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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > めっき種に関連した英語例文

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めっき種の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 479



例文

さらに、細分類業で見てみると、最も高い銑鉄鋳物製造業で12.1%、次いでその他の金属表面処理業が8.7%、電気めっき業が8.1%となっており、一部業では、製造コストに占める購入電力使用額の割合が、極めて高い水準となっていることが分かる(第1-1-30 図)。例文帳に追加

Breaking these industries down to the next level of classification shows the proportion of manufacturing costs accounted for by spending on utility power to be extremely high in certain industries. Heading the list is iron castings (12.1%), followed by other metal surface treating (8.7%) and electroplating (8.1%) (Fig. 1-1-30).  - 経済産業省

本発明は、亜鉛イオン、アルミニウムイオン及び鉄イオンからなる群から選択される少なくとも1の不純物金属イオンを含む無電解ニッケルめっき液を、リン酸系抽出剤、カルボン酸系抽出剤及びキレート系抽出剤からなる群から選択される少なくとも1の抽出剤を内包させたマイクロカプセルと接触させて、該無電解ニッケルめっき液中の不純物金属イオンを除去することを特徴とする無電解ニッケルめっき液の再生処理方法に関する。例文帳に追加

The regeneration treatment method of an electroless nickel plating solution is characterized in removing the impurity metal ions in the electroless nickel plating solution by contacting the electroless nickel plating solution including at least one kind of the impurity metal ion selected from the group consisting of zinc ions, aluminum ions, and iron ions with micro capsules involving at least one kind of the extractant selected from the group consisting of phosphate system extractants, carboxylic acid system extractants, and chelate system extractants. - 特許庁

金属イオンとして、NiイオンおよびCoイオンの少なくとも1と、Znイオンを含み、アニオンとして、チオ硫酸イオン、亜硫酸イオンおよび硫酸イオンを含むことを特徴とする黒色合金めっき液。例文帳に追加

The black alloy plating solution contains a zinc ion and at least one kind of a nickel ion and a cobalt ion as a metal ion and contains a thiosulfate ion, a sulfite ion and a sulfate ion as an anion. - 特許庁

本発明のスズめっき液は、スズイオン源、少なくとも1の非イオン性界面活性剤、イミダゾリンジカルボキシレート及び1,10−フェナントロリンを含有する。例文帳に追加

The tin plating solution include a tin ion source, at least one nonionic surfactant, imidazoline dicarboxylate and 1,10-phenanthroline. - 特許庁

例文

リンを含まず、かつ、金属としてクロムを除く金属酸化物又は金属水酸化物の一方又は双方を主成分とする被膜層を有する金属(水)酸化物被覆めっき線材である。例文帳に追加

A metal oxide (hydroxide) coated wire has a coating layer containing no phosphorus and mainly consisting of one or both of a metal oxide or a metal hydroxide except chromium for metal species. - 特許庁


例文

めっき鋼板を含む各鋼材に対して、迅速かつ高感度の水素脆化感受性を評価することができる方法、および耐水素脆性に優れた鋼材を提供する。例文帳に追加

To provide a method capable of executing quick and highly sensitive evaluation of hydrogen embrittlement sensitivity relative to various steel products including a plated steel sheet, and a steel product having excellent hydrogen embrittlement resistance. - 特許庁

メタバナジウム酸イオン(VO_3^−)と、ニッケルイオン及びコバルトイオンから選択される少なくとも1の金属イオンと、金属イオンの錯化剤と、金属イオンの還元剤とを含有することを特徴とする無電解めっき液。例文帳に追加

The electroless plating liquid comprises: a metavanadic acid ion (VO_3^-), at least one metal ion selected from a nickel ion and a cobalt ion; a complexing agent for the metal ion(s); and a reducing agent for the metal ion(s). - 特許庁

銅塩と、亜鉛塩と、ピロりん酸アルカリ金属塩と、アミノ酸またはその塩から選ばれた少なくとも一と、ポリエーテルとを含有する銅−亜鉛合金電気めっき浴である。例文帳に追加

The copper-zinc alloy electroplating bath comprises: a copper salt; a zinc salt; an alkali metal pyrophosphate salt; at least one selected from amino acid and the salt thereof; and polyether. - 特許庁

パラジウム電気めっき浴として、パラジウム源の1以上、アンモニウムイオン及び尿素から本質的になる組成物とし、少なくとも10アンペア/dm2の電流密度を発生させてパラジウムを堆積させる方法。例文帳に追加

The method of depositing palladium is carried out by using a composition essentially comprising one or more palladium sources, ammonium ion and urea as the palladium electroplating bath and generating current density of at least 10 A/dm^2. - 特許庁

例文

金属表面に対する数ナノメータの厚さの耐食性アルカンチオール被覆により、各金属、特に亜鉛鍍金及び電気亜鉛鍍金鋼の耐食性を向上させる。例文帳に追加

To improve the corrosion resistance of various metals, particularly galvanized steel and electrogalvanized steel by corrosion-resistant alkanethiol coatings of a few nanometers thickness on metal surfaces. - 特許庁

例文

金属製芯材には、第三亜鉛めっき以上の表面処理を施す場合があり、樹脂コーティング材を、ポリエチレンによって形成する場合がある。例文帳に追加

In some cases, surface treatment exceeding class 3 zinc plating may be applied on the metal-made core material, and the resin coating material may be formed by polyethylene. - 特許庁

インジウム化合物、バリウム化合物、及びスズ化合物の中から選択された少なくとも1以上を、無電解ニッケルめっき液中に金属元素換算で総計0.1〜100ppm含有している。例文帳に追加

At least one or more kinds selected from indium compounds, barium compounds and tin compounds are incorporated into an electroless nickel plating liquid by 0.1 to 100 ppm in total expressed in terms of metallic elements. - 特許庁

希土類系永久磁石をはじめとする各の物品の表面に形成したニッケルめっき被膜の濡れ性を、環境に優しく簡便に改善する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for simply and ecology-friendlily improving the wettability of a nickel plating film formed on the surfaces of various articles including a rare earth based permanent magnet. - 特許庁

銀イオンと、第一の錯化剤としてニトロ芳香族化合物と、第二の錯化剤としてアミノカルボン酸化合物、ヒドロキシカルボン酸化合物及びトリアゾール化合物から選ばれる一以上を含む銀めっき液とする。例文帳に追加

The silver plating liquid comprises silver ions, a nitro aromatic compound as a first complexing agent, and one or more kinds selected from an aminocarboxylic acid compound, a hydroxycarboxylic acid compound and a triazole compound as second complexing agents. - 特許庁

3価クロム化合物と、チタン、コバルト、タングステン、アルミニウムの各化合物から選ばれた1以上の金属化合物と珪素とを含有する水溶液で、めっき材を化成処理する。例文帳に追加

A plating material is subjected to electrochemical formation treatment in an aqueous solution containing a trivalent chromium compound, one or more kinds of metallic compounds selected from each compound of titanium, cobalt, tungsten and aluminum, and silicon. - 特許庁

可溶性銀塩と、チオ尿素類などの含イオウ化合物からなる錯化剤とを含有する置換銀メッキ浴において、塩素含有化合物及び臭素含有化合物の少なくとも一を含有する置換銀メッキ浴である。例文帳に追加

A displacement-silver-plating bath containing a soluble silver salt and a complexing agent formed of a sulfur-containing compound such as thiourea further includes at least one of a chlorine-containing compound and a bromine-containing compound. - 特許庁

元素周期表のIB族またはVIII族の貴金属の錯化合物の少なくとも1を含有し、銅埋め込み配線構造を有する電子デバイスに無電解めっきを行う前の前処理に使用される。例文帳に追加

This catalytic treatment liquid includes at least one complex compound of noble metals of a group IB or a group VIII in the periodic table, and being used for pretreatment prior to the electroless plating on electronic devices having a copper buried wiring structure. - 特許庁

還元剤としてヒドラジン類を使用する銀鏡用めっき液に、モノアミンアルコール化合物及び第1級アミン基を持つアミノ酸又はそのナトリウム塩の少なくとも1類を添加する。例文帳に追加

At least one kind selected from the group consisting of monoamine alcohol compounds, amino acids each having a primary amine radical, and the sodium salts thereof is added to a plating solution for the silver mirror using hydrazines as a reducing agent. - 特許庁

めっき法で形成された低抵抗な電力配線を有しながらも、異なる類の金属がインクや水分等に接触することがない構造を有する、インクジェット記録ヘッド用の基板およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate for ink jet recording head having such a structure as a metal of different kind does not touch the ink or moisture while having low resistance power wiring formed by plating, and to provide its production process. - 特許庁

銅塩と、亜鉛塩と、ピロりん酸アルカリ金属塩と、アミノ酸またはその塩から選ばれた少なくとも一とを含有し、アミノ酸またはその塩の濃度が0.08mol/L〜0.22mol/Lである銅−亜鉛合金電気めっき浴である。例文帳に追加

The copper-zinc alloy electroplating bath comprises: a copper salt; a zinc salt; an alkali metal pyrophosphate salt; and amino acid or its salt, and in which the concentration of the amino acid or the salt thereof is 0.08 to 0.22 mol/L. - 特許庁

滅菌ガス発生装置3により、母ガス中の雰囲気中において放電プラズマを発生させて、滅菌作用を有する化学的活性を生成する。例文帳に追加

The discharge plasma is generated in the atmosphere of the mother gas with a sterilization gas generator 3 to form a chemically active species having a sterilization action. - 特許庁

3次元の樹脂成形品上に金属めっきを施すため、樹脂成形品の取り扱いのための経費と、通常は多数で異なる金型とを大幅に削減し、及び、部品の類ごとの搭載経費を低減する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method by which the cost for handling resin molded articles and a number of different molds usually used are drastically reduced and further, the mounting cost of every kind of component is reduced, for applying metal plating onto three dimensional resin molded articles. - 特許庁

最後に、半導体製造工程(例えば、スパッタリング法や、蒸着法等)を以ってめっき子層として電子素子の両端の表面に金属フィルムを形成する。例文帳に追加

Lastly in a semiconductor manufacturing process (for example, sputtering method, vapor deposition method or the like), a metal film is formed as a plating seed layer on the surface of both ends of electronic element. - 特許庁

導電層の厚みや膜めっき液の電解質等を変更することなく、基板面内における均一な電解処理を行えるようにした電解処理装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for electrolytic treatment that enable a uniform electrolytic treatment in a substrate plane without changing the thickness and the film type of a conductive layer, the electrolyte of a plating solution, and the like. - 特許庁

金−錫合金電気めっき浴を、(a)可溶性金錯塩と、(b)可溶性二価錫塩と、(c)ヒドロキシカルボン酸及びその塩から選ばれる少なくとも一と、(d)有機燐酸化合物と、(e)ヒドロキシベンゼン化合物とを含有することで構成する。例文帳に追加

This gold-tin alloy electroplating bath contains (a) soluble metal complex salt, (b) soluble bivalent tin salt, (c) at least one kind selected from hydroxycarboxylic acid and the salt thereof, (d) an organic phosphoric compound and (e) a hydroxybenzene compound. - 特許庁

このうち、高純度の銅層である第1の配線層13aはスパッタリングにより第1の樹脂層12上に異金属を介在させることなく形成し、第2の配線層13bは銅の電気めっきにより形成する。例文帳に追加

In it, a first wiring layer 13a which is a high purity copper layer is formed without interposing a dissimilar metal on the first resin layer 12 by sputtering, and a second wiring layer 13b is formed by copper electroplating. - 特許庁

またCo、Ni、Co合金またはNi合金の1めっきした後に、Ni基耐熱合金粉末またはCo基耐熱合金粉末の溶射皮膜を形成してもよい。例文帳に追加

Further, a spray deposit film of Ni-based heat-resistant alloy powder or Co-based heat-resistant alloy powder may be deposited after plating one kind of Co, Ni, Co alloy and Ni alloy. - 特許庁

金属又は合金被覆層3は、溶融塩めっき法、CVD法、PVD法及びろう接法から成る群から選択される少なくとも1の方法により形成する。例文帳に追加

The metal or alloy coating layer 3 is formed by at least one method selected from the group comprising molten-salt plating, CVD, PVD and brazing. - 特許庁

素材でなる製品の表面に、均一な光沢性、優れた密着性を有する銀鏡皮膜を形成できる銀鏡用めっき液を提供する。例文帳に追加

To prepare a plating solution for a silver mirror with which a silver mirror film having uniform glossiness and excellent adhesion can be formed on the surface of a product consisting of various stocks. - 特許庁

(i)水溶性金化合物、(ii)錯化剤、(iii)還元剤、並びに(iv)イソチオ尿素及びその誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一の成分からなる安定剤、を含有する水溶液からなる自己触媒型無電解金めっき液。例文帳に追加

The autocatalytic electroless gold-plating liquid is an aqueous solution including (i) a water-soluble gold compound, (ii) a complexing agent, (iii) a reducing agent, and (iv) a stabilizing agent containing at least one ingredient selected from the group consisting of isothiourea and derivatives thereof. - 特許庁

オゾン処理工程後にその表面処理工程を加えることで、めっき皮膜の密着性を向上させると共に、ABS樹脂、PS樹脂をはじめ多くの類の合成樹脂にオゾン処理工程を施すことができる。例文帳に追加

To enhance the adhesiveness of a plating film by adding a surface treatment process after an ozone treatment process, and to execute the ozone treatment process to many kinds of synthetic resin including ABS resin and PS resin. - 特許庁

金属膜60は内側から順に、Zn又はZn合金からなる置換層61、Ni又はNi合金からなる抵抗層62、及び電気Cuめっき層63である。例文帳に追加

The different kinds of metal film 60 are a substitution layer 61 consisting of Zn or a Zn alloy, a resistive layer 62 consisting of Ni or a Ni alloy, and an electroplated Cu layer 63 sequentially from inside. - 特許庁

めっき層と鋼板母材との界面から深さ2μm以内の鋼板母材中に、Si、MnまたはAlの単独酸化物、これらの二以上を含む酸化物、又はこれらの複合酸化物が存在する。例文帳に追加

The independent oxides of Si, Mn or Al, oxides including two or more selected from Si, Mn and Al or their multiple oxides are present in the base material of the steel sheet within a depth of 2 μm from the boundary between the plating layer and the base material of the steel sheet. - 特許庁

有機樹脂フィルムFのいずれか片方の面に乾式めっき法での成膜手段11、12により第1の銅薄膜を成膜し、この第1の銅薄膜の表面に成膜手段13により異金属薄膜を成膜する。例文帳に追加

A first copper thin film is formed on one surface of the organic resin film F with film forming means 11, 12 by the dry-type plating method, and a different metal thin film is formed on the surface of the first copper thin film with a film forming means 13. - 特許庁

円柱基材に形成されためっき皮膜の類によらず、円柱基材とゴム層または、円柱基材と接着剤から剥離が発生しない高品質なゴムローラーを提供する。例文帳に追加

To provide a high-quality rubber roller capable of preventing occurrence of peeling-off from a cylindrical base material and a rubber layer or the cylindrical base material and an adhesive irrespective of the types of plated films formed on the cylindrical base material. - 特許庁

Zn-Al-Mg合金めっき層は、Zr,Y,Si,希土類元素から選ばれた少なくとも一の易酸化性元素を0.002〜0.05質量%含む場合もあり、両面合計の付着量:180g/m^2以下で鋼板表面に設けられる。例文帳に追加

The Zn-Al-Mg alloy plating layer contains, in some cases, 0.002 to 0.05 mass% at least one kind of the easily oxidizable element selected from Zr, Y, Si and rare earth elements, and is disposed on the surface of the steel plate at a coating weight of180 g/m^2 in total of both surfaces. - 特許庁

横型炉を備え、冷延鋼帯の溶融めっきと連続焼鈍とを行なうことの可能な装置であって、多品の連続焼鈍材の製造に対応することのできる冷延鋼帯の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus which produces a cold-rolled steel strip, which is provided with a horizontal furnace and can perform hot-dip plating and continuous annealing and which can produce many kinds of continuously annealed materials. - 特許庁

の金属からなる溶融金属を帯板に連続溶融めっきしても、常に目的とする組成の被覆層を容易に形成できる設備を提供する。例文帳に追加

To provide a continuous hot dip coating equipment capable of consistently and easily depositing a coating layer of a desired composition even when a strip is continuously hot-dipped in a molten metal consisting of two metals. - 特許庁

主として自動車排気系素材、建材、家電、各熱器具等に使用される耐熱性、耐食性に優れたを溶融Alめっき鋼板を提供する。例文帳に追加

To provide a hot dip Al plated steel sheet excellent in heat resistance and corrosion resistance and mainly used for automotive exhaust system stocks, building materials, household appliances, various thermal apparatus or the like. - 特許庁

配線形成は、これらプレートを合体させて得られる保持プレートを単一の部材として取り扱い、その上下面に対しての一括でのめっき、個々の面側から々の膜形成、露光、現像の各処理を行うことにより為す。例文帳に追加

Wiring lines are fabricated by handling a holding plate obtained by integrating these plates as a single member and by subjecting the upper and lower faces together to plating and to steps of forming various films, exposing and developing on each surface side. - 特許庁

mass%で、C≦0.25%、Si:0.1〜3.0%、Mn:0.5〜5.0%、Al:0.005〜3.0%を含有する鋼板表面に、まず、Fe,Ni,C,S、Cu、Coからなる群から選ばれた少なくとも1の成分を含む前めっき処理を施す。例文帳に追加

The surface of a steel sheet containing, by mass, ≤0.25% C, 0.1 to 3.0% Si, 0.5 to 5.0% Mn and 0.005 to 3.0% Al is first subjected to the treatment of preplating containing at least one kind of component selected from the group consisting of Fe, Ni, C, S, Cu and Co. - 特許庁

不良の発生しやすい銅めっき工程を極力無くし、更に、製造工程を短縮してよりファインパターンの形成も可能な基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a board which eliminates as much as possible copper plating processes in which various failures are apt to occur, moreover shortens a manufacturing process, and forms a finer pattern. - 特許庁

R−T−B系希土類磁石(RはYを含む希土類元素の少なくとも1であり、TはFeまたはFe及びCoである。)の表面に電解Alめっき層とその外層に耐酸化層を有することを特徴とする。例文帳に追加

An electrolytic Al plating layer is formed on the surface of an R-T-B rare earth magnet (R is at least a kind of rare earth elements containing Y, and T is Fe or Fe and Co) and an oxidation-resistant layer is formed on the outer layer. - 特許庁

めっきレジストを真空下に曝し収縮させ、エッチング液に耐性のある金属を金属保護膜5としてスパッタリングによって形成する。例文帳に追加

A plating resist is exposed to vacuum to be reduced, to form a circuit by sputtering with a kind of metal resistive to an etching liquid as a metal protecting film 5. - 特許庁

めっき法で形成された低抵抗な電力配線を有しながらも、異なる類の金属がインクや水分等に接触することがない構造を有する、インクジェット記録ヘッド用の基板およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate for an inkjet recording head which has a structure that prevents different kinds of metals from touching ink, moisture, etc. although it has a power wiring line of a low resistance formed of the plating method, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

半導体装置において用いられる基板上下面の確実な電気的接続を可能にする、基板に設けたスルーホールにめっきにより金属材料を充填する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of throughhole plating by which a metallic material can be filled by plating in a through hole formed in a substrate used in various semiconductor devices to surely electrically connect upper and lower surfaces of the substrate to each other. - 特許庁

で表される化合物と、第4周期から第6周期の第VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA族から選ばれた金属の水可溶性塩の1以上とを含有するするめっき液。例文帳に追加

The plating solution includes a chemical compound shown by Formula (1) and one or more water-soluble salts of a metal selected from the group consisting of the Group VIII, IB, IIB, IIIA, IVA and VA in the fourth period to the sixth period. - 特許庁

重金属を含むことなく、鋼板、亜鉛メッキ鋼板、アルミニウムメッキ鋼板等の各金属基材上に耐食性に優れた塗膜を形成できる水性塗料組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a water-based coating composition which can form coating films having excellent corrosion resistance on various kinds of metal substrates such as steel plates, galvanized steel plates, and aluminum-plated steel plates without containing a heavy metal. - 特許庁

多品少ロット品を効率良く大量生産でき、又混入のない品質の良い電気めっき処理をする、バレルとバレル装置と処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a barrel, a barrel device, and a treatment method, whereby a wide variety of goods in small lots can be efficiently mass-produced and a high-quality electroplating treatment free from mixing is performed. - 特許庁

例文

好ましくは、溶融亜鉛めっき処理を施すに先立ち、まず、元素XとしてS、Cl、Na、K、Ni、C、N、B、Se、Brの少なくとも1以上を含有する化合物を、下記(1)式を満足するように鋼板表面に付着させ、次いで、再結晶焼鈍する。例文帳に追加

Preferably, prior to the hot-dip galvanization process, a compound containing an element X which is at least one of S, Cl, Na, K, Ni, C, N, B, Se and Br is deposited on the sheet surface satisfying [X]≥(1/600)×[M], and the sheet is subjected to recrystallization annealing. - 特許庁

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