「ききょうがおかごばんちょう」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

反応炉内に III族原料とキャリアガスと酸素ガスとを供給して基板１０上に絶縁体層１１を形成した後、この基板１０を加熱し、絶縁体層１１上に III族原料及びＶ族原料ガスとドーピング原料とキャリアガスとを供給してIII-Ｖ族化合物半導体層を気相成長させる。例文帳に追加

An insulator layer 11 is formed on a substrate 10 by supplying group III raw materials, a carrier gas and an oxygen gas into a reaction furnace, and afterwards, vapor phase growing of a III-V compound semiconductor layer is conducted by heating this substrate 10 and supplying the group III raw a materials, a group V raw material gas, doping raw materials and the carrier gas onto the insulator layer 11. - 特許庁

細胞の成長や接着を制御するための化学物質等を予め基板に固定することなく、基板の任意の特定位置に細胞を固定化することができ、固定化後および培養後でも目的細胞を特異的に、かつ、スムーズに分離することができる、新しい細胞固定化基板ならびに細胞固定化方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate for immobilizing cells and a method for immobilizing cells without previously fixing a chemical substance, or the like, to control growth and adhesion of cells on the substrate, capable of immobilizing cells on arbitrary specific points of the substrate, and smoothly and specifically separating the objective cells after immobilization and cultivation. - 特許庁

高いフッ素含量を有しながら、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性や高い成膜性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、さらにはその高分子化合物をコーティングした反射防止材料、光デバイス材料、レジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a new polymerizable monomer, to provide a polymer which uses the monomer, and has a high fluorine content, high transparency in a wide wavelength region from vacuum UV light to an optical communication region, a high adhering property to substrates, and a high film-forming property, and further to provide a reflection-preventing material, an optical device material and a resist material coated with the polymer. - 特許庁

封止成形時においては、ゲルタイムが短く、かつ溶融粘度が小さいものであり、また硬化後においては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、かつ線膨張係数（α１）が半導体素子及び半導体素子搭載用基板の線膨張係数（α１）に近いものである片面封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an epoxy resin composition for single-side sealing use, exhibiting a short gel time and low melt viscosity in sealing and giving a cured product having high glass transition temperature (Tg) and a linear expansion coefficient (α1) close to the linear expansion coefficient (α1) of a semiconductor element and a substrate for mounting the semiconductor element. - 特許庁

本発明のホログラム記録媒体は、透光性の第１および第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に形成され、３次元架橋ポリマーマトリクス、ラジカル重合性化合物および光ラジカル重合開始剤を有し、室温にてゴム状弾性を示し、デュロメータ硬さの値がＡ４５以上Ａ８５以下である記録層と、を備えることを特徴とする。例文帳に追加

The hologram recording medium includes light translucent first and second substrates and a recording layer which is formed between the first substrate and the second substrate, has a three-dimensional crosslinking polymer matrix, a radical polymerizable compound and an optical radical polymerization initiator, exhibits rubber-like elasticity and is ≥A45 to ≤A85 in the value of durometer hardness. - 特許庁

親水性支持体上に、重合開始剤、連鎖移動剤、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および側鎖に架橋性基を有する高分子バインダーを含有する感光層を有する感光性平版印刷版であって、前記連鎖移動剤が、特定のヘテロ環チオール化合物であることを特徴とする感光性平版印刷版。例文帳に追加

The photosensitive lithographic printing plate has, on a hydrophilic support, a photosensitive layer containing a polymerization initiator, a chain transfer agent, a compound having an ethylenically unsaturated double bond, and a polymeric binder having a crosslinkable group in a side chain, wherein the chain transfer agent is a specific heterocyclic thiol compound. - 特許庁

ベンゼン環化合物、酸化金属溶解剤、及び水を含有することを特徴とする金属用研磨液、並びにその金属用研磨液を供給しながら、被研磨膜を有する基板を研磨布に押圧した状態で研磨定盤と基板を相対的に動かすことによって被研磨膜を研磨する研磨方法。例文帳に追加

The polishing method for polishing a film to be polished is performed by moving a polishing plate and a substrate relatively in the state where the substrate having the film to be polished is pressed to a polishing cloth, while using and supplying the polishing solution for metal which contains a benzene ring compound, an oxidized metal solvent, and water. - 特許庁

また、層間絶縁膜の成膜方法であって、基板上に珪素とＣＨ_３を含む公知化合物である絶縁膜材料を用いてプラズマＣＶＤ法によって層間絶縁膜を成膜した後、加熱雰囲気において窒素を含有するガスを基板に供給することを特徴とする層間絶縁膜の成膜方法を提供する。例文帳に追加

Furthermore, another method for forming an interlayer insulating film is also characterized in that an interlayer insulating film is formed on a substrate using an insulating film material (known compound including silicon and CH_3) by a plasma CVD method and then a gas containing nitrogen is supplied to the substrate in a heated atmosphere. - 特許庁

発光層部を有した化合物半導体層から成長用基板を除去しても、そのハンドリングを容易に行なうことができ、接合金属層の合金化熱処理による金属層の反射率低下も生じにくい発光素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a light emitting element by which a substrate for growth is handled easily even when the substrate is removed from a compound semiconductor layer having a light emitting layer and, in addition, the reflectance of a metallic layer is hardly lowered even when alloying heat treatment is performed on metallic junction layers. - 特許庁

本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするビアリール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。例文帳に追加

To provide an anticorrosive using a biaryl compound which prevents corrosion caused by the oxidation or the like of corrosive metals such as copper, aluminum and the alloys thereof in the production process for a semiconductor integrated circuit, a printed circuit board, a liquid crystal or the like, and to provide a composition having both of corrosion inhibition performance and peeling performance, which is composed of the biaryl compound and a compound having peeling performance. - 特許庁

エピタキシャル成長法で窒化物系化合物半導体を育成するために用いるサファイア基板を製造する方法において、サファイア単結晶インゴットを研削加工した後、ウエハーにスライスする前に、該インゴットの外周部に化学研磨処理を施すことを特徴とするサファイア基板の製造方法などによって提供する。例文帳に追加

In the method for producing the sapphire substrate which is used for growing a nitride-based compound semiconductor by an epitaxial growth method, after subjecting a sapphire single crystal ingot to grinding processing, the outer peripheral part of the sapphire single crystal ingot is subjected to chemical polishing treatment before the sapphire single crystal ingot is sliced into wafers. - 特許庁

支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、及び（Ｃ）ラジカル重合性化合物を含有し、露光後、印刷インキと湿し水とを供給することにより未露光部分を除去できる画像記録層、及びオーバーコート層を順次有する平版印刷版原版において、該オーバーコート層が、結晶構造が異なる少なくとも２種の無機層状化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。例文帳に追加

In the planographic printing original plate containing (A) an infrared absorber, (B) a radical polymerization initiator and (C) a radical polymerizable compound and successively having an image recording layer capable of removing an unexposed part by supplying printing ink and damping water after exposure and an over coat layer, the over coat layer contains at least two kinds of inorganic laminar compounds each having a different crystal structure. - 特許庁

波長１９０ｎｍ以下の光を用いたリソグラフィー用のレジストにおいて露光光に対して透明性に優れ、かつ基板密着性、ドライエッチング耐性に優れた化学増幅レジストとして有用な重合体および重合体用単量体化合物を提供する。例文帳に追加

To provide a polymer useful as a chemical amplification resist for lithography using rays ≤190 nm wavelength, high in transparency to exposure light and excellent in substrate adhesion and dry etching resistance, and to provide a monomeric compound for the polymer. - 特許庁

親水性支持体上に、増感色素、重合開始剤、連鎖移動剤、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および架橋性基を有する高分子バインダーを含有する感光層と、無機質の層状化合物を含有する保護層と、を順次積層してなることを特徴とする平版印刷版原版。例文帳に追加

The planographic printing original plate is characterized by being constructed by successively laminating a photosensitive layer containing a sensitizing dye, a polymerization initiator, a chain transfer agent, a compound having an ethylenically unsaturated double bond and a polymer binder having a cross-linkable group and a protective layer containing an inorganic layered compound on a hydrophilic substrate. - 特許庁

支持体上に、少なくともハロゲン化銀粒子と、架橋性バインダー樹脂、及び前記架橋性バインダー樹脂に架橋していない水溶性化合物、を含有する層を有する電磁波遮蔽材料用原版に、パターン露光、現像処理、物理現像及び／又はメッキ処理、を順次行うことを特徴とする電磁波遮蔽材料の製造方法。例文帳に追加

A method of manufacturing the electromagnetic wave shielding material sequentially performs a pattern exposure, a development processing, a physical development and/or a deposition treatment to the original plate for the electromagnetic wave shielding material having layers which contain on a support at least the silver halide particles, a crosslinking binder resin, and a water-soluble compound which is not crosslinked with the crosslinking binder resin. - 特許庁

従来のソイルセメント工法の欠点であった有機質を含む土壌でも支持力を高めた地盤硬化と、硬化剤の調合が容易に行え、更には硬化後のクラックをも低減防止し、不透水土壌でも水はけのよい透水土壌に変換する特徴をもった地盤改良硬化処理剤を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a hardening treatment agent for soil improvement having characteristics of readily carrying out soil hardening with enhanced supporting force and mixing of a hardener even for soil containing organic materials which are disadvantages of a conventional construction method for soil cement, further reducing or preventing even cracks after hardening and converting even water-impermeable soil into water-permeable soil having good drainage. - 特許庁

表示電極、対向電極、及びそれらの間に挟持された電解液組成物を具備し、かつ、前記電極又は電解液組成物が酸化還元反応により発色と消色をする化合物を含有する表示素子であって、前記対向電極の最表面に、バンク樹脂により区切られた、酸化物粒子を含有する多孔質構造体を有し、当該多孔質構造体と当該バンク樹脂が相互に接していないことを特徴とする表示素子。例文帳に追加

In the display element, porous structure partitioned by a bank resin and containing oxide particles is provided on the outermost surface of the counter electrode, wherein the porous structure and the bank resin are not brought into contact with each other. - 特許庁

表示電極、対向電極、及びそれらの間に挟持された電解液組成物を有し（具備し）、かつ、前記電極又は電解液組成物が酸化還元反応により着色と消色をする化合物を含有する表示素子であって、前記対向電極の最表面に、バンク樹脂により区切られた、酸化物粒子を含有する多孔質構造体を有し、当該多孔質構造体の高さと当該バンク樹脂の高さが等しいことを特徴とする表示素子。例文帳に追加

On an outer surface of the counter electrode, a porous structure containing oxide particles, which is segmented by a bank resin is provided, and a height of the porous structure is the same as that of the bank resin. - 特許庁

本発明は、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、および、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物から得られるウレタン（メタ）アクリレートと、偏光板保護フィルムに対して浸透性を有する基材浸透性モノマーと、光重合開始剤と、を含むことを特徴とするＰＶＡ偏光板用接着剤を提供することにより、上記課題を解決するものである。例文帳に追加

The adhesive for the PVA polarizing plate is characterized by containing a urethane (meth)acrylate prepared from a polyisocyanate compound, a polyol compound and a hydroxy group-containing (meth)acrylate compound; a monomer permeable into a substrate and having permeability into the polarizing plate-protecting film; and a photopolymerization initiator. - 特許庁

半導体デバイス製造用基板の表面にあるタングステン、銅などの遷移金属又は遷移金属化合物などからなる金属部材を腐食することなく、超音波の照射を行わなくても、汚染のない高清浄な基板表面を達成することができ、工業的に非常に有用な洗浄液および洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide an industrially useful cleaning fluid and method that can achieve a clean substrate surface, without contamination or corroding a metal member made of transition metal such as tungsten and copper, existing on the surface of a substrate for manufacturing a semiconductor device or a transition metal compound, and without applying any ultrasonic waves. - 特許庁

２枚の透明導電性基板３１，３７に、イオン伝導層が挟持されているエレクトロクロミック素子であって、前記導電性基板のうち少なくとも一方にエレクトロクロミック層３５を有しており、かつ、前記イオン伝導層中に塩基性アミン化合物をイオン伝導層の質量に対して１質量ｐｐｍ〜１００００質量ｐｐｍ含有していることを特徴とするエレクトロクロミック素子。例文帳に追加

The electrochromic element wherein an ion conductive layer is interposed between two transparent conductive substrates 31 and 37 is characterized in that at least one conductive substrate of the conductive substrates has the electrochromic layer 35 formed thereon and 1 to 10,000 ppm basic amine compound, by mass, to the mass of the ion conductive layer is incorporated in the ion conductive layer. - 特許庁

サファイア基板上の窒化物系化合物半導体成長層を素子に分離する際に、素子に生じるクラックを低減することができ、サファイア基板の剥離が簡便で、素子の裏面に電極を効率良く形成することができる半導体素子及び半導体素子の製造方法を提供することを目的とする例文帳に追加

To provide a semiconductor device and its manufacturing method, in which cracks occur less in the device, when a nitride compound semiconductor growth layer on a sapphire board is separated into devices, the sapphire board is easily separated, and an electrode can be efficiently formed on the back surface of the device. - 特許庁

半導体発光素子の化合物半導体層を積層する前に清浄な成長面を容易に準備することができ、第二成長装置に入れる前の洗浄工程が不要な半導体発光素子用テンプレート基板、半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ、電子機器、機械装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a template substrate for a semiconductor light-emitting element, a semiconductor light-emitting element, a manufacturing method of the same, a lamp, an electronic apparatus and a machinery, which can easily prepare a clean growth surface before laminating a compound semiconductor layer of the semiconductor light-emitting element without the need for a cleaning process before being housed in a second growth device. - 特許庁

ポリイミド前駆体における良好なｉ線透過性、イミド化後の低熱膨張性を両立し、かつ、基板との接着性が良好で、良好なパターンが形成可能な感光性樹脂組成物、前記特徴を有し、かつ、溶剤現像又はアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物の提供。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which has both good i-line transmissivity in a polyimide precursor and low thermal expansibility after an imidation reaction, has good adhesivity to substrates, and can form good patterns, and to provided a negative type photosensitive resin composition which has the above-mentioned characteristic and can be developed with a solvent or an alkali. - 特許庁

配列番号１で表わされるアミノ酸配列と同一もしくは実質的に同一のアミノ酸配列を含有する新規Ｇ蛋白質共役型レセプター蛋白質またはその塩およびイソプレノイド関連物質を用いることを特徴とする該レセプター蛋白質またはその塩とイソプレノイド関連物質との結合性を変化させる化合物またはその塩のスクリーニング方法などを提供する。例文帳に追加

Screening methods of a new G protein-coupled receptor protein including the same or substantially the same amino acid sequence as the amino acid sequence expressed by the sequence 10 number 1 or its salt, a receptor protein characterized by using an isoprenoid-related material or its salt, and a compound for changing affinity for the isoprenoid-related material or its salt, or the like are provided. - 特許庁

表面に色素及びカルボン酸化合物が担持された半導体電極と、半導体電極に離間対向して配置され、表面に導電層を有する対向基板と、半導体電極と導電層とに挟持され、ヨウ素分子と、ヨウ化物の溶融塩とからなる電解質層とを具備することを特徴とする光増感型太陽電池を提供する。例文帳に追加

The photosensitized solar cell is provided with a semi-conductor electrode carrying colorant and carboxylic acid compound on its surface, a facing substrate installed facing a semiconductor electrode with space in between and provided with a conductor layer on its surface and an electrolyte layer, sandwitched in between the semi-conductor electrode and the conductor layer and consisting of iodine molecules and molten salt of iodide. - 特許庁

本発明は、表面に色素が担持された半導体電極と、半導体電極に離間対向して配置され、表面に導電層を有する対向基板と、半導体電極と導電層とに挟持され、ヨウ素分子、ヨウ化物の溶融塩、カルボン酸化合物及びゲル化剤とからなる電解質層とを具備することを特徴とする光増感型太陽電池を提供する。例文帳に追加

The photosensitized solar cell is equipped with a semiconductor electrode carrying pigment on the surface; facing substrates separately faced in the semiconductor electrode and having a conductive layer on the surface: and an electrolyte layer interposed between the semiconductor electrode and the conductive layer and comprising iodine molecules, a molten salt of iodide, a carboxylic acid compound, and a gelling agent. - 特許庁

親水性支持体上に、マレイミド由来の環状構造及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を含有する光重合層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版を、レーザーで画像様に露光した後、水溶性樹脂を有する水溶液を接触させブラシで擦る現像処理を施して光重合層の未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法；上記のように製版された平版印刷版を、印刷機に取り付け、該平版印刷版に油性インキと水性成分とを供給して印刷する平版印刷方法。例文帳に追加

The lithographic printing method includes: attaching a lithographic printing plate prepared as above to a printing machine; supplying an oil-based ink and a water-based component to the lithographic printing plate; and performing printing. - 特許庁

本発明は、有機ハロゲン化合物に汚染された汚染地盤又は汚染地下水を、その汚染地盤中又は汚染地下水中に生息する前記有機ハロゲン化合物の分解活性を有する嫌気性微生物を活性化させて、原位置にて浄化するための汚染地盤又は汚染地下水の原位置浄化方法であって、小麦フスマ及び末粉のうち少なくとも一方を含有する浄化用資材と、鉄粉と、水とを混合してスラリー状にし、これらのスラリー状の混合物を前記汚染地盤又は前記汚染地下水に供給することを特徴とする。例文帳に追加

In the in-situ clarification method of the contaminated ground or the contaminated groundwater by which the contaminated ground or the contaminated groundwater contaminated by the organic halogen compound is clarified in situ by activating anaerobic microorganisms having degradation activity for the organic halogen compound, a slurry like mixture prepared by mixing a clarification material containing at least one of wheat bran or flour, iron and water is supplied to the contaminated ground or the contaminated groundwater. - 特許庁

面内のレターデーション（Ｒｅ）の波長分散が逆分散となり、Ｒｅの値および、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の波長分散や値を幅広い範囲で自由に制御できるセルロースフィルム、それに用いるセルロース化合物、それらを用いた光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cellulose film whose inplane retardation (Re) wavelength dispersion is reverse dispersion and which can freely control a Re value and the wavelength dispersion and value of retardation (Rth) in the thickness direction, to provide a cellulose compound used therefor, and to provide an optical compensating film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device using the same. - 特許庁

高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に極性基を持たせることで、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物を提供する。例文帳に追加

To provide a new polymerizable monomer having a high transparency and a low refraction index in such a wide wavelength range as from a vacuum ultraviolet ray to an optical communication wavelength area and further having high adhesion to substrates, high film-forming property and high etching resistance, which can be attained by allowing a polar group to contain in the same molecule even under a high fluorine content, and to provide a polymer compound using the monomer. - 特許庁

基板上１に、少なくとも陽極層２及び陰極層６と、これらの間に挟持された一層または複数層の有機化合物層７より構成される発光素子が複数配列された発光体アレイを有する露光装置であって、各発光素子の発光面積の調整により各発光素子の発光光量が均一化されていることを特徴とする露光装置。例文帳に追加

An exposure device is provided with a luminous matter array constituted of at least an anode layer 3, a cathode layer 6 and a plurality of luminous elements formed of one or a plurality or organic compound layers 7 clamped between the anode layer and the cathode layer and formed on the base 1, and quantities of light emitted by respective luminous elements are uniformized by the adjustment of light-emitting areas of respective luminous elements. - 特許庁

着色剤、結着樹脂および帯電制御剤を主成分とする静電荷像現像用トナーにおいて、該帯電制御剤として下記一般式（１）で表され、かつＸ線回折の２つのメインビーク（１番目に強度が強いピークと２番目に強いピーク）が４〜６度と１４〜１６度に存在する結晶構造を有する亜鉛化合物を使用することを特徴とする。例文帳に追加

The toner for developing the electrostatic charge image consisting essentially of coloring matter, a binder resin and an electrostatic charge controlling agent is prepared by using a zinc compound which is expressed by general formula (1) and has the crystal structure having the two main peaks (the peak having the first strong intensity and the peak having the second strong intensity) of an X-ray diffraction at 4 to 6° and 14 to 16°. - 特許庁

親水性支持体上に感光層及び保護層を有し、該感光層がエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、架橋性基を有する高分子バインダー及びヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有し、該保護層の酸素透過性（２５℃、１気圧下）が１．０〜２０ｃｃ／ｍ^2・ｄａｙの範囲であることを特徴とする感光性平版印刷版。例文帳に追加

The photosensitive lithographic printing plate has a photosensitive layer and a protective layer on a hydrophilic support, wherein the photosensitive layer contains a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a polymeric binder having a crosslinkable group, and a hexaarylbiimidazole compound, and wherein an oxygen permeability (25°C, 1 atm) of the protective layer is within a range of 1.0-20 cc/m^2×day. - 特許庁

半導体膜を形成する方法は、有機金属気相成長装置内に基板を置く工程Ｓ１２０ａと、ガリウムソース材料、インジウムソース材料、砒素ソース材料、窒素ソース材料、及び燐ソース材料を前記有機金属気相成長装置に供給してIII−Ｖ族化合物半導体膜を形成する工程Ｓ１３０と備える。例文帳に追加

The method of forming a semiconductor film comprises a process S120a of placing a substrate in an organic metal vapor phase deposition apparatus, and a process S130 of supplying a gallium source material, a indium source material, a arsenic source material, a nitride source material, and a phosphorus source material to the organic metal vapor phase deposition apparatus, to form the III-V compound semiconductor film. - 特許庁

単結晶基板上に化合物半導体層をエピタキシャル成長させたエピタキシャル成長基板１７の上方より励起光を照射して励起した後に、フォトルミネッセンスによる発光強度のマッピングをエピタキシャル成長基板全体に渡って行う座標変換手段としてのＸＹ座標変換手段１１２と、座標変換手段１１２により座標に分割された複数のピクセルのそれぞれとこれに隣接する複数ピクセルとの差を用いて、欠陥検出すべきピクセルが欠陥ピクセルかどうかを順次検出する欠陥検出手段１１３とを有している。例文帳に追加

The defect detector comprises: XY coordinate transformation means 112 as coordinate transformation means for exciting an epitaxial growth substrate 17 where a compound semiconductor layer is grown epitaxially on a single crystal substrate by applying exciting light from above and then mapping the light emission intensity of photoluminescence over the whole epitaxial growth substrate; and defect detection means 113 for sequentially detecting defective pixels by using the difference between multiple pixels divided into coordinates by the coordinate transformation means 112 and multiple pixels adjacent thereto. - 特許庁

少なくとも１つの基板を収容する化学気相成長用反応チャンバ内にモノシリルアミン、ジシリルアミン、および炭素フリーかつ塩素フリーのシラザン化合物からなる群の中から選ばれた少なくとも１種の前駆体ガスとアンモニアガスを供給することにより両ガスを反応させ、基板上にシリコン窒化物系絶縁膜を形成させる。例文帳に追加

In this method, silicon nitride-based insulating films are resepectively formed on substrates in a reaction chamber for chemical vapor phase growth housing at least one substrate by causing a reaction between at least one kind of precursor gas selected from among a group composed of monosilyl amine, disilyl amine, and carbon- and chlorine-free silazane compound and an ammonia gas by supplying both gases into the reaction chamber. - 特許庁

本発明は、基材と、基材表面に形成された細胞接着性領域とを備える細胞培養用基板であって、細胞接着性領域が、炭素酸素結合を有する有機化合物を含む細胞接着阻害性の親水性膜に酸化処理および／または分解処理を施して細胞接着性とした膜で形成されていることを特徴とする細胞培養用基板を提供する。例文帳に追加

A substrate for cell culture includes a base material and a cell adhesive region formed on a substrate surface, wherein the cell adhesive region is formed of a membrane obtained by applying an oxidation treatment and/or decomposition to a cell-adhesion-inhibitory hydrophilic membrane, that contains an organic compound having a carbon-oxygen bond, to make the membrane cell-adhesive. - 特許庁

基板上に形成するＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体素子において、第１の半導体層と第１の半導体層よりも低濃度にドーピングされた、もしくはドーパントがドーピングされていない第２の半導体層との間に、歪を有する半導体層が介在している構造を有することを特徴とするＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体素子を提供する。例文帳に追加

The group III-V compound semiconductor element to be formed on a substrate includes a structure where a semiconductor layer with a distortion is interposed between a first semiconductor layer and a second semiconductor layer, where doping is performed in low concentration or the dopant is not doped. - 特許庁

熱架橋剤として、エチレン性不飽和化合物及び／又は分子内にエポキシ基を有する化合物を含有する保護膜用熱硬化性組成物であって、該熱硬化性組成物０．１ｇを１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス基板の中心に滴下した後、スピンコートによりガラス基板中心部分の乾燥膜厚が２μｍ以上となるように塗布した場合、該塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ１）、該塗布層をさらに２３０℃３０分間の加熱処理を施した後の同一の塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ２）とした場合、以下の式を満たすことを特徴とする保護膜用熱硬化性組成物。例文帳に追加

The thermosetting composition for the protective film contains an ethylenically unsaturated compound and/or a compound with an epoxy group in the molecule as a thermal cross-linking agent. - 特許庁

半導体１は、ＭＯＣＶＤ法のサセプターにＧａＡｓ基板２をセットし、ＧａＡｓ基板２を加熱制御しつつ、III 族原料としてＴＭＡ等を、Ａｓ原料としてＡｓＨ_3 を、窒素原料として有機系窒素化合物であるＤＭＨｙ等を、キャリアガスとして水素を使用して、これらの原料ガスとキャリアガスを同時に反応室内に供給して成長させる。例文帳に追加

For a semiconductor 1, a GaAs substrate 2 is set at a susceptor of MOCVD method, while the GaAs substrate 2 is heated under control, TMA, etc., as III group material, AsH3 as As material, DMHy(dimethyl hydrazine) of an organic nitride compound, etc., as nitrogen material, are supplied into a reaction chamber at the same time for growing with hydrogen as carrier gas. - 特許庁

第１基板上に直接又は下引き層を介し供給層を設け、さらにその上に必要に応じて反射層、保護又は反射層、第２基板を設けてなる光記録媒体であって、記録層中に一般式（１）で示されるアゾ金属キレート化合物を少なくとも１種含有してなることを特徴とする光記録媒体。例文帳に追加

In the optical recording medium, a supplying layer is provided directly or through an undercoating layer onto a first substrate and, when necessary, a reflecting layer and a protective layer or a reflecting layer and a second substrate are provided onto the supplying layer under the state that the recording layer includes at least one kind of a compound among azo metal chelate compounds represented by general formula (1). - 特許庁

親水性支持体上に、（Ａ）特定の構造を有するエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、（Ｂ）側鎖に架橋性基を有する高分子バインダー、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）増感色素、および（Ｅ）特定の構造を有するチオール化合物を含有する感光層を有することを特徴とする感光性平版印刷版。例文帳に追加

The photosensitive lithographic printing plate has on a hydrophilic support a photosensitive layer containing (A) a compound of a specific structure having an ethylenically unsaturated double bond, (B) a polymer binder having a crosslinkable group in a side chain, (C) a polymerization initiator, (D) a sensitizing dye, and (E) a thiol compound of a specific structure. - 特許庁

本発明は、導電性基板上に、第一のオーミック電極、第一の接着用金属層、第二の接着用金属層および第二のオーミック電極をこの順番で備え、該第二のオーミック電極上に窒化物系化合物半導体層を備える窒化物系化合物半導体発光素子であって、前記第二のオーミック電極の一表面が露出していることを特徴とする窒化物系化合物半導体発光素子を提供する。例文帳に追加

The nitride based compound semiconductor light emitting element comprising a first ohmic electrode, a first bonding metal layer, a second bonding metal layer and a second ohmic electrode formed in this order on a conductive substrate is provided with a nitride based compound semiconductor layer on the second ohmic electrode, and one surface of the second ohmic electrode is exposed. - 特許庁

貫通転移などの欠陥やひび割れが少なく高品質窒化物結晶層をサファイア基板上に均一に形成することにより、高性能な窒化物系III−Ｖ族化合物半導体素子、その製造方法及びその製造に用いるエピタキシャル成長基板及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a nitride-based group III-V compound semiconductor element which has a high performance by uniformly forming a high quality nitride crystalline layer on a sapphire substrate with less fault such as through dislocation or less cracking, and also to provide a method for manufacturing the element, an epitaxial growth substrate for use in the element manufacturing method, and a method for manufacturing the substrate. - 特許庁