「エッチ率」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

１回のエッチングにより、高精度かつ光の利用効率が高い非球面のマイクロレンズを形成する。例文帳に追加

To form aspherical microlenses having high precision and high utilization efficiency of light by single etching. - 特許庁

エッチング工程時の感光膜の損傷率及びイオン不純物の浸透を防止すること。例文帳に追加

To check the damage rate of a photosensitive film and the infiltration of ion impurities during an etching process. - 特許庁

その後、連続してマスクパターン層上から低誘電率膜１０３をドライエッチング処理する。例文帳に追加

After that, dry etching treatment is applied to the low-permittivity film 103 from the upper portion of the mask pattern layer successively. - 特許庁

半導体処理装置のクリーニング方法および高誘電率酸化膜のエッチング方法例文帳に追加

METHOD FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR PROCESSOR AND METHOD FOR ETCHING HIGH DIELECTRIC CONSTANT OXIDE FILM - 特許庁

微小溝の形成を電解エッチングによって能率よく且つ高精度にて行うことができるようにする。例文帳に追加

To efficiently form a very small groove with high accuracy by the electrolytic etching. - 特許庁

ドライエッチングにおいて高異方性、低ゲート破壊率の加工を達成する。例文帳に追加

To attain a processing of high anisotropy and low gate breakdown rate in dry etching. - 特許庁

低誘電率絶縁膜の表面荒れを起こさないエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method causing no surface rougheness of a low permittivity insulating film. - 特許庁

ブラスト法とエッチング法とを組合せてディスプレイパネルの隔壁を効率良く形成する。例文帳に追加

To efficiently form a partition wall of a display panel by combining the blast method and the etching method. - 特許庁

生産効率の向上を図ることができるドライエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a dry etching apparatus which can improve the production efficiency. - 特許庁

誘電率が低くかつエッチング耐性に優れた窒化シリコン系絶縁膜を形成する。例文帳に追加

To form a silicon nitride based insulating film, in which a dielectric constant is low and an etching resistance is excellent. - 特許庁

高アスペクト比のコンタクトホールを形成する、及び低誘電率膜を良好にエッチングする。例文帳に追加

To form a contact hole having a high aspect ratio, and to suitably etch a low-permittivity film. - 特許庁

さらに、エッチングにより、製造効率の良いＧｅアイランド２の製造方法を提供することができる。例文帳に追加

Additionally, etching can provide a method of manufacturing the Ge island 2 having excellent manufacturing efficiency. - 特許庁

低誘電率、低エッチングレート、高絶縁性の特性を備える絶縁膜を形成する。例文帳に追加

To form an insulator film having such characteristics as low dielectric constant, low etching rate, and high insulation property. - 特許庁

集光率を向上できると共に、エッチングダメージ層の形成を防止する。例文帳に追加

To improve a condensing rate, and to prevent the formation of an etching damage layer. - 特許庁

半導体装置のチャネル部分等のエッチングを効率化し処理タクトを短縮する。例文帳に追加

To shorten a process cycle time by efficiently etching a channel part etc., of a semiconductor device. - 特許庁

エッチングラジカルＲを成膜チャンバ２内のコーナ部８に効率良く流入できる。例文帳に追加

The etching radicals R can efficiently flow into the corners 8 in the deposition chamber 2. - 特許庁

フィルム状の加工材料を効率的にドライエッチングできるプラズマ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma working device capable of efficiently dry-etching a filmlike working material. - 特許庁

低誘電率絶縁膜の表面荒れを起こさないエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method causing no surface rougheness on a surface of a low dielectric constant insulating film. - 特許庁

ドライエッチングにおいて高異方性、低ゲート破壊率の加工を達成する。例文帳に追加

To achieve high anisotrophy and machining with a low gate destruction rate in dry etching. - 特許庁

廃水、たとえばエッチング廃酸から金属、たとえば銅を効率的にかつ容易に回収する。例文帳に追加

To efficiently and easily recover a metal, for example, copper from waste water, for example, a waste etching acid. - 特許庁

銅エッチングを効率よく処理する方法及びそれに使用する薬剤を提供する。例文帳に追加

To treat copper etching with high efficiency. - 特許庁

低誘電率、低エッチングレート、高絶縁性の特性を備える絶縁膜を形成する。例文帳に追加

To form an insulation film having properties of a low dielectric constant, a low etching rate and high insulating performance. - 特許庁

リソグラフィ工程において、効率的にレジスト膜厚を厚くしてエッチング耐性を向上させる。例文帳に追加

To improve etching resistance by increasing a resist film thickness in a lithography process step. - 特許庁

高誘電率絶縁膜１０７の上にシリコン種供給源としての多結晶シリコン膜パターン１０３，１０４を設け、高誘電率絶縁膜１０７をエッチングする際に多結晶シリコン膜パターン１０３，１０４もエッチングすることによって、エッチング雰囲気中にシリコン種Ｓ_１を供給する。例文帳に追加

Polycrystalline silicon film patterns 103, 104 as a silicon seed supply source are provided on the high dielectric constant insulating film 107, and the patterns 103, 104 are etched when etching the film 107, thereby supplying a silicon seed S_1 into an etching atmosphere. - 特許庁

製造すべき前記所定のパターン形状に対応したマスクの透過率分布を決定する際に、前記エッチングにおけるエッチング選択比（基板のエッチンクレートとレジストのエッチングレートの比）と前記所定のパターン形状との関係を考慮して、前記マスクの透過率分布を決定するようにしている。例文帳に追加

When the distribution of transmittance of a mask corresponding to a predetermined pattern figure to be manufactured is determined, the distribution of transmittance of the mask is determined by taking into consideration the relation between the etching selection ratio for etching (the ratio of the etching rate of a substrate to the etching rate of a resist) and the predetermined pattern figure. - 特許庁

ワークに対して効率よくエッチング加工を行うことができ、かつ小型で安価なプラズマ処理装置、および、効率よくエッチング加工を行うことができるプラズマ処理方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a compact and inexpensive plasma treatment device capable of efficiently performing etching to a workpiece, and to provide a plasma treatment method capable of efficiently performing etching. - 特許庁

安定したエッチング速度を保持することによって、シリコン基板の表面の反射率を低減すると共に、高変換効率を備えた太陽電池を製造可能なシリコン基板のエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method of a silicon substrate capable of reducing the reflectance of the surface of the silicon substrate and manufacturing a solar battery having high conversion efficiency by holding a stable etching speed. - 特許庁

これにより，ソフトエッチング後のパターン部２の光反射率と，ソフトエッチングによる影響を受けない下地部３の光反射率との差が大きくなり，顕著なコントラストを得ることができる。例文帳に追加

Consequently, the difference between the optical reflectance of the pattern 2 after its soft etching operation and the optical reflectance of a substrate 3 not influenced by the soft etching operation becomes large, and a remarkable contrast can be obtained. - 特許庁

導電膜、特に酸化インジウム錫または酸化インジウム亜鉛などを主たる成分とする透明導電膜を効率よくエッチングすることが可能で、しかも、エッチング後に残渣を生じない導電膜用エッチング液組成物を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide an etchant composition for a conductive film capable of efficiently etching a conductive film, especially a transparent conductive film whose main component is an indium tin oxide, an indium zinc oxide, or the like, with no residue left after etching. - 特許庁

本発明によると、誘導結合プラズマ源とリモートプラズマ源とを使用してエッチング反応に必要なラジカルとイオンとを豊富に生成させることによって、エッチング反応が活発になってエッチング効率を向上させることができる。例文帳に追加

According to the present invention, by abundantly generating radicals and ions required for etching reaction by using the inductively coupled plasma source and the remote plasma source, etching reaction can be made active and etching efficiency can be improved. - 特許庁

物質や化学反応の情報を設定すること無しに、多くの波長における波形から、代表的な少数の波長を選定することができ、大きな工数のかかるエッチングデータの解析を削減して、効率的にエッチングのモニタ・監視の設定を行うことができるエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide an etching device that can select a small number of representative wavelengths from waveforms of many wavelengths without setting information on substances and chemical reactions, and reduces analyses of etching data requiring large man-hours to efficiently set monitoring/supervising of etching processing. - 特許庁

湿式エッチングで太陽電池用シリコン基板の表面にピラミッド状の凹凸を形成するに際し、エッチング水溶液の組成変化を防止し安価かつ効果的に低反射率化することが可能なエッチング液を提供する。例文帳に追加

To provide an etchant with which an etching aqueous solution is prevented from changing in composition and a low reflectivity is effectively obtained inexpensively when pyramidal unevenness is formed on the surface of a silicon substrate for a solar cell by a wet etching process. - 特許庁

塩素ガスのプラズマを用いたシリコンのエッチング方法において、エッチングチャンバー内の部品表面からのアウトガスとして放出されるガスと同成分のガスを前記塩素ガスに添加し、前記プラズマ中のアウトガス比率を低減させることを特徴とするシリコンのエッチング方法。例文帳に追加

In an etching method for silicon using the plasma of chlorine gas, the out gas ratio within the plasma is reduced by adding gas having the same components as the gas being discharged as the out gas from the surface of the part within an etching chamber to the chlorine gas. - 特許庁

本発明のドライエッチング方法は、半導体基板に設けられた絶縁膜をドライエッチングする方法において、ドライエッチングする際に使用する混合ガスの中のＡｒのガス比率を、４０％以下に設定することを特徴とするものである。例文帳に追加

In a method for dry etching the insulating film provided on the semiconductor substrate, a ratio of an Ar gas in mixture gas used when dry etching is carried out is set at 40% or less. - 特許庁

製造コストが低く、Ｃｌ_２等の毒性の強い物質を使用せずに、かつ、エッチング装置の稼働率を低下させずに製造することができ、さらに、様々なエッチング装置で製造することができる半導体装置、及びエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device, which can be manufactured at a low cost without using substance which exhibits high toxicity, e.g. Cl2, and can be manufactured using various etching systems without causing the availability thereof to be lowered, and to provide an etching method. - 特許庁

被対象物を効率よく所望する形状となるようにエッチングすることが可能な異方性エッチング方法、該異方性エッチング方法を用いて形成可能な三次元構造体、及び、該三次元構造体を備えたデバイスを得る。例文帳に追加

To provide an anisotropic etching method capable of etching an object efficiently to have a desired shape, and to provide a three-dimensional structure which can be formed using the anisotropic etching method, and a device having the three-dimensional structure. - 特許庁

ウエーハの上面に形成された絶縁膜やメタル膜の多層配線のエッジ部分を同時に効率よくエッチングし、成分や配合の異なるエッチング液を再利用できるようにしたウエーハエッジのエッチング方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method and apparatus for a wafer edge in which etching liquids of different components or blending can be reused by concurrently and simultaneously etching edge portions of multilayered wiring of an insulating film or a metal film formed on an upper surface of the wafer. - 特許庁

保温可能なプラズマエッチング用シリコン電極板、特にプラズマエッチング装置内でウエハを交換する際にシリコン電極板の温度が低下して作業効率が低下することのないように保温することができるプラズマエッチング用シリコン電極板を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma etching silicon electrode plate which is capable of heat insulation, especially the plasma etching silicon electrode plate which is capable of heat insulation so as to prevent the decline of the temperature of the silicon electrode plate and the decline of work efficiency when exchanging a wafer inside a plasma etching device. - 特許庁

シャドウマスク基材の両面に感光膜を形成する工程で、感光膜の膜厚を調整することにより、エッチング工程での面に平行な横方向のエッチング量と深さ方向のエッチング量との比率を調整する。例文帳に追加

By adjusting a film thickness of a photoresist film in a process to form the photoresist film on both faces of shadow mask base material, the proportion of etching amount in the lateral direction against that in the depth direction which is parallel to a surface of the etching process is adjusted. - 特許庁

転写用原盤基板の型の製造方法において、転写用原盤基板の型からの剥離性と、転写用原盤の被転写体への転写精度の両立を図ると共に、平坦基板のエッチング工程におけるエッチング精度／エッチング効率／形成されるパターンの精細化のバランスを図る。例文帳に追加

To attain both detachability from a die of an original disk substrate for transfer and transfer accuracy of the original disk for a body to be transferred, and to balance etching accuracy/etching efficiency/fineness of formed pattern in an etching process of a flat substrate, in a manufacturing method of a die of the original disk substrate for transfer. - 特許庁

エッチング犠牲層にテーパー角を付けることによって、異方性エッチングを使ったインク供給口形成時のエッチングストップ層の割れの確率が飛躍的に低下して歩留まりが向上し、低温で安価なプロセスを使って高品位な印字が可能なインクジェット記録ヘッドを提供する。例文帳に追加

To provide an inkjet recording head capable of performing high-quality printing with an inexpensive process under low temperatures, which keeps an etching sacrifice layer taper-angled to drastically lower the cracking probability in an etching stop layer during the formation of an ink supply port using anisotropic etching, with an improved yield. - 特許庁

エッチング処理の間に実施されたインサイチューモニタリング（例えば、分光、干渉計測、散乱計測、反射率計測など）と組合せて、エッチング処理に対してエクスサイチューで提供された測定情報（例えば、限界寸法（ＣＤ）、層の厚さなど）を用いて、エッチング処理がモニタリングされても良い。例文帳に追加

Using measuring information (for example, critical dimensions (CD), layer thickness) provided ex-situ on the etch process combining with in-situ monitoring (for example, spectroscopic, interference measurement, scattering measurement, and reflectivity measurement) which is performed during the etch process, the etch process may be monitored. - 特許庁

高周波誘導電場などによりプラズマ生成室で生成したプラズマを引き出して処理対象の基板をエッチングするドライエッチング装置において、効率よくプラズマが生成される状態で、ＳｉＯ_2／Ｓｉの高選択比エッチングが実現できるようにする。例文帳に追加

To achieve high selective etching which enables SiO_2 and Si to be etched simultaneously at very different etching rates in a state where plasma is efficiently generated, in an etching apparatus where a substrate as a processing target is etched with plasma extracted from a plasma generating chamber where the plasma is generated by a high-frequency induction field or the like. - 特許庁

磁気記録媒体のような被エッチング材料の表裏両面へのプラズマ処理を行う際、基板の材質に関わらず被エッチング材料両表面に効率よくバイアスを印加し、両面処理ができるプラズマエッチング装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma etching apparatus which can treat both sides of a material to be etched by efficiently applying a bias to both faces thereof regardless of a material of a substrate, when plasma-treating both faces of the material to be etched such as a magnetic recording medium, and to provide a method therefor. - 特許庁

特に、プラズマエッチング装置において、プラズマエッチング等の反応効率がよく、プラズマエッチング装置等の組込み装置の小型化が図れ、かつ、孔明け加工が容易な流体流通用シリカガラス板及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a silica glass plate for a fluid circulation and its manufacturing method, wherein in particular in a plasma etching device, a reaction efficiency of a plasma etching or the like is good, and it is intended to miniaturize an assembly device of the plasma etching device or the like, and also a perforation process is facilitated. - 特許庁