「チタン薄膜」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

酸化チタンなどの無機微粒子が凝集を起こすことなく安定に分散し、かつ低粘度であり、塗布適性にも優れ、無機微粒子の含有割合が大きい薄膜が形成可能である無機微粒子分散液を提供すること。例文帳に追加

To provide an inorganic fine particle dispersion wherein inorganic fine particles such as titanium oxides are stably dispersed without causing aggregation, having low viscosity and excellent application suitability, and capable of forming a thin film having a high content of inorganic fine particles. - 特許庁

酸化チタン薄膜単独で光量１．０μｗ／ｃｍ^２という微弱な紫外光の照射下で水の接触角が５°以下（特に実質的に０°）となる高度な光触媒活性を達成する。例文帳に追加

To achieve a high photocatalytic activity such that the contact angle of water under a feeble ultraviolet irradiation of 1.0 μw/cm^2 is ≤5° (substantially 0°) by a titanium oxide thin film alone. - 特許庁

その後に、基板１１全体を所定の温度にまで加熱し、一定時間保持することにより、導波路パターン１２を構成しているチタンなどの金属あるいは金属化合物を、基板１１及び薄膜１３中に拡散させる。例文帳に追加

The whole body of the substrate 11 is heated thereafter upto a prescribed temperature to be held for a fixed time, so as to disperse the metal or the metal compound such as titanium constituting the wave-guide pattern 12 into the substrate 11 and the thin film 13. - 特許庁

この状態で、チタン酸化物を基材３の表面にスパッタ蒸着することで、基材３の上に水酸基を含むチタニアを主成分とする薄膜構造体を得る。例文帳に追加

In this state, titanium oxide is vapor-deposited on the surface of the substrate 3 by sputtering, by which a thin film structural body essentially consisting of titania contg. a hydroxyl group is obtd. on the substrate 3. - 特許庁

プラスチックフィルムなどの耐熱性のない基板上にも成膜が可能な酸化チタン薄膜の作製方法、及びその方法で作製された色素増感太陽電池素子を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a titanium oxide thin film formable on a base having no resistance to heat such as a plastic film to provide a pigment sensitized solar battery element manufactured by this method. - 特許庁

製造作業の煩雑化を招来することなく、多孔質で表面が粒状の酸化チタン薄膜を製造することのできる方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method capable of producing a porous titanium oxide thin film having a granular surface without causing the complication of a production operation. - 特許庁

本発明の方法により得られるチタン含有ペロブスカイト型化合物は粒径が小さく、不純物が少なく、電気的特性に優れ、薄膜形成物に成形できるため、電子機器の小型化が可能となる。例文帳に追加

The titanium-containing perovskite-type compound obtained by this method is usable for downsizing electronic instruments, because it has a small particle diameter, contains less impurities, has excellent electrical characteristics, and is formable into a thin film-shaped product. - 特許庁

ＩＴＯと同等以上の導電性を有する透明な酸化チタン系薄膜を工業的に製造するのに適したターゲット材を提供すること。例文帳に追加

To provide a target material suitable for industrial production of a transparent titanium oxide-based thin film having electrical conductivity equal to or more than that of ITO. - 特許庁

トッププレート７は、耐熱性を有する透明ガラスの下面にチタン系の金属材料からなる光透過薄膜１５が形成されて構成されている。例文帳に追加

The top plate 7 is structured by forming a light transmissive thin film 15 formed of titanium-based metal material on a lower surface of a heat-resistant transparent glass. - 特許庁

従来にない新規な物性を発現し得る酸化チタン薄膜及びその製造方法と、それを用いた磁気メモリ、光情報記録媒体及び電荷蓄積型メモリを提供する。例文帳に追加

To provide a titanium oxide thin film exhibiting non-conventional new properties, a process for producing the thin film, and a magnetic memory, an optical information recording medium and a charge storage memory produced, by using the thin film. - 特許庁

プラスチックなどの有機材料を対象とし、変形することのない低温で、有機材料表面に酸化チタン薄膜を形成させる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for depositing titanium oxide thin film onto the surface of an organic material such as plastics at low temperatures without causing no deformation. - 特許庁

太陽熱温水器３の天面の表面パネルはガラス板６で構成され、このガラス板６の下面には酸化チタンの薄膜７が付着されている。例文帳に追加

A surface panel of the top face of the solar heat water heater 3 comprises a glass plate 6, and a thin film 7 of titanium oxide is attached on the lower face of the glass plate 6. - 特許庁

本発明の光触媒膜付きガラス板４は、ガラス板１と、ガラス板１の主表面上に形成された酸化チタン薄膜２からなる光触媒膜とを備えている。例文帳に追加

The plate glass 4 having the photocatalytic film is provided with: plate glass 1; and the photocatalytic film consisting of a titanium oxide thin film 2 deposited on the main surface of the plate glass 1. - 特許庁

基材との密着性に優れ、透明性にも優れた導電性の薄膜の形成等に導電性フィラーとして好適に使用可能な導電性酸化チタンおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electroconductive titanium oxide preferably usable for forming a conductive thin film and the like, which is superior in the adhesion to a base material and in transparency, as a conductive filler, and its manufacturing method. - 特許庁

機能層は、ｎ型半導体層としてチタン酸化物薄膜３と、その表面に圧着掃引したｐ型半導体層としてのPPVの摩擦転写膜（有機半導体層）４とから構成される。例文帳に追加

The function layers comprise a titan oxide thin film 3 as an n-type semiconductor layer, and a friction transferring film (organic semiconductor layer) 4 of PPV as a p-type semiconductor layer which is pressure bonded and swept on the surface of the titan oxide film. - 特許庁

均一で安定した気化が行われ、高い成膜速度で高純度の所望のチタン含有薄膜が得られる有機金属化学蒸着用の溶液原料を提供する。例文帳に追加

To provide a solution serving as a raw material for organometallic chemical vapor deposition with which uniform, stable vaporization can be performed and a desired titanium-containing thin film of high purity can be obtained at a high film deposition rate, and to provide a titanium-containing thin film which has excellent barrier properties as the base of a copper thin film. - 特許庁

基体を１５０℃乃至２３０℃の温度範囲に加熱し、添加ガスの分圧Ｐ_added _gasを、有機チタン化合物を気化させた原料ガスの分圧Ｐ_organometallic _gasに対し、１０≦Ｐ_added _gas／Ｐ_organometallic _gasの範囲に設定する薄膜形成装置とする。例文帳に追加

In the thin-film forming apparatus, the substrate is heated to a temperature range of 150 to 230°C, and a partial pressure P_addedgas of an added gas and a partial pressure P_organometallicgas of a raw material gas prepared by evaporating the organic titanium compound are set in a range of 10≤P_addedgas/P_organometallicgas. - 特許庁

そこで、メッキ、真空蒸着、又はスパッタ等の手法により、白金と密着性のよいチタンに白金の薄膜層（２μｍ以下）を形成したものを還元極１３とする。例文帳に追加

Here, an electrode made by forming a thin film layer (not larger than 2 μm) of platinum on titanium having proper adhesiveness to platinum by a technique, such as plating, vacuum deposition or spattering is used as a reduction electrode 13. - 特許庁

ダストの発生などが抑制された状態で、より早い速度でスパッタ法によりＢｉ_4Ｔｉ_3Ｏ_12などのビスマスとチタンとを含む金属酸化物の薄膜形成を可能とするターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a target which enables to deposit a thin film of a metal oxide comprising bismuth and titanium such as Bi_4Ti_3O_12 at a higher speed by a sputtering process in a state where the generation of dust is suppressed. - 特許庁

また、Ｂ方向から見た場合には山形２ａの右斜面だけを連続的に見ることになるので、色変わり加飾製品１は薄い酸化チタンの薄膜層４に応じた干渉色に見える。例文帳に追加

When the product 1 is seen from the direction B, only the right slant of the shape 2a is seen in continuity and therefore the product is seen in the interference color corresponding to the thin film layer 4 of the smaller thickness of the titanium oxide. - 特許庁

この結果、（ｃ）に示されるように、Ａ方向から見た場合には山形２ａの左斜面だけを連続的に見ることになるので、色変わり加飾製品１は厚い酸化チタンの薄膜層４に応じた干渉色に見える。例文帳に追加

As shown in Fig. (c), consequently, only the left slant of the shape 2a is seen in continuity when the product 1 is seen from the direction A and therefore it is seen in an interference color corresponding to the thin film layer 4 of the larger thickness of the titanium oxide. - 特許庁

基体上に、酸化ガリウム薄膜、ガリウム、インジウムおよび酸素からなる酸化物薄膜、ならびにガリウム、インジウム、アルミニウムおよび酸素からなる酸化物薄膜の中から選択される少なくとも１種以上からなるバッファー層が形成され、そのバッファー層上に酸化チタンを主成分としニオブ、タンタル、モリブデン、ヒ素、アンチモン、ならびにタングステンから選択される少なくとも１種以上の元素を含む酸化物薄膜からなる透明導電膜層が形成されていることを特徴とする積層体。例文帳に追加

The laminate has the buffer layer formed of at least one kind or more selected from a group composed of a gallium oxide thin film, an oxide thin film formed of gallium, indium and oxygen, and a transparent conductive film layer formed of an oxide thin film including at least one kind or more of elements selected from a titanium oxide as a main component and from niobium, tantalum, molybdenum, arsenic, antimony, and tungsten are formed on its buffer layer. - 特許庁

コンデンサ中の誘電体層の薄層化、高積層化に伴い、チタン酸バリウム粒子が充填されたグリーンシートが薄膜化されても、十分な信頼性、電気的特性を保つことのできるチタン酸バリウム粒子と、その製造方法、並びに当該チタン酸バリウム粒子を用いたセラミックコンデンサを提供する。例文帳に追加

To provide barium titanate particles capable of retaining satisfactory reliability and electrical properties even if a green sheet filled with the barium titanate particles is made thinner as dielectric layers in a capacitor are made thinner and highly stacked, and to provide a method for manufacturing the barium titanate particles and a ceramic capacitor using the particles. - 特許庁

チタン成分とシリカ成分とを含む光触媒膜形成用液状組成物であって、該組成物を塗布し焼成して形成される酸化チタン−シリカ複合薄膜において、酸化チタンおよびシリカの合計モル数に対して、シリカが５モルパーセントを超え２０モルパーセント未満の範囲で含有される、液状組成物。例文帳に追加

The photocatalytic film-forming liquid composition comprises a titanium component and a silica component, and the titanium oxide-silica composite film to be formed by coating and calcining the composition contains silica in the range of more than 5 mol% to less than 20 mol% based on the total number of moles of titanium oxide and silica. - 特許庁

偏光分離膜(1)を成す高屈折率の薄膜の材料を、６５０ｎｍと７８０ｎｍの波長帯域を対象とする膜群については二酸化チタンとし、４０５ｎｍの波長帯域を対象とする膜群については、二酸化チタンよりも屈折率は低いものの、吸収率の低い二酸化チタンと酸化ランタンの混合物（H4）とする。例文帳に追加

Materials of thin film with high refractive index constituting the polarized light separation film (1) are considered as titanium dioxide for the film groups considering the wavelength bands of 650 nm and 780 nm and are considered as mixture (H4) of the titanium dioxide and lanthanum oxide for the film group considering the wavelength band of 405 nm with low absorption though the refractive index is lower than that of the titanium dioxide. - 特許庁

蒸留精製した四塩化チタンを含む混合ガスを、ガラス繊維の集合体（例、ガラスクロス）と接触させた後、焼成することからなる、蒸着法によってガラス繊維を酸化チタン薄膜で被覆すると、個々のガラス繊維の表面が剥離やクラックや脱落等のない酸化チタンの連続膜で被覆された、高い光触媒活性を有する光触媒複合材が得られる。例文帳に追加

The photocatalyst composite material having high photocatalytic activity, whose each glass fiber has the surface covered with a titanium oxide continuous film having neither exfoliation nor crack, is obtained by covering the glass fiber with a titanium oxide thin film by a deposition method comprising contacting a mixture gas containing distilled and purified titanium tetrachloride with an aggregate of glass fiber (e.g., glass cloth) and baking. - 特許庁

多孔質担体の表面を被覆した酸化チタンの薄膜にリン酸カルシウムを島状に担持させた酸化チタン膜、又は、多孔質担体の表面を、リン酸カルシウムが島状に担持されている酸化チタン粒子を有する酸化チタン膜にて被覆されているところに構成的特徴を有する多孔質光触媒体であり、その製造方法は、特には多孔質担体の表面に酸化チタンの薄膜を形成した後、水酸化カルシウムとリン酸イオンの両方を含有する等張な疑似体液中に浸漬し、静置することで、前記薄膜の表面に、前記水酸化カルシウムとリン酸イオンとの反応で生成するリン酸カルシウムを担持するところに構成的特徴を有する。例文帳に追加

The porous photocatalyst has a constitutional feature such that calcium phosphate is supported on the surface of a porous carrier in an island-like state or the surface of the porous carrier is coated with a titanium oxide membrane containing titanium oxide particles on which calcium phosphate is supported in the island-like state. - 特許庁

チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するコロイド溶液であり、Ｔｉを含む有機金属化合物としてＴｉの多座配位子化合物を含有すると共に、Ｚｒを含む有機金属化合物としてＺｒのアルコキシドを含有するＰＺＴ薄膜形成用組成物とする。例文帳に追加

The composition for forming a PZT thin film is a colloidal solution containing organic metallic compounds containing metals constituting the lead zirconate titanate (PZT) thin film and contains a multidentate ligand compound of Ti as an organic metallic compound containing Ti and an alkoxide of Zr as an organic metallic compound containing Zr. - 特許庁

ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、及び半導体層を具備した薄膜トランジスタにおいて、前記ソース電極、ドレイン電極、及びゲート電極のうち少なくとも一つはアルミニウム合金層１３１を具備し、前記アルミニウム合金層１３１の両面にはチタン層１３２，１３３が形成されたことを特徴とする薄膜トランジスタ。例文帳に追加

The thin film transistor is provided with the source electrode, the drain electrode, a gate electrode, and a semiconductor layer. - 特許庁

真空排気が可能になされた処理容器２２内で被処理体Ｗの表面に対して薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスを用いて処理容器内でプラズマＣＶＤ法により薄膜としてチタンを含む金属膜８を形成する金属膜形成工程と、処理容器内で金属膜に対してアニール処理を行うアニール工程とを有する。例文帳に追加

The method of forming the film on a surface of a workpiece W in a treatment vessel 22 where evacuation is carried out includes steps of: forming a metal film 8 containing titanium as a thin film by a plasma CVD method using material gas in the treatment vessel ; and annealing the metal film in the treatment vessel. - 特許庁

ガラス基板上に形成されてきた表示電極やアドレス電極を含む基板上を数百オングストローム以下のシロキサン系酸化物薄膜（１３１）、もしくはチタン系酸化物薄膜（１８１）で表面処理を行うことにより、誘電体ガラス層を薄く形成しても絶縁耐圧を確保し、加えて放電電圧の上昇を抑え、かつ、高輝度のプラズマディスプレイパネルを得ることができる。例文帳に追加

A substrate having a display electrode and an address electrode formed on a glass substrate is provided with a surface treatment with a siloxane oxide thin film 131 or a titanium oxide thin film 181 of a few hundreds angstroms or less to retain a breakdown voltage even if a dielectric glass layer is formed thinner, furthermore, the discharge voltage is prevented from increasing, and a plasma display panel with high brightness can be obtained. - 特許庁

(ａ)銀、パラジウム、白金、ビスマス、インジウム、ニッケル、亜鉛、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、クロム、アンチモンよりなる群から選ばれた下地用の金属薄膜のいずれかを被メッキ物上に形成した後、(ｂ)上記下地金属の薄膜上にスズ又はスズ合金のメッキ皮膜を形成する前処理によるスズホイスカーの防止方法である。例文帳に追加

In the subject process, tin whisker generation is inhibited through a pre-treatment step wherein (a) a metal thin film for base coating selected from silver, palladium, platinum, bismuth, indium, nickel, zinc, titanium, zirconium, aluminum, chromium and antimony is formed on the material to be plated, and (b) a tin- or thin alloy-plated film is formed on the metal thin film. - 特許庁

ここで前記酸化物薄膜層３、４は酸化ストロンチウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、イットリウム安定化酸化ジルコニウム、チタン酸ストロンチウムのうち少なくとも一つであり得、また上記無機アモルファス層又は有機固体層２は酸化シリコンであり得、また前記ペロブスカイト型酸化物薄膜５には、例えば圧電材料又は強誘電体を用いる。例文帳に追加

In this case, the films 3, 4 are capable of being at least one of strontium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, zirconium oxide, yttrium stabilized zirconium oxide, and a strontium titanate, the inorganic amorphous layer or the organic solid layer 2 are capable of being silicon oxide, and a piezoelectric or ferroelectric material, for example, is used as the thin film 5. - 特許庁

母体材料がアルカリ土類チオアルミネート、アルカリ土類チオガレード、アルカリ土類チオインレートから選ばれた少なくとも１つの化合物を主成分とし、希土類元素を発光中心として添加した蛍光体薄膜と、アルカリ土類含有酸化物、および／またはチタン含有酸化物を有する誘電体薄膜とを積層する。例文帳に追加

This has at least one compound as the main component wherein the mother material is selected among alkaline earth thioaluminate, alkaline earth thiogallate and alkaline earth thioinlate, and the fluorescent material thin film into which rare-earth element is added as the light-emitting center, and a dielectric thin film having alkaline earth-containing oxide, and/or titanium- containing oxide are laminated. - 特許庁

ここで、バンク１９は、各画素形成領域Ｒpxに形成される画素電極１５の列方向の周縁部を覆うように形成された下地絶縁膜１８上に、チタンやクロム等の薄膜からなる下層金属層１９ａと、アルミニウムや銅等の薄膜からなる上層金属層１９ｂとを積層した構造を有している。例文帳に追加

Here, each bank 19 is structured, such that a lower metal layer 19a formed of the thin film of titanium, chromium, etc., and an upper metal layer 19b formed of the thin film of aluminum, copper, etc., are laminated on a base insulating film 18, formed covering column-directional peripheral edge portions of pixel electrodes 15 formed in the respective pixel formation regions Rpx. - 特許庁

対向電極間に電界を印加して放電プラズマを発生させ、その放電プラズマを用いて基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置において、対向電極の少なくとも一方の電極表面（例えばロール電極１１）に、チタン酸バリウム層１１１（または二酸化ジルコニウム層）と酸化アルミニウム層１１２の２層からなる固体誘電体を、その酸化アルミニウム層１１２を表層として積層する。例文帳に追加

The aluminum oxide layer 112 is formed as the outer layer. - 特許庁

延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルムの表面に酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化銅のうち何れかの金属の薄膜をスパッタ法などの密着力が強い成膜方法にて２ｎｍ以下形成した後、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、その他のガスバリア性薄膜を形成することによって密着強度が弱いという問題を解決した。例文帳に追加

A thin film of a metal selected from titanium oxide, aluminum oxide and copper oxide is formed with a thickness of ≤2 nm on the surface of an oriented polypropylene (OPP) film by a film forming method achieving high adhesion, e.g. the sputtering method, and a gas-barrier thin film, e.g. a film of aluminum oxide or silicon oxide, is then formed. - 特許庁

水素生成・分離一体型機能性薄膜１０は、原料ガスの分子を水素分子と副生成物の分子に分解すると共に、該分解後のガスから水素ガスを分離するための薄膜であって、水素分子を透過し、且つ前記副生成物の分子を透過しない水素透過膜１１と、前記水素透過膜の一方の表面に立設された二酸化チタンナノチューブの集合体である二酸化チタンナノチューブアレイ１２とを備えることを特徴とする。例文帳に追加

The hydrogen production-separation integrated type functional thin film 10 is a thin film to decompose a molecular of a raw material gas into a hydrogen molecule and a molecule of a by-product and to separate hydrogen gas from gas after the decomposition, and includes: a hydrogen permeable film 11; and a titanium dioxide nanotube array 12 that is an aggregate of a titanium dioxide nanotube and is erected on one surface of the hydrogen permeable film. - 特許庁

チタン酸ストロンチウム薄膜形成用組成物は、アルコール類を６０質量％以上含有する有機溶剤中に、金属ストロンチウム、ストロンチウムアルコキシドおよびカルボン酸ストロンチウムからなる群から選択される少なくとも一種と、チタンアルコキシドと、モノカルボン酸の酸無水物および／またはカルボン酸とを溶解または反応させてなることを特徴とする。例文帳に追加

The characteristic of the composite for forming the thin film of strontium titanate is obtained by dissolving or reacting at least one kind selected from a group of strontium metal, strontium alkoxide and strontium carboxylate, titanium alkoxide, and the acid anhydride of monocarboxylic acid and/or carboxylic acid in an organic solvent containing alcohols by ≥60 % mass. - 特許庁

金属酸化物半導体電極とその表面に吸着した色素と酸化還元対を有する電解質と対向電極とからなる光電変換素子において、金属酸化物半導体電極として、上記多孔質酸化チタン薄膜が導電性基体上に形成されている酸化チタン半導体電極を構成要素に持つことを特徴とする光電変換素子。例文帳に追加

In the photoelectric convertor composed of a metal oxide semiconductor electrode, a pigment adsorbed on the surface, an electrolyte having an oxidation-reduction pair and a counter electrode, the titanium oxide semiconductor electrode having the porous titanium oxide thin film formed on the conductive substrate is provided as the metal oxide semiconductor electrode in a structural element. - 特許庁

円形導波管１の中間にセラミック円板２が配置され、セラミック円板２の円周部と円形導波管１の内壁面で気密封止された出力窓において、セラミック円板２の表面に窒化チタン、酸化チタン、酸化クロム等の薄膜よりなる均一な厚さのコーティング膜３を形成する。例文帳に追加

In the output window where a ceramic disk 2 is placed in the center of a round waveguide 1 and which is air-tight sealed by a circumferential part of the ceramic disk 2 and an inner wall face of the waveguide 1, a coating film 3 with a uniform thickness made of a titanium nitride, titanium oxide or chromium oxide thin film or the like is formed on the surface of the ceramic disk 2. - 特許庁

薄膜形成するチタン含有化合物が複合酸化物である場合には、水溶性チタン化合物の水溶液に、バリウム、ストロンチウム、ビスマスの中から選ばれる１種又は２種以上の金属化合物を加えてコーティング液を調製し、このコーティング液を基材にコーティングし、乾燥処理した後、焼成処理する。例文帳に追加

When the titanium-containing compound used for forming the thin film is a multiple oxide, one or more kinds selected from metal compounds of barium, strontium and bismuth is added to the aqueous solution of the water-soluble titanium compound so as to prepare a coating solution, then the coating solution is applied onto a base material, and after drying, firing treatment is performed. - 特許庁

薄膜形成用チタンシリサイドターゲットにおいて、ターゲット組成がＴｉＳｉ_x（ここでｘ＝2.0〜2.7）と表され、ターゲット中のＷ含有量が50ppm未満であり、かつＷ化合物の析出物を含まないことを特徴とするチタンシリサイドターゲットによって、パーティクル発生の少ないＴｉＳｉ_x膜をスパッタリングによって得る。例文帳に追加

By the titanium silicide target for thin film deposition having a target composition expressed by TiSi_x (wherein, x=2.0 to 2.7), having a W content of <50 ppm, and also comprising no precipitates of W compounds, a TiSi_x film having reduced generation of particles is obtained by sputtering. - 特許庁

分散剤を用いなくても均一に分散できる酸化チタン、当該酸化チタンが配合され、屈折率の調節された高品質の薄膜を形成し得る塗工材料、当該塗工材料を用いて形成した塗膜、当該塗膜を用いた反射防止膜、当該反射防止膜を適用した反射防止フィルム及び画像表示装置を提供する。例文帳に追加

To obtain titanium oxide uniformly dispersible even without using a dispersant, a coating material which is mixed with the titanium oxide and is capable of forming a high-quality thin film having an adjusted refractive index, a coating film formed by using the coating material, a reflection preventing film using the coating film and a reflection preventing film to which the reflection preventing film is applied and to provide an image display apparatus. - 特許庁

表面圧縮応力が１０ＭＰａ以下であるガラス基板の表面にチタン元素を含有する液体を塗布し、該液体が塗布された表面を５５０〜７００℃の最高温度まで加熱してから、下記式（１）を満足する条件で冷却して、ガラス基板の表面圧縮応力が２０〜２５０ＭＰａとなるようにする、酸化チタン薄膜被覆ガラス板の製造方法である。例文帳に追加

In the method of manufacturing the titanium oxide thin film applied glass plate, the surface compression stress of the glass substrate becomes 20-250 MPa by applying a liquid containing titanium element on the surface of a glass substrate having ≤10 MPa surface compression stress, heating the surface coated with the liquid to 550-700°C of the maximum temperature and cooling under a condition satisfying following formula (1). - 特許庁