「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The B layer has 30 to 100 mm in thickness, the C layer has 2 to 20 mm in thickness, the D layer has 5 to 50 mm in thickness, a thickness ratio of C layer/(C layer + D layer) is 0.1 to 0.7, and a thickness ratio of (A layer + B layer)/(C layer + D layer) is 1 to 3.例文帳に追加

Ｂ層が３０〜１００mm、Ｃ層が２〜２０mm、Ｄ層が５〜５０mmの厚みで、Ｃ層／（Ｃ層＋Ｄ層）の厚み比が０．１〜０．７、（Ａ層＋Ｂ層）／（Ｃ層＋Ｄ層）の厚み比が１〜３にする。 - 特許庁

A thickness D_L of a gas diffusion layer 22 is larger than that D_R of a gas diffusion layer 122.例文帳に追加

ガス拡散層２２の厚さＤ_Ｌが、ガス拡散層１２２の厚さＤ_Ｒよりも大きい。 - 特許庁

When it is assumed that the width of the solution layer 16 and the height of the solution layer 16 are D and H, respectively, D and H are so set as to satisfy D≥0.0005×log^e×H+0.0037.例文帳に追加

不凍液層１６の幅Ｄは、不凍液層１６の高さをＨとすると、Ｄ＝０．０００５・ｌｏｇ^ｅ・Ｈ＋０．００３７以上にした。 - 特許庁

A thickness D of a rubber layer 26 sandwiched between the reinforcing layer 24 and the belt layer 16 is made equal to or greater than a thickness d of the reinforcing layer 24.例文帳に追加

また、補強層２４とベルト層１６とによって挟まれるゴム層２６の厚みＤが補強層２４の厚みｄと同等以上にされている。 - 特許庁

A step (d) laminates a reflection film 22 on the recording layer 20.例文帳に追加

（ｄ）で記録層２０に反射膜２２を積層する。 - 特許庁

Shore D hardness H3 of the cover is greater than Shore D hardness H2 of the intermediate layer.例文帳に追加

カバーのショアＤ硬度Ｈ３は、中間層のショアＤ硬度Ｈ２よりも大きい。 - 特許庁

A ratio D/T of particle size D of the particular solid material in relation to the intermediate layer thickness T is set ≥0.3.例文帳に追加

粒状固形物の粒度Ｄの、中間層厚みＴに対する比（Ｄ／Ｔ）は、０．３以上である。 - 特許庁

The light-emitting layer 12 contains a metal complex compound that includes one of the coupling forms (a) to (d): (a) Ir-SO, (b) Ir-SO_2, (c) Pt-SO, and (d) Pt-SO_2.例文帳に追加

（ａ）Ｉｒ−ＳＯ（ｂ）Ｉｒ−ＳＯ_2（ｃ）Ｐｔ−ＳＯ（ｄ）Ｐｔ−ＳＯ_2 - 特許庁

The film thickness d of the recording layer lies within the range indicated by an inequality: 10 nm≤d≤30 nm.例文帳に追加

前記記録層の膜厚ｄは、好ましくは、次の式 １０ｎｍ≦ｄ≦３０ｎｍ で示される範囲にある。 - 特許庁

Successively, an induction-hardening is performed, and then a low temperature tempering is performed so that the depth (d) of the hardened layer becomes 3.0 to 15% of the diameter (D) of the shaft.例文帳に追加

硬化層の深さ（ｄ）が軸の直径（Ｄ）の３．０〜１５％となるようにする。 - 特許庁

The electrode is rolled so as to satisfy the equation; 0.5515Ln(x)+1.9859≤d≤0.5515Ln(x)+2.5859, if x is an integer fulfilling 2≤x≤11, denoting the frequency of rolling, d denotes the packing density of the activator layer.例文帳に追加

０．５５１５Ｌｎ（ｘ）＋１．９８５９≦ｄ≦０．５５１５Ｌｎ（ｘ）＋２．５８５９ （ここで、ｘは２≦ｘ≦１１を満足する自然数である。） - 特許庁

The biodegradable film laminate is constituted by laminating the transparent inorganic film layer (A), an anchor layer (3) containing an aliphatic polyester wherein a molar ratio (L/D) of L-lactic acid and D-lactic acid is 1-9 and a biodegradable film layer (C).例文帳に追加

透明無機薄膜層（A）、L-乳酸とD-乳酸のモル比（L/D）が1〜9である脂肪族ポリエステルを含むことを特徴とするアンカー層（B）、生分解性フィルム層（C）、が積層されたことを特徴とする生分解性フィルム積層体。 - 特許庁

An optoelectronic device D has an element layer 1, a wiring formation layer 2 and an electronic parts layer 3.例文帳に追加

電気光学装置Ｄは、素子層１と配線形成層２と電子部品層３とを有する。 - 特許庁

The electro-optical device D comprises an element layer 1, a wiring-forming layer 2 and an electronic component layer 3.例文帳に追加

電気光学装置Ｄは、素子層１と配線形成層２と電子部品層３とを有する。 - 特許庁

A pressure sensitive adhesive layer 31 of width d is formed on a 2nd step film 12 of width c (c ≥ d, a ≥ d > b).例文帳に追加

別途、幅ｃの第二の工程フィルム１２に幅ｄで感圧接着剤層３１を形成する（ｃ≧ｄ、ａ≧ｄ＞ｂ）。 - 特許庁

The channel length L is equal to or more than a widening width d of a depletion layer in the channel region 29 represented as d=D×N_a^-C.例文帳に追加

チャネル長Ｌは、ｄ＝Ｄ・Ｎ_ａ^−Ｃで表されるチャネル領域２９における空乏層の広がり幅ｄ以上となっている。 - 特許庁

The thermal insulating materials D, D are connected to each other in the state of the thermal insulating material D and a connecting layer R being jointed at their contact faces.例文帳に追加

断熱材Ｄと連結層Ｒとがこれらの接触面で接合された状態で断熱材Ｄ、Ｄ同士が連結される。 - 特許庁

In the abrasion image forming method of single color having D-max, D-min and D-intermediate zones, the image of a recording element for abrasion comprising a substrate having a barrier layer and a coloring agent layer containing a coloring agent is heated by laser beams without employing any different receptive element.例文帳に追加

バリア層と着色剤を含む着色剤層と有する支持体を含むアブレーション用記録要素を、別個の受容要素無しに、レーザーで像様加熱する、D-max、D-min及びD-intermediate領域を有する単色のアブレーション画像形成法。 - 特許庁

The pressure sensitive adhesive double coated sheet comprises a laminate comprising each layer in turn (a) an adhesive layer, (b) a silver layer, (c) a flexible base material layer, and (d) a black layer/adhesive layer or (d') a black adhesive layer.例文帳に追加

（ａ）粘着剤層、（ｂ）銀層、（ｃ）可とう性基材層及び（ｄ）黒色層／粘着剤層又は（ｄ′）黒色粘着剤層の順にそれぞれの層を含む積層体からなる両面粘着シート。 - 特許庁

The amount of laser exposure, which is employed for obtaining the D-min density, removes both of the coloring agent layer and the barrier layer in the zone.例文帳に追加

D-min濃度を得るために用いたレーザー露光は、その領域内の着色剤層及びバリア層の両方を除去する量である。 - 特許庁

On the basis of the DC sensitivity of the actuator and the drive voltages F_CS_L0 and F_CS_L1, an interlayer distance L_D between the L0 layer and L1 layer is obtained.例文帳に追加

アクチュエータのＤＣ感度と、駆動電圧Ｆ_CS_L0及びＦ_CS_L1とに基づき、Ｌ０層及びＬ１層の層間距離Ｌ_Dが得られる。 - 特許庁

In the expression, n_u is the refraction index of the refraction index control layer 3 and n_d is the refraction index of the charge transport layer 1.例文帳に追加

ｎ_eff＝０．７ｎ_u＋０．３ｎ_dｎ_u：屈折率制御層３の屈折率ｎ_d：電荷輸送層１の屈折率 - 特許庁

Asynchronous transfer mode ATM adaptation layer AAL type 2 units 4-5, 4-6 apply AAL type 2 processing to voice-compressed common part sub-layer CPS packets (a, b, c, d or the like) to multiplex the result on an ATM cell.例文帳に追加

AALタイプ２装置4-5、4-6では、音声圧縮されたCPSパケットa, b, c, d等が、AALタイプ２処理されて、ATMセルに多重される。 - 特許庁

The Al2O3 layer has an average crystal particle diameter (s) of 0.01-4 μm, when the thickness d is 0.5-25 μm, and the Al2O3 layer further has an average crystal particle diameter (s) of 0. 01-10 μm, when the thickness d is 25-50 μm.例文帳に追加

また、Ａｌ_2Ｏ_3層は、厚さｄが0.5μm≦ｄ≦25μmの場合、平均結晶粒径（ｓ）は0.01μm≦ｓ≦4μm、25μm＜ｄ≦50μmの場合、0.01μm≦ｓ≦10μmとする。 - 特許庁

(d) The fluid is driven into the bladder 3, and the second rubber layer 54 is pressed to the forming section 9, and the rib section 52 is formed on the second rubber layer 54, and at the same time, is vulcanized.例文帳に追加

(d)ブラダー3内に流動体を圧入して第二ゴム層54を型付部9に押圧し、この第二ゴム層54にリブ部52を形成すると共に加硫する。 - 特許庁

The photoelectric conversion device includes nanocrystal grains (d) and a semiconductor layer, wherein the each nanocrystal grain (d) is composed of a first semiconductor and the semiconductor layer includes a first semiconductor layer (7) containing the nanocrystal grains (d) in a second semiconductor amorphous layer.例文帳に追加

ナノ結晶粒(d)と、半導体層と、を有し、前記ナノ結晶粒は第１の半導体からなり、前記半導体層は、第２の半導体のアモルファス層に前記ナノ結晶粒を含有した第１の半導体層(7)を含む光電変換装置とする。 - 特許庁

Stage D: The mold 15 is separated from the cured photosensitive resin layer 16.例文帳に追加

Ｄ工程：金型１５を硬化した感光性樹脂層１６から剥離する。 - 特許庁

The thickness D_W of a well layer 19a is 4 nm or more.例文帳に追加

井戸層１９ａの厚さＤ_Ｗは４ｎｍ以上である。 - 特許庁

An earthing layer 14 is opposite to a signal line 12 with respect to a direction D.例文帳に追加

接地層１４は、方向Ｄについて信号線１２と対向している。 - 特許庁

A transparent conductive layer 31 is exposed inside the intervals D, E.例文帳に追加

間隔Ｄ，Ｅ内では透明導電層３１が露出している。 - 特許庁

The thickness D[mm] of the sintered layer formed by the heating is measured.例文帳に追加

この加熱により形成された焼結層の厚みＤ［ｍｍ］を測定する。 - 特許庁

A separation distance D between the P layer 22, 23 is set at 50 μm or smaller.例文帳に追加

Ｐ層２２，２３間の分離距離Ｄは５０μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

A second insulating layer having a protrusion pattern is formed in the reflection region D.例文帳に追加

反射部Ｄに凸凹型パターンを有する第２絶縁層が形成される。 - 特許庁

Further, the composition for resist lower-layer film formation may contain (D) an acid forming agent and (E) a crosslinking agent.例文帳に追加

更に、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）架橋剤等を含有することができる。 - 特許庁

To prevent hair crack (d) on a surface of a mortar lining layer 2.例文帳に追加

モルタルライニング層２の表面のヘアクラックｄを抑制する。 - 特許庁

The Shore D hardness of the outer cover layer 4 is 58 to 72.例文帳に追加

カバー外側層４のショアＤ硬度は、５８以上７２以下である。 - 特許庁

The thickness d of the liquid crystal layer is set to be larger than the interval p.例文帳に追加

そして、液晶層の厚みｄは間隔ｐよりも大きく設定する。 - 特許庁

The thickness d of a first protection layer can be thinned by satisfying the inequality a>b.例文帳に追加

ａ＞ｂとすることにより第１の保護層の厚さｄを薄膜化できる。 - 特許庁

The thickness D_W of the well layer 19a is 10 nm or less.例文帳に追加

また、井戸層１９ａの厚さＤ_Ｗは１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The MOS transistor has a high density source layer N^+S, a high density drain layer N^+D, a low density source layer N^-S and/or a low density drain layer N^-D both of which are diffused deeper than the high density source layer N^+S and the high density drain layer N^+D.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタは、高濃度ソース層Ｎ＋Ｓ及び高濃度ドレインＮ＋Ｄ層と、高濃度ソース層Ｎ＋Ｓ及び高濃度ドレイン層Ｎ＋Ｄより深く拡散された低濃度ソース層Ｎ−Ｓ又は／及び低濃度ドレイン層Ｎ−Ｄを有する。 - 特許庁

An (N+D) layer 23 adjacent to an end of the drain layer 12 side of the gate electrode 6 is formed.例文帳に追加

ゲート電極６のドレイン層１２側の端部に隣接したＮ＋Ｄ層２３を形成する。 - 特許庁

Capacitance index X=(dielectric constant of cover layer ε_r)/(thickness of cover layer d[μm]).例文帳に追加

キャパシタンス指標Ｘ＝（カバー層の比誘電率ε_ｒ）／（カバー層の厚みｄ[μｍ]） - 特許庁

An air- bubble protection layer (D) is laminated on the coating layer (C) to obtain higher heat insulation.例文帳に追加

該コ−テング層（Ｃ）に更に気泡保護層（Ｄ）が積層されるとより断熱性が向上する。 - 特許庁

An electrode layer 18 is formed by extending the layer 18 onto the dead regions D of the multilayered film 16.例文帳に追加

多層膜１６の不感領域Ｄ上にまで電極層１８を延ばして形成する。 - 特許庁

The main constitution layer 22 and light emission layer 24 are finally bonded at a temperature of 525°C (d).例文帳に追加

主構成層２２と発光層２４とを５２５℃の温度で本接着する（（ｄ））。 - 特許庁