「x-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

An optical master disk 100 is configured by including a substrate member 1 in which a predetermined rugged pattern is formed, and a tungsten oxide film 2 in which 55 (atomic %)<X<60 (atomic %) and Y=100-X (atomic %) when the atomic composition percentage ratio of oxygen is defined as X and the atomic composition percentage ratio of tungsten is defined as Y.例文帳に追加

所定の凹凸パターンが形成された基板部材１と、基板部材１の凹凸パターン上に形成され、酸素の原子組成百分率比をＸ、タングステンの原子組成百分率比をＹとすると、５５（atomic %）＜Ｘ＜６０(atomic %)かつＹ＝１００−Ｘ(atomic %)である酸化タングステン膜２と、を含んで光ディスク原盤１００を構成する。 - 特許庁

With this constitution, a blast angle and a rotary angle can be respectively optimized independently, and the crystal azimuth 12 is accurately and easily adjusted, with respect to the respective directions of incident X rays 2A and diffracted X rays 3A and enables measurement of the X-ray diffraction pattern of the lattice surface 11 of the single-crystal substrate 10 with high accuracy.例文帳に追加

これにより、あおり角と回転角とをそれぞれ独立して最適化することができ、入射Ｘ線２Ａおよび回折Ｘ線３Ａの各方向に対して結晶方位１２を正確かつ容易に調整し、単結晶基板１０の格子面１１におけるＸ線回折パターンを高精度に測定することができる。 - 特許庁

In an encoder, pattern strings of a scale 20 are periodically aligned in a Y direction perpendicular to an X direction and comprises a plurality of areas 23A, 25A having pitches different from each other in the X direction, such that an energy distribution amplitude of the area 25A changes in accordance with a position of the scale in the X direction.例文帳に追加

エンコーダにおいて、スケール２０のパターン列はＸ方向に垂直なＹ方向に周期的に配列され、Ｘ方向にそれぞれ異なるピッチを有する複数の領域２３Ａ、２５Ａを有し、領域２５Ａのエネルギー分布の振幅がスケールのＸ方向の位置に従って変化するように構成されている。 - 特許庁

The image forming apparatus scans a pattern image formed on other kinds of recording media Z being different from a specific kind of recording medium X to obtain luminance information (i(Z)) on the other kinds of recording media Z, and converts the obtained luminance information (i(Z)) into density information (d(X)) corresponding to the specific kind of recording medium X.例文帳に追加

本発明によれば、特定の種類の記録媒体Ｘとは異なる他の種類の記録媒体Ｚ上に形成されたパターン画像を読み取って取得された他の種類の記録媒体Ｚについての輝度情報（ｉ（Ｚ））を、特定の種類の記録媒体Ｘにおける対応する濃度情報（ｄ（Ｘ））に変換する。 - 特許庁

A photo mask B has an inspection pattern 12 composed of line groups arranged with regular spacings in directions X, Y so that lines gradually shift to lie on the holes, together with a pattern concerning the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

フォトマスクＢは半導体集積回路に関係するパターンと共に、上記各ホール上に次第にずれて乗るようにＸ方向、Ｙ方向それぞれに規則性を持つ間隔で並べられた各ライン群でなる検査パターン１２を有する。 - 特許庁

Check patterns CP1-CP3 consisting of a gradation pattern are printed by the not yet adjusted printer and the gradation pattern image is scanned by the sensor S thus specifying the position x where the density matches to the reference density.例文帳に追加

その未調整のプリント装置によってグラデーションパターンからなるチェックパターンＣＰ１〜ＣＰ３を印刷するとともに、このグラデーションパターン画像をセンサＳにより走査して、基準濃度と濃度の一致する位置ｘを特定する。 - 特許庁

The layout and spaces of the embroidery pattern are determined from the inputted repetition number and the moving quantity in the X-Y directions (S8), and the layout of the repeated embroidery pattern is displayed on the display device (S9).例文帳に追加

入力された繰返し数とコピー図形のＸ方向及びＹ方向の移動量とから、刺繍模様の配置及びそれらの間隔が決定され（Ｓ８）、表示装置に繰返し刺繍模様の配置が表示される（Ｓ９）。 - 特許庁

To make possible to draw the high precision line pattern, increasing degree of freedom in drawing a high precision line pattern, determine a defect and measure a length, not only forming a linear beam to a X-axis and a Y-axis directions, but also forming a linear beam to a certain direction.例文帳に追加

Ｘ軸、Ｙ軸方向の線形ビームを形成するだけでなく、任意の方向の線形ビームは形成して、高精度なラインパターン描画の自由度を増し、高精度なパターン描画、欠陥検査、測長を可能する。 - 特許庁

The CPU 201 decides a second adjusting value so that positions of the pattern images for registration adjustment 5015A to 5018A are aligned with each other, and positions of the pattern images for registration adjustment 5015B to 5018B are aligned with each other, in a main scanning direction X.例文帳に追加

主走査方向Ｘについてレジスト調整用パターン画像５０１５Ａ〜５０１８Ａの位置が互いに一致し、レジスト調整用パターン画像５０１５Ｂ〜５０１８Ｂの位置が互いに一致するように第２調整値を決定する。 - 特許庁

To provide an X-ray mask which can be manufactured by relatively simple facilities, is not strained against heat generation in exposure to hardly have its X-ray absortpion pattern broken, and optical transparent to facilitate multiple exposure.例文帳に追加

比較的簡単な設備で作製でき、露光時の発熱によっても歪むことがなく、Ｘ線吸収体パターンが破壊され難く、光学的に透明で多重露光を容易に行なうことができるＸ線マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, even if heating occurs in the X-ray film by emitting the laser beam, the temperature rise of the X-ray film is suppressed, and the marking pattern MP of high quality can be formed without bringing about a performance failure such as sensitizing or desensitizing.例文帳に追加

これにより、レーザービームが照射されることによりＸレイフィルムに発熱が生じても、Ｘレイフィルムの温度上昇を抑え、増減感などの性能故障を生じさせることなく、高品質のマーキングパターンＭＰを形成することができる。 - 特許庁

By obtaining the difference between the obtained measurement results D1, D2, the displacement amount of the pattern 21 itself in the X axis direction is canceled out, and the amount of variation of the position of the stage 1 during movement at each position in the X axis direction is calculated.例文帳に追加

そして、得られた測定結果Ｄ１，Ｄ２の差分をとることにより、パターン２１自体のＸ軸方向の変位量を相殺し、移動中のステージ１の各位置におけるＸ軸方向についての位置の変化量を算出する。 - 特許庁

Wiring 105 to be measured is placed at the center, and wiring width W, wiring interval S, wiring formation region X/Y, and data ratio D of wiring to be actually wired in the wiring formation region X×Y are variably changed so that the test pattern of wiring can be prepared.例文帳に追加

被測定配線１０５を中心に置き、配線幅Ｗ、配線間隔Ｓ、配線の形成領域Ｘ、Ｙ、配線形成領域Ｘ×Ｙに実際に配線される配線のデータ率Ｄを種々変えた配線のテストパターンを作成する。 - 特許庁

The stamper can be produced by a method including: a stage where a rugged pattern is formed on a substrate; a stage where a layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is formed on the rugged pattern; and a stage where the adhesion face among the substrate, the rugged pattern and the layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is peeled.例文帳に追加

こうしたスタンパは、基板上に凹凸パターンを形成する工程と、その凹凸パターンの上にＸ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０の層を形成する工程と、前記基板及び前記凹凸パターンと、前記Ｘ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０の層との密着面を剥離する工程とを含む方法で製造できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV rays in which the resist pattern profile and changes in the line width in the post exposure period in a vacuum chamber are improved.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Thus, most of the incident X-rays are stopped in the incident surface of the scintillator 31 and converted into visible light photons ph, after transmission through the read out pattern P.例文帳に追加

したがって、入射されたＸ線は読み出しパターンＰを透過した後にシンチレータ３１の入射面側で大部分が停止して可視光フォトンｐｈに変換される。 - 特許庁

In AC erasure processing, the HDC/MPU 23 uses an allowable range defined by (X+y) PES, and only writing of an AC pattern is prohibited at a head position of 115f.例文帳に追加

ＡＣイレーズ処理において、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は（Ｘ＋ｙ）ＰＥＳで規定される許可範囲を使用し、１１５ｆのヘッド位置のみがＡＣパターンの書き込みを禁止される。 - 特許庁

The additional means reads the pattern image to prepare brightness information (I(Z)) and determines a difference between predetermined brightness information (I(X)) and the brightness information (I(Z)).例文帳に追加

追加手段は、パターン画像を読み取って輝度情報（Ｉ（Ｚ））を作成し、予め設定された輝度情報（Ｉ（Ｘ））と輝度情報（Ｉ（Ｚ））との差分を求める。 - 特許庁

To provide an electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, excellent in PCD and capable of giving a pattern profile excellent in rectangularity.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、ＰＣＤに優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.例文帳に追加

そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁

To provide an X-ray mask which is equipped with a circuit pattern for transfer, having high position precision and can be manufactured through a simplified manufacturing process and the manufacturing method for the mask.例文帳に追加

高い位置精度を有する転写用回路パターンを備え、簡略化した製造工程で製造することが可能なＸ線マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The IItype crystal of (±) 2-(dimethylamino)-1-{[O-(m-methoxyphenethyl)phenoxy]methyl}ethyl hydrogen succinate hydrochloride that can be characterized by the specific pattern in the powdery X ray diffraction peak shown by Figure.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折スペクトルが図１に示すパターンを有する、（±）２−（ジメチルアミノ）−１−{〔Ｏ−（ｍ−メトキシフェネチル）フェノキシ〕メチル} エチル 水素サクシナート塩酸塩のII形結晶。 - 特許庁

The I type crystal of (±) 2-(dimethylamino)-1-{[O-(m-methoxyphenethyl)phenoxy]methyl}ethyl hydrogen succinate hydrochloride that can be characterized by having the pattern shown in Figure in the powdery X ray diffraction peak.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折スペクトルが図２に示すパターンを有する、（±）２−（ジメチルアミノ）−１−{〔Ｏ−（ｍ−メトキシフェネチル）フェノキシ〕メチル} エチル 水素サクシナート塩酸塩のＩ形結晶。 - 特許庁

The catalyst component for olefin polymerization comprises a laminar ion-exchangable silicate having a peak at a 2θ of 61.70° to 61.97° in the X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

Ｘ線回折において、２θ＝６１．７０°〜２θ＝６１．９７°にピークを有するイオン交換性層状珪酸塩からなることを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。 - 特許庁

The anode material contains a carbonaceous material having a diffraction peak between 2θ diffraction angles of 30 to 32° in an X-ray (CuKα) powder diffraction pattern.例文帳に追加

負極材料は、Ｘ線（ＣｕＫα）粉末回折パターンにおける２θ回折角３０度〜３２度の間に回折ピークを有する炭素質材料を含有する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

An inspection image containing the normal pattern superposed on the X-ray transmission image is further displayed on a monitor device, and an input of determination by an inspector is accepted.例文帳に追加

さらにこの正常パターンをＸ線透視画像に重ね合わせた画像を含む検査用画面をモニタ装置に表示し、検査員の判定入力を受け付ける。 - 特許庁

The method for manufacturing the grid for removing the scattered X-ray includes the steps of mounting support plates 4, 5 on a substrate 12, setting the substrate 12 to a container 8, filling a photosetting resin liquid 7, and pattern exposing to a laser beam source 6.例文帳に追加

基板１２に支持板４、５を取り付け、基板１２を容器８にセットし、光硬化性樹脂液７を入れ、レーザ光源６によりパターニング露光する。 - 特許庁

The rugged pattern sheet is characterized in that one surface has rugged structure Z formed by superposing rugged structure X and rugged structure Y which satisfy the following conditions.例文帳に追加

一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Ｘと凹凸構造Ｙが重畳した凹凸構造Ｚとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a new and improved lower panel for a PDP capable of forming a high-definition barrier rib pattern with high form accuracy by utilizing an X-ray.例文帳に追加

Ｘ線を利用して高精細の隔壁パターンを高い形状精度で成形できる、新規かつ改良されたＰＤＰ用下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

By using an unmagnified mask 12 formed so that a plurality of identical patterns 11 may be arranged in one vertical row, X-ray 10 is projected upon one pattern of the mask 12 at the same mgnification.例文帳に追加

複数の同じパターン１１が上下一列に並ぶように形成されている等倍マスク１２を用い、Ｘ線１０を等倍マスクの一つのパターンに照射される。 - 特許庁

The part of each protrusion 12a constituting the rugged pattern 12 which is opposite to the translucent substrate 11 is formed into an asymmetrical shape relative to the X axis.例文帳に追加

凹凸パターン１２を構成する各凸部１２ａの、透光性基板１１と反対側の部分は、ｘ軸に対して非対称な形状に形成されている。 - 特許庁

After the forming beams 21 reached an upper left region of the circuit pattern 16a, the substrate stage 12 and mask stage 17 are slid to a -X direction by a pitch P.例文帳に追加

次に、成形ビーム２１が回路パターン１６ａの左上の領域に達した後に、基板ステージ１２及びマスクステージ１７をピッチＰ分だけ−Ｘ方向にずらす。 - 特許庁

To provide a two-dimensional position sensor comprising a substrate with a sensitive area defined by a pattern of electrodes including electrodes for determining an x-position and electrodes for determining a y-position.例文帳に追加

ｘ位置を決定する電極およびｙ位置を決定する電極を含む電極パターンによって画定される感応エリアを有する基材を備える２次元位置センサ。 - 特許庁

A laser controlling apparatus is equipped with a bar-code marker to form a bar code including the item information, the slit number and the cut number as a marking pattern in the X-ray film.例文帳に追加

また、レーザー制御装置には、バーコードマーカーが設けられており、マーキングパターンとして品種、スリット番号、カット番号を含むバーコードをＸレイフィルムに形成する。 - 特許庁

A pixel pattern having a diffraction grating formed by arranging grating lines directed at the azimuth angle θ to an X axis is allocated to a pixel positioned at the reference point P.例文帳に追加

基準点Ｐに位置する画素には、Ｘ軸に対して方位角θをなす方向を向いた格子線を配置してなる回折格子を有する画素パターンを割り付ける。 - 特許庁

The electron emission film 1 having an X-ray diffraction pattern of diamond, constituted by a plurality of diamond particles with the size of 5 nm to 10 nm is formed on a substrate 2.例文帳に追加

基板２上に、Ｘ線回折においてダイヤモンドのパターンを有し、粒径が５nmから１０nmである複数のダイヤモンド粒子より構成された電子放出膜１を形成する。 - 特許庁

The formed crystal is collected and dehydrated to afford the objective βd-crystal of the ivabradine hydrochloride, having a specific X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

それにより生成した結晶を回収し、次いで脱水し、下記式（Ｉ）で示され、特定のＸ線回析パターンを有するイバブラジン塩酸塩のβｄ−結晶を得る。 - 特許庁

This crystal is, for example, characterized by an X-ray powder diffraction pattern given by copper radiant rays which are passed through a monochromator and have a λ of 1.5418Å.例文帳に追加

本発明の結晶は、例えば、モノクロメーターを通したλ＝１．５４１８Åの銅放射線で得られるＸ線粉末回折パターンにおいて特徴づけられる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such characteristics as sensitivity, resolving power, pattern shape and line edge roughness when an electron beam or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像力、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The X-Y table 5 is driven correspondingly to letters, symbols and drawings to be marked, thus revealing a prescribed marking pattern on the surface of the workpiece S in black with high visibility.例文帳に追加

Ｘ−Ｙテーブル５はマーキングすべき文字、記号、図形に対応して駆動され、被加工体Ｓの表面に所定のマーキングパターンを黒色で視認性高く現出させる。 - 特許庁

To provide a resist composition for electron beams, extreme UV rays or X-rays which has excellent sensitivity and resolving properties, and satisfies rectangular pattern shapes, dissolution contrast, and edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、溶解コントラスト、エッジラフネスをも満足する電子線、ＥＵＶ又はＸ線用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

From the start to the end of a special game operation, an advancing type presenting animation X is continuously displayed on a pattern display device, and the final attainment degree of the animation X is determined beforehand based on a big-hit pattern content or a lottery of an animation random number R, and hence a variety of animations can be displayed during a big hit.例文帳に追加

特別遊技作動の開始から終了まで、図柄表示装置に連続して進行型演出動画Ｘを表示すると共に、大当りの図柄内容または動画乱数Ｒの抽選により、進行型演出動画Ｘの最終到達度をあらかじめ定めるようにしたものであるから、大当たり中に多様な動画を表出できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this case, a direction (a connection line direction) in which the back conductor pattern CP2 is connected is the X direction and when attention is paid to a Y direction orthogonal to (intersecting with) the X direction, the width of the back conductor pattern CP2 in the Y direction is smaller than those of the back terminals TEPa, TEPb in the Y direction.例文帳に追加

このとき、裏面導体パターンＣＰ２の接続方向（接続線方向）がＸ方向となっており、このＸ方向と直交する（交差する）Ｙ方向に着目すると、裏面導体パターンＣＰ２のＹ方向の幅は、裏面端子ＴＥＰａのＹ方向の幅や裏面端子ＴＥＰｂのＹ方向の幅よりも小さくなっている。 - 特許庁