction.例文帳に追加

このフォトマスクＭのパターン形成用領域ＰＡは、Ｘ方向に沿って延びる帯状の１ユニット領域Ｕ１をＹ方向に繰り返し配置してなる。 - 特許庁

The memorized traveling time for similar traveling time pattern of N hours ahead at the section X of the road is determined as predicted traveling time.例文帳に追加

そして、走行時間記憶テーブルの中の、走行時間の似ているパターンのＮ時間先の道路区間Ｘの走行時間記憶値を、走行時間予測値とする。 - 特許庁

Related to the coat 12, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.例文帳に追加

皮膜１２は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁

To realize an x-ray generation system that produces a converging or diverging radiation pattern particularly suited for substantially cylindrical or spherical treatment devices.例文帳に追加

実質的に円柱形または球形処理装置に特に適している収束または発散放射パターンを生成するＸ線照射装置の実現。 - 特許庁

After selecting a dipolar illumination orientation, dipole-X is used to illuminate a pattern and to image first elements on a wafer, but not second elements.例文帳に追加

ダイポール照明の配向を選択した後、ダイポールＸを使用してパターンが照明され、ウェーハ上に第１の要素を結像するが、第２の要素は結像しない。 - 特許庁

Related to silicon carbide, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.例文帳に追加

かつ，炭化珪素体は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁

To provide a resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving an excellent square pattern profile.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Zirconium hydroxide having an X-ray diffraction pattern exhibiting amorphous characteristics and a BET specific surface area of 250 m^2/g or more is prepared.例文帳に追加

水酸化ジルコニウムを、Ｘ線回折パターンが非晶質の特徴を示し、かつ２５０ｍ^２／ｇ以上のＢＥＴ表面積を有するものとする。 - 特許庁

A zeolite, including the X-ray pattern of xxxx, whose formula is [M2 O]0-9[Q+]1-50[Al2O3]1[SiO2]30-1000[H2O]0-2000, wherein M in the formula is an alkali metal and Q is tetraalkylethylenediamine. 例文帳に追加

０～９M2O・１～50Q＋・Al2O3・30～1000SiO2・０～2000H2Oで表される組成を有し、式中Mはアルカリ金属、Qはテトラアルキルエチレンジアミンであり、×××のＸ線パターンをもつゼオライト。 - 特許庁

An edible adhesive is applied on the upper surface 2 of a receiving body 1 and a punched die sheet wherein the shape of a pattern X is punched is piled up on the upper surface 2.例文帳に追加

受け本体１の上面２に可食性の接着剤を塗布し、上面２に図柄Ｘの形状を打ち抜いた打抜型シートを重ねる。 - 特許庁

To provide at a low cost an X-ray mask with a structure having a high aspect ratio absorber pattern by ensuring a large exposure area by improving a thin film strength.例文帳に追加

薄膜の強度を上げて大きな露光面積を確保し、高アスペクト比の吸収体パターンを持つ構造のＸ線マスクを低コストで提供する。 - 特許庁

To provide at low cost an X-ray mask which has structure having an absorber pattern with a high aspect ratio by securing large exposure area by increasing the strength of a thin film.例文帳に追加

薄膜の強度を上げて大きな露光面積を確保し、高アスペクト比の吸収体パターンを持つ構造のＸ線マスクを低コストで提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In addition, another mask area 12 with the Y-direction pattern P2 arranged therein is exposed to an electron beam EB having smaller out-of-focus in the X-direction as compared with the Y-direction.例文帳に追加

また、Ｙ方向パターンＰ２が配置されたマスク領域１２にはＹ方向に比べてＸ方向のぼけが小さい電子線ＥＢで露光する。 - 特許庁

Then the mileage (mode mileage) X in case the vehicle is driven in the diagnostic driving pattern is calculated using the result of the calculation and the fuel consumption map.例文帳に追加

そして、その計算結果と燃料消費マップとを用いて診断用走行パターンで車両を走行させた場合の燃費（モード燃費）Ｘを算出する。 - 特許庁

The second antenna pattern 30 is constituted of a pair of conductor patterns 31, 32 symmetrically formed on both sides of the substrate 12 with respect to the centerline X.例文帳に追加

第２のアンテナパターン３０は、基板１２の中心線Ｘに関して両側に対称に形成された一対の導体パターン３１、３２から構成されている。 - 特許庁

The graphite powder having a spacing of (002) planes in c axis determined by a lattice constant precision measuring method from X-ray diffraction pattern of 3.368 Å or less is preferably used.例文帳に追加

黒鉛粉末は、Ｘ線回折図から格子定数精密測定法で求めたｃ軸(002) 面格子間隔の値が3.368 Å以下であるのが好ましい。 - 特許庁

The polymorphic crystals of donepezil hydrochloride (I)-(IV) and (V) expressed by chemical formula (A) characterized in a powder X-ray diffraction pattern and an infrared absorption spectrum are provided.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折パターンおよび赤外吸収スペクトルにおいて特徴付けられる、下記化学式で表される塩酸ドネペジルの多形結晶(I)〜(IV)と(V)。 - 特許庁

This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ+0.1) of 3.4, 10.2, 13.7, 17.1 and 20.7°.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、３．４、１０．２、１３．７、１７．１及び２０．７度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁

To easily acquire the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a short time.例文帳に追加

不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を短時間で容易に取得することを実現する。 - 特許庁

Such a magnesium-alloy sheet as has a highest proportion between the peak of the (111) face and its equivalent peak in the X-ray diffraction pattern is used.例文帳に追加

Ｘ線回折パターンにおける（１１０）面のピーク及びこれと等価なピークの比率が最も高くなるようなマグネシウム合金薄板を用いる。 - 特許庁

This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ±0.1) of 10.1, 10.4, 15.5, 17.0, 20.0 and 20.2°.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、１０．１、１０．４、１５．５、１７．０、２０．０及び２０．２度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁

Since the number of pixels in the one cycle is obtained from the moire pattern projected on the X-ray image, the line defect can be accurately corrected.例文帳に追加

Ｘ線画像に写りこんだモアレパターンから、その１周期における画素数を求めているので、正確にライン欠損を補正することができる。 - 特許庁

Then, size of a minute gap existing at the contact part is calculated based on the integrated X-ray intensity, an intensity pattern to be calculated from the two-dimensional X-ray intensity distribution image is simultaneously analyzed to estimate the surface shape.例文帳に追加

そして、この積算Ｘ線強度に基づいて接触部位に存在する微小間隙の大きさを求めるとともに、２次元Ｘ線強度分布画像から求まる強度パターンを解析して表面形状を推定する。 - 特許庁

The reflecting mask comprises a substrate 1, an X-ray reflecting multilayer film 2 formed on the substrate 1, and an absorber layer 3 of a material of low X-ray transmissivity which is formed on it and has a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明の反射マスクは、基板１と、該基板１上に形成されたＸ線反射多層膜２と、その上に形成されたＸ線の透過率の低い物質からなり且つ所定のパタンを有する吸収体層３とを具備する。 - 特許庁

A correction arithmetic calculation part 62 arithmetically calculates the average value AV(X) of output gradation values between the respective test images at respective pixel positions X in a main scanning direction for every density pattern based on the image data of the respective read test images.例文帳に追加

補正演算部６２は、読み取った各テスト画像の画像データに基づいて、各濃度パターン毎に、主走査方向の各画素位置Ｘにおける各テスト画像間の出力階調値の平均値ＡＶ（Ｘ）を演算する。 - 特許庁

A solution liquid in which a fluorine-containing polymer (A) substantially having no reactive functional group (x) is solved in a solvent is applied on the pattern of a mold 4 having the reverse pattern of the fine pattern, and the solvent is removed at a temperatures below 80°C to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、８０℃未満で溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁

The reversal pattern of a mold having the reversal pattern of the fine pattern is coated with a solution, which is prepared by dissolving a fluorine-containing polymer (A) not substantially containing a reactive functional group (x) in a solvent, and the solvent is removed to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁