「エッチ率」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

層間絶縁層は所定のエッチング液に対してダミー絶縁層よりも低いエッチング率を有する。例文帳に追加

The interlayer insulating layer has etching rate lower than the dummy insulating layer to specific etching liquid. - 特許庁

高速・高収率のプラズマエッチング方法、およびプラズマエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus of high speed/high yield. - 特許庁

下層膜や基板のエッチングを抑えて、高誘電率膜のエッチングを行う。例文帳に追加

To perform etching to a film of a high dielectric constant, inhibiting the etching of a lower layer film or substrate. - 特許庁

基板上の高誘電率材料を含む薄膜を選択的にエッチングすることができるエッチング方法およびエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and system for selectively etching a thin film formed on a substrate and containing a high-permittivity material. - 特許庁

効率よく低コストで均一なエッチング加工を行うことができるプラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To efficiently execute a uniform etching process at a low cost. - 特許庁

エッチング処理における加工品質を良好に維持してエッチング効率を高めたエッチング液を製造する。例文帳に追加

To produce an etching soln. increased in etching efficiency in such a manner that working quality in etching treatment is satisfactorily maintained. - 特許庁

被処理層のうちの所望の層を効率よくエッチングしうるエッチング方法又はエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of etching or an apparatus for etching, capable of efficiently etching a requested layer out of the layers to be processed. - 特許庁

ウエハのエッチングのエッチング深さ及び形状を高精度に制御し、不良率を低くするウエハの高精度エッチング方を提供する。例文帳に追加

To provide a high-precision etching method for a wafer that can control an etching depth and shape with high accuracy, thereby lowering the percent defective, when etching a wafer. - 特許庁

高誘電率材料膜除去用エッチング液例文帳に追加

ETCHANT FOR REMOVING HIGH DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL FILM - 特許庁

エッチング廃液からセリウムを高効率回収する。例文帳に追加

To recover cerium from an etching waste solution at high efficiency. - 特許庁

高誘電率薄膜エッチング剤組成物例文帳に追加

ETCHING AGENT COMPOSITION FOR THIN FILM HAVING HIGH PERMITTIVITY - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY-ETCHING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

高誘電率材料をエッチングする方法例文帳に追加

METHOD OF ETCHING HIGH DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS - 特許庁

窒化ケイ素のウェットエッチング率を減少させる方法例文帳に追加

METHOD FOR REDUCING WET ETCHING RATE OF SILICON NITRIDE - 特許庁

効率のよいエッチングを行うことを可能とする。例文帳に追加

To enable efficient etching. - 特許庁

高誘電率薄膜エッチング剤組成物例文帳に追加

ETCHANT COMPOSITION FOR THIN FILM HAVING HIGH DIELECTRIC CONSTANT - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

METHOD FOR DRY-ETCHING LOW DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD OF INSULATING FILM BETWEEN LOW DIELECTRIC CONSTANT LAYERS - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

METHOD OF DRY ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

ドライエッチング装置などの排気を効率よく行う。例文帳に追加

To exhaust gas in a dry etching system efficiently. - 特許庁

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法例文帳に追加

METHOD OF DRY-ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM - 特許庁

有機Ｓｉ系低誘電率膜をマスクとして被処理体のＳｉＣ部分をエッチングガスのプラズマによりエッチングする場合に、エッチングレートおよび有機Ｓｉ系低誘電率膜に対するエッチング選択比を高くしてエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an etching method capable of etching while raising an etching rate and an etching selection rate with respect to an organic Si based low dielectric constant film, when a SiC part of a body to be processed is etched by plasma of etching gas by using the organic Si based low dielectric constant film as a mask. - 特許庁

有機Ｓｉ系低誘電率膜をマスクとして被処理体のＳｉＣ部分をエッチングガスのプラズマによりエッチングする場合に、エッチングレートおよび有機Ｓｉ系低誘電率膜に対するエッチング選択比を高くしてエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an etching method for making an etching rate and an etching selection rate with respect to an organic Si low dielectric constant film to be high and etching a SiC part when the SiC part of a body to be processed is etched by the plasma of etching gas with the organic Si low dielectric constant film as a mask. - 特許庁

金属膜をエッチングするエッチング装置のクリーニング方法において、エッチング処理室内部に堆積するエッチングによって生じた堆積物を効率良く除去して」、エッチング性能の再現性が有り、エッチング処理室内部から異物の発塵が少ない状態を維持する。例文帳に追加

To maintain the state where there is little dusting of foreign substances from the inside of an etching processing chamber, and the reproducibility of etching performance is secured, by efficiently removing sediment accumulated by etching in the inside of the etching processing chamber, in the cleaning method of the etching device for etching a metal film. - 特許庁

プラズマエッチング装置のエッチングガス中のエチルアルコールの最適添加比率の決定のために、エッチングマスクに対する等方性エッチングレートを零にするエチルアルコール添加比率が求められる。例文帳に追加

In order to determine an optimum addition ratio of ethyl alcohol in an etching gas of a plasma etching apparatus, ethyl alcohol addition ratio is found so as to make zero an isotropic etching rate to an etching mask. - 特許庁

ウェットエッチングの代わりに、接着剤に対するエッチング率が樹脂型材料に対するエッチング率より大きいガスによるドライエッチングとすることもできる。例文帳に追加

Instead of the wet etching, dry etching with a gas which has a higher etching rate to the adhesives than to the resin mold material can be carried out. - 特許庁

アルカリ過マンガン酸エッチング溶液を用いたエッチングにおいてエッチング効率の低下を防止し、有害廃液を減らすために、効率良くエッチング溶液の再生を行う。例文帳に追加

To provide an efficient regeneration of an etching solution, in an etching step that uses an alkaline permanganate etching solution, in order to inhibit the etching efficiency from deteriorating and to reduce a harmful waste solution. - 特許庁

レジストをドライエッチングする際のエッチング効率を向上させることができ、エッチング時間を短縮して作業効率を向上させ、被処理物が損傷したり特性が劣化することを抑制することができるドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for dry etching that can improve etching efficiency at the time when dry etching of resist is performed, can improve working efficiency by shortening an etching time, and can prevent the damage of a processing object and the deterioration of its properties. - 特許庁

好ましくは、シリコン含有膜のエッチングすべき部分の大半をエッチングする第１エッチング工程では上記含有率を高くし、残りのシリコン含有膜をエッチングする第２エッチング工程では上記含有率を低くする。例文帳に追加

Preferably, the proportion is high in a first etching process, in which most of the part of the silicon-containing film which is to be etched is etched, and low in a second etching process, in which the remaining silicon-containing film is etched. - 特許庁

ウエットエッチングに近い金属を溶解するエッチング方法でありながら、微細なエッチングを正確且つ効率的に行うことができるエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method for precisely and efficiently performing minute etching in the etching method for dissolving a metal, which is close to wet etching. - 特許庁

フレキシブル基板に均一に効率よくエッチング液を噴射し、疲労したエッチング液を残留させることなくエッチングをし、テープ中央部と周辺部でのエッチング状態を均一にすることを可能とする。例文帳に追加

To provide an etching method where an etching liquid is uniformly efficiently sprayed on a flexible board so as to perform etching without leaving a fatigued etching liquid, and the etching condition in the central part and the peripheral part in a tape is made uniform. - 特許庁

エッチング処理における加工品質を良好に維持してエッチング効率を高めることができるエッチング液を製造することのできるエッチング廃液の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating an etching waste soln. capable of producing an etching soln. capable of increasing etching efficiency in such a manner that working quality in etching treatment is satisfactorily maintained. - 特許庁

次に、第１のエッチング条件とは異なる第２のエッチング条件で、キャップ膜２０の残部２２と低誘電率膜１０とを一括してエッチングする（第２のエッチング工程）。例文帳に追加

Next, the remaining part 22 of the cap film 20 and the low dielectric film 10 are etched at the same time under second etching condition different from the first etching condition (second etching step). - 特許庁

導電膜を効率よくエッチングすることが可能で、しかも、エッチング後に残渣を生じることがなく、かつ、エッチング時の発泡を抑制することが可能でエッチング作業性にも優れた導電膜用エッチング液組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an etchant composition for a conductive film which can efficiently etch a conductive film, which does not produce residues after etching, which can suppress foaming at etching, and which is excellent in terms of etching workability. - 特許庁

エッチング工程の遂行時、エッチング液の濃度を一定に維持し、エッチング率が向上させて工程制御及び生産性が向上させる半導体素子製造用湿式エッチング装置及びこれを利用した半導体素子の湿式エッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device and etching method therefor with which the controllability and productivity of an etching process are improved by having the etching rate improved, while the concentration of the etchant used is maintained constant during the etching process. - 特許庁

エッチングステップによる残留したエッチングガスの排気効率を大幅に高めることができ，次に連続して実行されるアッシングステップを実行したときに，残留したエッチングガスによる被エッチング膜のエッチングを防止する。例文帳に追加

To prevent etching of an etching object film by residual etching gas when exhaust efficiency of the residual etching gas by an etching step can be enhance to a large extent and next an ashing step to be continuously executed is executed. - 特許庁

同じエッチング液を繰り返し使用して、アルミニウムまたはその合金からなる複数の被処理物を、ほぼ一定のエッチング効率で、安定して連続的にエッチング処理できる上、エッチング液を再生して再使用することも容易なエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method where the same etching liquid is repeatedly used, and a plurality of works composed of aluminum or the alloy thereof can be stably and continuously subjected to etching treatment at almost fixed etching efficiency, and further, the etching liquid can be regenerated, so as to be reused. - 特許庁

本発明は、簡単な装置構成で、高稼動率を実現し、被処理物の材質を限定せず、高精度に所定のエッチング量でエッチングを終了することができるドライエッチングのエッチング量制御方法及びドライエッチング装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for controlling the amount of etching in dry etching process that achieves high operating efficiency in simple apparatus structure, and can complete etching by a specific amount of etching accurately without limiting the quality of a workpiece, and to provide a dry etching apparatus. - 特許庁

ウェットエッチングに適した層の間にドライエッチングに適した層が介在されている除去部を効率よくエッチングすることができる、積層膜構造体におけるエッチング方法、並びに、当該エッチング方法に使用されるウエハを提供する。例文帳に追加

To provide an etching method in a stacked film structural body capable of efficiently etching a removal part in which a layer suited for dry etching is interposed into a space between layers suited for wet etching, and to provide a wafer used for the etching method. - 特許庁

低誘電率の誘電膜を除去するためのエッチング溶液及びこれを利用した低誘電率の誘電膜エッチング方法例文帳に追加

ETCHING SOLUTION TO REMOVE DIELECTRIC FILM WITH LOW PERMITTIVITY, AND ETCHING METHOD OF THE FILM USING THE SOLUTION - 特許庁

等比率のO2、Ar及びCCl2F2 からなることを特徴とするガス状エッチング媒体。例文帳に追加

A gas phase etching medium comprising equal proportion of O2, Ar and CCl2F2.  - 特許庁

効率を高めたフッ化キセノン・エッチングのための方法及びシステム例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR FLUORINATED XENON ETCHING WITH IMPROVED EFFICIENCY - 特許庁

多孔質低誘電率材料のエッチング後のクリーニング法例文帳に追加

POST-ETCHING CLEANING METHOD FOR POROUS LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL - 特許庁

これにより、プラズマエッチング処理を高い効率で行うことができる。例文帳に追加

As a result, the plasma etching treatment can be performed with high efficiency. - 特許庁

有機系低誘電率層間絶縁膜のエッチング方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING INSULATING FILM BETWEEN ORGANIC LOW DIELECTRIC CONSTANT LAYERS - 特許庁