「x-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The formation of the dot pattern in the state of stabilizing the energy of a laser beam LB by triggering a laser oscillator 44 to start irradiation earlier than the time for forming the dot pattern and therefore the unnecessary sensitization to an X-ray film 12 by the excess output energy can be prevented and the generation of the dot pattern having the lower visibility by the dot pattern formation by the insufficient energy can be prevented.例文帳に追加

レーザー発振器４４をドットパターン形成時期よりも早く照射を開始することで、レーザービームＬＢのエネルギーを安定させた状態でドットパターンを形成することができるため、過度の出力エネルギーによってＸレイフィルム１２への不必要な感光が防止でき、不足したエネルギーによるドットパターン形成による視認性の低いドットパターンの発生が防止できる。 - 特許庁

The X-axis ball screw 33 moves vertically on the Y-axis ball screw 36, and the nut 34 moves horizontally on the moving X-axis ball screw 33, whereby the EL pattern display device 31 is made to move freely between the pair of glass plates 30.例文帳に追加

Ｘ軸ボールねじ３３がＹ軸ボールねじ３６上を上下に移動し、移動するＸ軸ボールねじ３３上をナット３４が左右に移動することにより、ＥＬ図柄表示装置３１はガラス板３０の２枚のガラスの間を自在に移動できるようになっている。 - 特許庁

In an amplitude servo pattern 10 having a servo burst signal by burst bit strings 11, 12 arranged adjacent to direction toward track width r, phases in the direction toward the track width x of the servo burst string arranged adjacent to the direction along the track x vary by α mutually.例文帳に追加

トラック幅方向ｒに隣接して配置されたバーストビット列11，12によるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターン10において、トラック幅方向ｒに隣接配置されたサーボバースト信号のトラック方向ｘの位相が相互にαずれて異なっている。 - 特許庁

Specifically, for example, the back terminals TEPa, TEPb are disposed in a line in an X direction and the back terminals TEPa, TEPb arranged in a line in the X direction are connected with each other via the back conductor pattern CP2.例文帳に追加

詳細には、例えば、裏面端子ＴＥＰａと裏面端子ＴＥＰｂとは、Ｘ方向に並ぶように配置されており、このＸ方向に並んで配置されている裏面端子ＴＥＰａと裏面端子ＴＥＰｂが裏面導体パターンＣＰ２で接続されている。 - 特許庁

A pattern formed on the substrate 1 and indicating a specific area on the substrate 1 is recognized, the plurality of films only in the specific area is irradiated with X-rays having a micro spot diameter and the characteristics of each film are measured by X-ray reflectivity measurement.例文帳に追加

この基板１上に形成され上記基板１上の特定エリアを示すパターンを認識し、この特定エリアのみの上記複数の膜に、Ｘ線をマイクロ化されたスポット径で照射して、Ｘ線反射率測定によって、上記各膜の特性を測定する。 - 特許庁

The dose control means controls the X-ray irradiation so as to repeat an irradiation pattern combining an irradiation where the exposure dose of the X-rays reaching the subject becomes a regular dose, and an irradiation becoming a lower dose than the regular dose.例文帳に追加

この線量制御手段は、被検体に到達するＸ線の照射線量が通常線量となる照射と、通常線量よりも低線量となる照射とを組み合わせた照射パターンが繰り返されるようにＸ線の照射を制御する。 - 特許庁

The authentication device serving as the reading means includes an installation part (2) positioned on the visual axis (X) of an imaging means (1), for the inspection target (10) whose vein pattern is to be read, and a light source (3) placed in a position where an optical axis (Y) intersects the visual axis at a predetermined angle (A).例文帳に追加

該読取手段である認証装置は、撮像手段(1)の視線軸(X)上に配置された、静脈パターンを読み取る検査対象(10)の設置部(2)と、該視線軸に対し光軸(Y)が所定角度(A)をなして交差する位置に配置された光源(3)とを備える。 - 特許庁

This perylene hybrid pigment is characterized in that an X-ray diffraction pattern of the pigment obtained by including one or more metal atoms has the diffraction peaks at 6.2, 10.1 and 12.2 expressed in terms of 2θ (2θ±0.2) angles in the Cu-Kα characteristic X-ray diffraction.例文帳に追加

１つ以上の金属原子を含有させて得られる顔料のＸ線回折パターンがＣｕ−Ｋα特性Ｘ線回折の２θ（２θ±０．２）角度で少なくとも６．２、１０．１、１２．２、に回折ピークを有することを特徴とするペリレン混成顔料。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device wherein a timing signal wire 10 transmitting a timing signal from a timing controller 5 to only an X-PCB 2 should be just formed by transmitting the timing signal from the X-PCB 2 to an X-PCB 3 via a timing signal wire 12 between PCBs via a wire pattern of a liquid crystal cell 1.例文帳に追加

液晶セル１の配線パターンを経由するＰＣＢ間タイミング信号配線１２を介してタイミング信号をＸ−ＰＣＢ２からＸ−ＰＣＢ３に伝送することにより、タイミングコントローラ５からＸ−ＰＣＢ２にのみタイミング信号を伝送するタイミング信号配線１０を設けるだけでよい液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The auxiliary pattern 13 consists of bars having a specified length and inclined at about 45° with respect to both of the X and Y directions and is formed in every corner where degeneration correction is required.例文帳に追加

補助パターン１３はＸ及びＹ両方向に対して大略斜め４５°の角度を有した所定長のバー状であり、縮退補正が必要な各コーナーに設けられる。 - 特許庁

The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁

The first individual ground wirngs 21_1-21_6 of a reticulated ground wiring pattern 20 are slanted with respect to the X-axis within the range of 1°≤θ_1≤14° and two sides L_1, L_2 of a parallelogram are specified so as to be L_1≠L_2.例文帳に追加

網目状の接地配線パターン２０の第一の個別接地配線２１_1〜２１_6をＸ軸に対して１°≦θ_1≦１４°の範囲で傾け、平行四辺形の二辺Ｌ_1、Ｌ_2をＬ_1≠Ｌ_2とした。 - 特許庁

The second absorption type grating 32 has a period that substantially coincides with a pattern period of a radiological image formed by the X-rays passing through the first absorption type grating 31.例文帳に追加

第２の吸収型格子３２は、第１の吸収型格子３１を通過したＸ線によって形成されるＸ線像のパターン周期に実質的に一致する周期を有する。 - 特許庁

However, an excitation X-ray 1 used as a probe should be of its beam diameter larger than the pattern dimension of the measuring object so that its irradiation range includes a number of repetitive patterns.例文帳に追加

ただし、照射範囲に多数の繰り返しパターンが含まれるように、プローブとして用いる励起Ｘ線１として、測定対象のパターン寸法よりも大きなビーム径のものを使用する。 - 特許庁

An optical image of pattern drawn on a mask is acquired while using measurement results of a laser interferometer with a stage which holds the mask moving in X-direction and Y-direction (S100).例文帳に追加

マスクを保持したステージをＸ方向及びＹ方向に移動させ、レーザ干渉計の測定結果を用いながら、マスクに描画されたパターンの光学画像を取得する（Ｓ１００）。 - 特許庁

A pair of patterns 105 (105a and 105b) for y-axis direction mispositioning quantity detection are formed across the exposure monitor pattern 101 in the y-axis direction orthogonal with the x-axis direction.例文帳に追加

また、ｘ軸と直交するｙ軸方向に、露光量モニタパターン１０１を挟んで一対のｙ軸方向位置ずれ量検出用パターン１０５（１０５ａ，ｂ）が形成されている。 - 特許庁

The grooves are formed as a pattern continued to a plurality of semiconductor chips formed from the wafer, and, for example, an X-coordinate and a Y-coordinate are represented by a combination of thick lines and fine lines.例文帳に追加

この溝は、ウエハから形成される複数に半導体チップに連続するパターンで形成され、例えば太線と細線とを組み合わせてＸ座標及びＹ座標を表す。 - 特許庁

(Step 2) The crystal size of t is determined by a following equation from a half value width w of a peak observed when q of a scattering vector is in a range of 5<q<30 nm^-1 on the X-ray diffraction pattern acquired.例文帳に追加

（ステップ２）得られたＸ線回折図形で、散乱ベクトル：ｑが、５＜ｑ＜３０ｎｍ^-1の範囲に観察されるピークの半値幅：ｗより次式により結晶サイズ：ｔを求める。 - 特許庁

The method includes a step of applying a coordinate shift component randomly generated in the X direction and/or the Y direction by coordinate of each design data constituting a drawing pattern.例文帳に追加

描画パターンを構成する各設計データの座標ごとに、ランダムに発生させたＸ方向および／またはＹ方向の座標シフト成分を印加する工程を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a volumetric pattern X-ray CT, etc. in which expansion of slice thickness of a reconstruction image and a decline in spatial resolution by interpolation over contiguous detector array are circumvented.例文帳に追加

容積測定型Ｘ線ＣＴ等において、隣接する検出器列に跨がる補間による再構成画像のスライス厚の増大及び空間分解能の低下を回避する。 - 特許庁

In the laminate, a layer wherein the extension conductor X of the layer on one side in a lamination direction and the floating dummy pattern 15 of the layer on the other side overlap is included.例文帳に追加

積層体内においては、積層方向の一方側の層の伸長導体Ｘと、他方側の層の浮遊ダミーパターン１５とが重なり合う関係となる層を含むように形成する。 - 特許庁

The pins P1a to P3b shift in an x-y direction by the drive of motors MX1, MX2, and MX3 and motors My1a and My1b so as to support the undersurface of a section with no pattern on the substrate W.例文帳に追加

ピンＰ１ａないしピンＰ３ｂは、モータＭｘ１，Ｍｘ２，Ｍｘ３と、モータＭｙ１ａ，Ｍｙ１ｂの駆動によりｘ−ｙ方向へ移動して、基板Ｗのパターンのない部分の下面を支持する。 - 特許庁

In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.例文帳に追加

そのＸ線回折パターンには、ＢａＣＯ_３の（１１１）面のピークが存在し、このピークの耐久後強度（Ｉ_Ａ）と初期強度（Ｉ_Ｆ）との強度比Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｆが、０．２〜１である。 - 特許庁

As for patterns in which only one of X and Y can be measured in a reference image, its direction is set as an attribute of a pattern image of the reference region.例文帳に追加

基準画像に関して、ＸもしくはＹの内一方の測定のみが可能なパターンについては、その方向を基準領域のパターン画像の属性として持たせるようにしている。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having statisfying, at the same time, characteristics of sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness for the use of KrF excimer laser, electron beams and X rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

<Positions (lattice plane distance d/Å) by the lattice plane distance display of the peaks in the X-ray diffraction pattern>: 12.4±0.8, 10.8±0.5, 9.0±0.3, 6.0±0.3, 3.9±0.3, 3.4±0.1.例文帳に追加

＜Ｘ線回折パターンにおけるピークの格子面間隔表示による位置（格子面間隔ｄ／Å）＞１２．４±０．８、１０．８±０．５、９．０±０．３、６．０±０．３、３．９±０．３、３．４±０．１ - 特許庁

A substrate 5 having an ID number pattern 4 formed at a predetermined position is mounted on a base 34 moving in the X-direction in either of a first and a second arrangements.例文帳に追加

予め定める位置にＩＤ番号パターン４が形成された基板５が、Ｘ方向移動台３４に、第１および第２配置状態のいずれかの配置状態で載置される。 - 特許庁

To provide a positive type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving a pattern profile with superior rectangularity and excellent in PBD stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＢＤ安定性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The bis-maleic acid salt (a mixture of bis-maleic acid salt form I and bis-maleic acid salt form III) and free base forms of the compound have peaks at specific diffraction angles in a powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折図において、特定の回折角にピークを有するビスマレイン酸塩（ビスマレイン酸塩Ｉ型、ビスマレイン酸塩ＩＩＩ型）及び遊離塩基型化合物。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as sensitivity, resolution, pattern shape and line edge roughness when KrF excimer laser light, an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In a bar code indication field, the bar codes 98a to 98c of the same pattern are printed in an X direction that intersects a paper discharging direction (Y direction) in a manner deviating stepwise by a dimension s from the adjacent one.例文帳に追加

バーコード表示欄には、同一パターンのバーコード９８ａ〜９８ｃが排出方向（Ｙ方向）と交差するＸ方向に寸法ｓだけずれた階段状に印字されている。 - 特許庁

An offset value is added to the intensity difference (including the sign), located in the RANK and assigned with the RANK in the process S3, a repeated pattern is removed, and intensity X' of the target pixel is obtained (S6).例文帳に追加

ＲＡＮＫに位置する処理Ｓ３でＲＡＮＫを付けた輝度差（符号を含む）に、オフセット値を加えて繰り返しパターンを除去し、注目画素の輝度Ｘ’を得る（Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X rays which has high sensitivity, high resolution, and a rectangular pattern shape and also has a superior LER characteristic and superior dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

From a second measured density curve 204 based on the read data of a test pattern 200 which is based on the correction LUT 1, a pixel value D2 required for obtaining the target value X is calculated.例文帳に追加

補正ＬＵＴ１に基づくテストパターン２００の読み取りデータに基づいた２回目の測定濃度曲線２０４から目標値Ｘを得るために必要な画素値Ｄ２を算出する。 - 特許庁

The dot pattern transfer using the metal molds 71, 72, 71m, 72m is repeated several times making transferred patterns adjoining one another each time in the feed direction (X axial direction) of the transparent film 21.例文帳に追加

金型７１・７２・７１ｍ・７２ｍを用いたドットパターンの転写は、各回の転写パターンが透明フィルム２１の送り方向（Ｘ軸方向）で隣接するようにして、複数回行われる。 - 特許庁

This embroidery sewing machine has an embroidery frame to be relatively driven in X-Y direction in respect to a sewing machine needle and sews a prescribed embroidery pattern to the object to be sewn set on the embroidery frame.例文帳に追加

ミシン針に対してＸ−Ｙ方向に相対駆動する刺繍枠１を有し、刺繍枠１にセットされた被縫製物に所定の刺繍パターンを縫い付ける刺繍ミシンである。 - 特許庁

A lattice pattern P' comprising mutually-parallel plural straight line patterns is projected on a work 6, and the work 6 is moved in the x- direction by a moving device 7 and simultaneously imaged by a line sensor 4.例文帳に追加

互いに平行な複数の直線パターンから成る格子パターンＰ’をワーク６に投影し、ワーク６を移動装置７によりｘ方向に移動させつつラインセンサ４で撮像する。 - 特許庁

Namely, the line patterns LP1 and LP2 extended in the main scanning direction X are respectively formed separately on the upstream side and the downstream side of the two-dimensional pattern TP in the conveying direction D16.例文帳に追加

つまり、主走査方向Ｘに伸びる直線パターンＬＰ1、ＬＰ2が搬送方向Ｄ16において２次元パターンＴＰの上流側および下流側にそれぞれ離間して形成されている。 - 特許庁

The flake-like hydrous titanium oxide has such a layer structure that at least one peak of an X-ray diffraction pattern shows 2-4 nm d-spacing of lattice planes.例文帳に追加

Ｘ線回折パターンの少なくともひとつのピークが２ないし４ｎｍのｄ面間隔を示す層状構造を有することを特徴とする薄片状含水酸化チタンを開示する。 - 特許庁

The zirconia sintered compact is characterized in that the half-value width of a peak of (111)plane of the tetragonal system in the X-ray diffraction pattern by CuKα ray is 0.38-10°.例文帳に追加

ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンにおける正方晶の（１１１）面のピークの半値幅が０．３８度以上１０度以下であることを特徴とするジルコニア焼結体。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.例文帳に追加

高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The Ni-W-S alloy film 2 preferably has a finely uneven surface, and has an amorphous or microcrystalline X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

このとき、Ｎｉ−Ｗ−Ｓ合金膜２の表面が微細凹凸面になっていることが好ましく、そのＸ線回折パターンがアモルファス状又は微結晶状であることが好ましい。 - 特許庁

Thus, the highly visible dots can be formed on the X-ray film, and visibility and recognizability of the pattern formed of the dot array can be enhanced.例文帳に追加

これにより、Ｘレイフィルムに視認性の高いドットを形成することができると共に、このドット配列によって形成されるマーキングパターンの視認性及び認識性を高くすることができる。 - 特許庁

To provide a new form of 1,4-diketo-3,6-di(4'-tert-butylphenyl)-2,5- dihydropyrrolo[3,4-c]pyrrole pigment having a distinguished color property and a distinguished X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

際立った色特性及びＸ線回折図形を有する新規形態の１，４−ジケト−３，６−ジ（４′−tert-ブチルフェニル）−２，５−ジヒドロピロロ〔３，４−ｃ〕ピロール顔料を提供すること。 - 特許庁