「化学組成」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

高分子凝集剤として多様な排水や製紙原料に対応でき、また季節的な変動や配合パルプの変動にも対応可能な凝集処理方法を開発することであり、そのため異種化学組成のカチオン性水溶性高分子を混合し、アニオン性水溶性高分子と組み合わせる処理方法を提供する。例文帳に追加

To develop a flocculation treatment method capable of corresponding to wastewater of every kind or a papermaking raw material as a polymeric flocculant and capable of also corresponding to seasonal fluctuations or the fluctuations of compounded pulp, and to provide a treatment method for mixing cationic water soluble polymers different in chemical composition to combine them with an anionic water soluble polymer for the purpose of developing the flocculation treatment method. - 特許庁

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist. - 特許庁

本発明は、生体中で薬物代謝反応において重要な薬物代謝酵素、特に各種の変異型サイトクロームＰ４５０酵素群の活性測定法、および化学物質の薬物代謝酵素、特に各種の変異型サイトクロームＰ４５０酵素に対する活性阻害効果を評価する方法、ならびにそれら方法のための組成物に関する。例文帳に追加

To provide a method for assaying the activity of a drug-metabolizing enzyme important in a drug metabolic reaction in an organism, especially various variant cytochrome P450 enzymes, and a method for evaluating activity inhibitory effect of a chemical substance on the drug-metabolizing enzyme, especially on various variant cytochrome P450 enzymes, and to obtain a composition for the methods. - 特許庁

高いイオン伝導性と高いアルカリイオン輸率、特に高いリチウムイオン輸率を有し、電気化学的にも安定で、物理的強度に優れ、硬質で強靱、薄膜状とすることができる、取り扱いが容易で生産性に優れたイオン伝導性およびその前駆体であるラジカル重合性組成物を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an ion-conductive solid electrolyte which is excellent in productivity and easily handled and can be formed into a rigid, tough and thin film which has high ion conductivity and a high alkali ion transference number, especially a high lithium ion transference number and is electrochemically stable and excellent in physical strength; and a radical-polymerizable composition which is a precursor thereof. - 特許庁

水分散性イソシアネート組成物は、炭素数５以上のモノオールとジイソシアネートとの反応により得られ、反応により得られる化学結合が実質的にアロファネート結合のみからなる、アロファネート変性イソシアネートと、少なくとも１つの活性水素基とポリオキシエチレンユニットとを含む親水性化合物との反応により得られる水分散性アロファネート変性イソシアネートを含む。例文帳に追加

The water-dispersible isocyanate composition comprises a water-dispersible allophanate-modified isocyanate obtained by reacting an allophanate-modified isocyanate prepared by reacting a ≥5C monool with a diisocyanate and having chemical bonds obtained by the reaction and substantially composed of only allophanate bonds with a hydrophilic compound containing at least one active hydrogen group and a polyoxyethylene unit. - 特許庁

（Ｉ）０．０００５から２重量％のピペリジニルまたはテトラヒドロピロリルニトロオキシドを禁止剤として含有する、フリーラジカル硬化性の反応性合成樹脂と、（ＩＩ）空間的にこれと隔離されて存在する硬化剤とを含有する、アンカーボルト、ねじ刻設中空管状体、螺杆などを穿孔中において化学的に固定するための充填組成物。例文帳に追加

A plugging composition for the chemical fastening of anchor bolts, threaded hollow tubes and screws in drilling holes is provided, which composition comprises (I) a free radical-curable reactive synthetic resin containing 0.0005-2 wt.% piperidinyl or tetrahydropyrrolyl nitroxide as inhibitor and (II) a curing agent spatially separated from the resin. - 特許庁

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。例文帳に追加

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays satisfying sensitivity, resolution and resist shape in the use of electron beams or X-rays. - 特許庁

下記一般式（ＩＩＩ）で表される有橋脂環式γ−ラクトン構造を有する繰返し構造単位、下記一般式（ＩＶ）で表される有橋脂環式γ−ラクトン構造を有する繰返し構造単位、または、下記一般式（Ｖ）で表される有橋脂環式γ−ラクトン構造を有する繰返し構造単位のいずれか１種以上を含む重合体を用いて化学増幅レジスト組成物を調製する。例文帳に追加

This chemically amplified resist composition is prepared by using a polymer containing at least one kind of repeating structural units selected from among repeating structural units having a bridged alicyclic γ-lactone structure represented by general formula (III), repeating structural units having a bridged alicyclic γ-lactone structure represented by general formula (IV), and repeating structural units having a bridged alicyclic γ-lactone structure represented by general formula (V). - 特許庁

活性光線、例えばＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応し、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation sensitive resin composition having sensitivity to active light rays such as far-ultraviolet light represented by an ArF excimer laser, for example, superior in the flatness of a pattern surface without impairing fundamental material properties such as transparency to radiation, sensitivity, a resolution, and a pattern shape, and useful as a chemical amplification type resist which is improved against pattern collapse on a substrate. - 特許庁

[４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル]−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム塩（各フェニル基はそれぞれアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基から選択される置換基を有していても良い）を含有する光酸発生剤を含んでなる成分（Ｅ）と、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂である成分（Ｆ）と、架橋剤成分（Ｇ）とを含んでなる、化学増幅型ネガ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

A chemically amplified negative photoresist composition comprises: a component (E) comprising a photoacid generator containing [4-(4-biphenylthio)phenyl]-4-biphenylylphenyl sulfonium salt, where each phenyl group may have a substituent selected from an alkyl group, a hydroxyl group and an alkoxy group; a component (F) which is an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group; and a crosslinking agent component (G). - 特許庁

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。例文帳に追加

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape. - 特許庁

化学組成が、質量％で、Ｃ：０．０６〜０．２５％、Ｓｉ：０．３％以下、Ｍｎ：０．５％〜１．５％、Ｐ：０．０３％以下、Ｓ：０．０２％以下、ｓｏｌ． Ａｌ：０．１％以下およびＮ：０．０１％以下、場合により、適量のＢ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉの１種または２種以上、残部Ｆｅおよび不純物からなり、フェライト相を主相とし第二相を含有する組織を有し、前記第二相からなるバンド状組織の面積率を６．０％以下とする。例文帳に追加

The steel sheet has a chemical composition consisting of, by mass, 0.06 to 0.25% C, ≤0.3% Si, 0.5 to 1.5% Mn, ≤0.03% P, ≤0.02% S, ≤0.1% sol.Al, ≤0.01% - 特許庁

この合金は、重量％で、Ｃ：０．０５％以下，Ｓｉ：０．１〜２．０％，Ｍｎ：０．１〜２．０％，Ｃｒ：２０．０〜２３．０％，Ｎｉ：３．０〜３．９％，Ｍｏ：０．５〜１．４％，Ｃｕ：２．０％以下，Ｗ：０．２〜２．０％，Ｎ：０．０５〜０．２％，および所望により、Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ａｌ，Ｚｒ，Ｂ，ＲＥＭ，Ｃｏ，Ｔａ，Ｂｉの１種ないし２種以上を微量含有すると共に、式[１]を満たし、残部はＦｅからなる化学組成を有し、ミクロ組織のフェライト量（％α）は４５〜８０面積％である。例文帳に追加

This alloy has a chemical composition containing, by weight, ≤0.05% C, 0.1 to 2.0% Si, 0.1 to 2.0% Mn, 20.0 to 23.0% Cr, 3.0 to 3.9% Ni, 0.5 to 1.4% Mo, ≤2.0% - 特許庁

酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜に熱処理による脱水化または脱水素化を行うとともに、酸化物半導体膜と接するゲート絶縁膜として、酸素を含む絶縁膜、好ましくは、化学量論的組成比より酸素が多い領域を含むゲート絶縁膜を用いることで、該ゲート絶縁膜から酸化物半導体膜へ酸素を供給する。例文帳に追加

In a transistor including an oxide semiconductor film, dehydration or dehydrogenation is performed on the oxide semiconductor film through heat treatment and an insulation film including oxygen, preferably a gate insulation film including a region containing oxygen more than the stoichiometric composition ratio is used as a gate insulation film in contact with the oxide semiconductor film, whereby oxygen is supplied from the gate insulation film to the oxide semiconductor film. - 特許庁

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上及び従来の問題点を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して良好な感度、解像度、レジスト形状に加え、現像欠陥を低減し、良好な塗布性を有する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。例文帳に追加

To enhance performance in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays, to solve the conventional problems and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays having good sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used, reducing development defects and having good suitability to coating. - 特許庁

支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含有する。例文帳に追加

The chemically amplified positive photoresist composition for a thick film is to be used for forming a thick photoresist layer on a support, and the composition contains: an acid generator (A) that generates an acid by irradiation with radiation including electromagnetic waves or particle beams; and a resin (B) showing an increase in the solubility with an alkali by an action of an acid. - 特許庁

カルボキシル基が二価の芳香族炭化水素基を介してトリアジン環に結合した構造式で表される化学構造（Ａ）を、フェノールノボラック樹脂の分子構造中に部分構造として有するフェノール樹脂（Ｉ）、及びエポキシ樹脂等の硬化剤（II）を必須成分とすることを特徴とするフェノール樹脂組成物。例文帳に追加

This phenol resin composition comprises: a phenol resin (I) having (A) a chemical structure expressed by a structural formula in which a carboxyl group is bonded with a triazine ring through a divalent aromatic hydrocarbon group, as a partial structure in the molecular structure of a phenol novolac resin; and a curing agent (II) such as an epoxy resin, etc., as essential components. - 特許庁

放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストの樹脂成分として好適なラクトン系共重合樹脂、および当該ラクトン系共重合樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a lactone copolymer resin which is highly transparent to radiation, can solve the problem on how to take a trade-off between resolution and exposure latitude and is suitable as a resin component in a chemical amplification resist to provide the resist with excellent dry etching resistance and pattern figure; and a radiation-sensitive resin composition containing the lactone copolymer resin. - 特許庁

次の成分（Ａ）及び（Ｂ）、（Ａ）水酸基の水素原子の少なくとも一部が酸解離性溶解抑制基で置換されたポリヒドロキシスチレン、及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、前記（Ａ）成分の、塩酸による解離試験後の酸解離性溶解抑制基の残存率が、４０％以下であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemical amplification type positive working resist composition contains (A) a polyhydroxystyrene having acid dissociable dissolution inhibiting groups substituted for at least part of the hydrogen atoms of hydroxyl groups and (B) a compound which generates an acid when irradiated with radiation, and the residual ratio of the acid dissociable dissolution inhibiting groups after a dissociation test with hydrochloric acid is ≤40%. - 特許庁

半導体化剤を含有したチタン酸ストロンチウム系の粒界絶縁型半導体セラミックスを作製するにあたり、結晶粒界を電気的に絶縁している成分及び半導体化剤をそれぞれ除いた組成でのチタン原子の割合を化学量論比よりも多くし、かつ、ストロンチウム原子の２０〜８０％をカルシウム原子で置換することによって解決した。例文帳に追加

At the time of manufacturing the strontium titanate-based grain-boundary-insulated semiconductor ceramic containing a semiconducting agent, the rate of titanium atoms in a composition from which a component electrically insulating crystal grain boundaries and the semiconducting agent are removed is made larger than the stoichiometric ratio of the composition and, in addition, the 20-80% of strontium atoms is replaced with calcium atoms. - 特許庁

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude. - 特許庁

（Ａ）アクリル酸と特定のモノシクロヘキサン又はビシクロヘプタンカルボラクトン等とのエステルを繰り返し単位とし、分子量分布が１．０１〜１．５０の範囲である（メタ）アクリル酸共重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemical amplification type resist composition is obtained by dissolving in an organic solvent (A) a (meth)acrylic acid copolymer having an ester of acrylic acid and a specified monocyclohexane or bicycloheptane carbolactone or the like as repeating units and having a molecular weight distribution of 1.01-1.50 and (B) a compound which generates an acid when irradiated with radiation. - 特許庁

哺乳動物への経口投与に適切であり、そして米国および国際的な保険機構の既存の健康登録要件（例えば、ＦＤＡの医薬品の製造および品質管理に関する実践規範（「ＧＭＰ」）、および医薬品規制ハーモナイゼーション国際会議（「ＩＣＨ」）ガイドライン）に従う定常的な化学的および物理的特性を有するデスカルボニルエトキシロラタジンを含有する薬学的組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a pharmaceutical composition suitable for oral administration to mammals and containing descarbonylethoxyloratadine (DCL) having stationary chemical and physical properties in accordance with the existing health registration requirement the United States and international health organization (e.g. FDA Good Manufacturing Practice, Guideline of the International Conference on Harmonization of Drug Regulation). - 特許庁

式（Ｉ）で表されるオニウム塩と、式（ＩＩ）で表されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified resist composition comprises: an acid generator comprising an onium salt represented by formula (I) and a sulfonium salt represented by formula (II); and a resin which contains a polymerized unit having an acid-labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becomes soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound expressed by a specified formula. - 特許庁

３０〜９０℃の範囲内のガラス転移温度（Ｔ_ｇ）を有し、 Ａ）１以上の結晶性マレイン酸および／またはフマル酸エステルと、 Ｂ）エチレン性不飽和化合物と化学線の作用下で反応してポリマーを形成する少なくとも１つの基を含む１以上のアモルファスまたは部分結晶性樹脂と を含有するバインダ組成物。例文帳に追加

The binder composition has 30-90°C glass transition temperature (T_g) and comprises (A) at least one crystalline maleate and/or fumarate ester and (B) at least one amorphous or partial crystal resin having at least one group forming a polymer by reacting with an ethylenically unsaturated compound under the effect of chemical rays. - 特許庁

（Ａ）少なくとも１種類以上のアクリル単量体、（Ｂ）紫外線硬化のための少なくとも１種の光重合開始剤を含む放射線硬化性コーティング組成物中に、特定の化学式で表されるトリアジン又はジベンゾイルレゾルシノール誘導体又はその混合物から選択される紫外線吸収剤の有効量を配合する。例文帳に追加

An effective amount of an ultraviolet light absorbing agent selected from triazine or a dibenzoyl resorcinol derivative, represented by specified chemical formulas, or their mixture, is incorporated in the radiation-curable coating composition comprising (A) at least one kind of acrylic monomer and (B) at least one kind of photo-initiator for ultraviolet curing. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、レジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体の提供。例文帳に追加

To provide a functional resin composition which is so excellent in alkali developability and adhesion to a substrate as to improve resolution and line edge roughness as a chemically amplified resist sensitive to far-ultraviolet radiation typified by ArF excimer laser, without deteriorating basic physical properties as the resist, and an adamantane derivative which is a starting material thereof. - 特許庁

酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。例文帳に追加

The negative resist composition includes a base material component (A) consisting of a polynuclear phenol compound having a functional group which is chemically converted by the action of an acid to reduce solubility in an alkali developer and a triphenylmethane compound, and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with radiation. - 特許庁

本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。例文帳に追加

The present invention relates to cleaning of a multi-metal microelectronic device without substantial or significant electro-chemical corrosion, in the case a rinsing step is present which uses an appropriate microelectronic photoresist cleaning composition and water thereafter for cleaning the multi-metal microelectronic device. - 特許庁

（Ａ）フェノール性水酸基の水素の一部がアセタール型の残基で置換されたポリ（ヒドロキシスチレン）重合体とノボラック重合体とを、１分子中に少なくとも２個のビニルエーテル基を含有する化合物と反応させて得られる樹脂と（Ｂ）酸発生剤とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition comprises (A) a resin obtained by reacting a poly(hydroxystyrene) polymer in which part of hydrogens of phenolic hydroxyl groups have been substituted for acetal type residues and a novolac polymer with a compound containing at least two vinyl ether groups per molecule and (B) an acid generator. - 特許庁

第１の電極膜と、第２の電極膜と、第１の電極膜および第２の電極膜で挟まれた圧電体薄膜とからなる圧電体素子であって、上記圧電体薄膜は化学量論組成に対して０％より大きく、１０％以下の酸素欠損量を有する酸化物圧電体薄膜であることを特徴とする。例文帳に追加

The piezoelectric element comprises a first electrode film, a second electrode film, and a piezoelectric thin film sandwiched by the first electrode film and the second electrode film, and the piezoelectric thin film is an oxide piezoelectric thin film having an oxygen loss greater than 0% and not greater than 10% with respect to a stoichiometric composition. - 特許庁

本発明のスピネル−炭素質煉瓦は、マグネシア含有量が２０〜３０質量％、アルミナ含有量が１０〜５０質量％、クロミア含有量が２０〜７０質量％の化学組成であるスピネル型構造の酸化物と炭素との混合物を成型して得られるスピネル−炭素質煉瓦であって、前記スピネル型構造の酸化物を８０〜９７質量％、炭素を３〜２０質量％含有することを特徴とする。例文帳に追加

The spinel-carbonaceous brick is obtained by molding a mixture comprising: 80-97 mass% spinel-structured oxide having a chemical composition comprising 20-30 mass% magnesia, 10-50 mass% alumina and 20-70 mass% chromia; and 3-20 mass% carbon. - 特許庁

製造方法は、上記樹脂組成物を射出成形して形成した一次成形品の表面に、二次成形部分をインサート成形して二色成形品を得、その表面に触媒を担持させた後、二次成形部分を除去して、一次成形品の表面の、触媒を担持させた領域に、化学めっきによって、選択的に、回路となる金属層を形成する。例文帳に追加

For the manufacturing method, a secondary forming section is subjected to insert-molding on the surface of the primary molding formed by performing the injection molding of the resin composition to obtain a coinjection molding, the surface is allowed to carry a catalyst, the secondary forming section is removed, and a metal layer that becomes a circuit is formed selectively at the region carrying the catalyst on the surface of the primary molding by chemical plating. - 特許庁

（ａ）基体上に感光性組成物の層を形成し；（ｂ）化学線で層の一部を露光し；（ｃ）露光層を現像して導波路コア構造を形成し；（ｄ）導波路コア構造が少なくとも部分的に断面が丸くなるようその構造をリフローするのに効果的な温度まで且つ時間の間、導波路コア構造を加熱することを含む。例文帳に追加

The method involves: (a) forming over a substrate a layer of a photosensitive composition; (b) exposing a portion of the layer to actinic radiation; (c) developing the exposed layer to form a waveguide core structure; and (d) heating the waveguide core structure to a temperature and for a time effective to reflow the structure such that it becomes at least partially rounded in cross-section. - 特許庁

半導体配線基板の製造における銅配線形成のための化学的機械研磨において、銅の研磨効率が高く、かつエロージョン等の配線欠損を発生せずに研磨面を平坦化できる研磨用組成物、この研磨方法で研磨された半導体配線基板及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a composition for polishing a semiconductor substrate, which is high in copper polishing efficiency and can flatten the polished surface of the substrate without generating a deficit in wiring, such as erosion, in a chemical and mechanical polishing method for forming a copper wiring in the manufacture of a semiconductor wiring board, and to provide the semiconductor wiring board polished by this polishing method and the manufacturing method of the wiring board. - 特許庁

（Ａ）特定の平均ゴム粒径を有するゴム質重合体の存在下に単量体成分をグラフト重合して得られ、グラフト率が６０〜１２０％であるゴム強化樹脂、および（Ｂ）特定の重量平均分子量を有する芳香族ポリカーボネートに対して、（Ｃ）特定の化学構造を有する２種のリン酸エステル化合物、ならびに、（Ｄ）ポリテトラフルオロエチレンを配合してなる難燃性熱可塑性樹脂組成物。例文帳に追加

This flame-retardant thermoplastic resin composition is obtained by compounding (C) two kinds of phosphoric ester compounds having specific chemical structures, and (D) a polytetrafluoroethylene with (A) a rubbery reinforcing resin obtained by graft-polymerizing a monomer component on a gum polymer having a specified average particle diameter, and having 60-120% graft rate, and (B) an aromatic polycarbonate having a specific weight average molecular weight. - 特許庁

シリコン基板１１上にＳｉＯ_２層１３を形成する工程と、ＳｉＯ_２層１３上にＡＬＤ法を用いてＳｉＮ膜の化学量論的組成よりも窒素が少ないＳｉＮ層１４を形成する工程と、ＳｉＮ層１４を５００℃未満の基板温度でプラズマ窒化処理する工程とを有する。例文帳に追加

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a SiO_2 layer 13 on a silicon substrate 11, a step for forming a SiN layer 14 containing nitrogen less than the stoichiometric composition of an SiN film on the SiO_2 layer 13 by using an ALD method, and a step for performing plasma nitriding treatment of the SiN layer 14 at the substrate temperature of lower than 500°C. - 特許庁

ジエン系ゴム１００重量部に対し、熱膨張性マイクロカプセル、膨張黒鉛または化学発泡剤成分を５〜６０重量％含有するオレフィン成分を主成分とする樹脂（発泡剤含有樹脂）を１〜２０重量部、およびスクロースを１〜２０重量部配合してなるタイヤ用ゴム組成物。例文帳に追加

The rubber composition for tires comprises 100 pts.wt. of a diene rubber, 1-20 pts.wt. of thermally expandable microcapsules, expandable graphite, or a resin which is formed from a component mainly comprising an olefin and contains 5-60 wt.% chemical blowing agent (i.e. a blowing agent-containing resin), and 1-20 pts.wt. of sucrose. - 特許庁

また、本発明は、イオンプレーティング処理皮膜の化学組成が、タングステン炭化物の比率が７４〜７６重量％、Ｃｏの比率が２４〜２６重量％であり、更にイオンプレーティング処理皮膜付与前のサーメット材質のセミ超硬丸刃の硬度がＨｓ：７８〜８１であるセミ超硬材に気相皮膜を有する鋼板トリミング装置用丸刃。例文帳に追加

The vapor phase coating exists in such a semi-cemented carbide material that, concerning the chemical composition of the ion-plating treated coating, a ratio of the tungsten carbide is 74-76 wt.% and a ratio of Co is 24-26 wt.%, and that a hardness of the semi-cemented carbide round blade of the cermet material quality before giving the ion-plating treated coating is Hs: 78-81. - 特許庁

また、その製造方法は、ポリオレフィン系樹脂（Ａ）に、有機過酸化物（Ｂ）と熱分解型発泡剤（Ｃ）を該ポリオレフィン系樹脂（Ａ）の融点以上かつ該有機過酸化物（Ｂ）の１分半減期の分解温度未満かつ熱分解型化学発泡剤（Ｃ）の分解開始温度未満の温度で混練し、得られた発泡能力を有する樹脂組成物を、後工程で粉末状にすることからなる。例文帳に追加

The method for producing the same comprises kneading the polyolefin resin (A) with the peroxide (B) and agent (C) at a temperature not lower than the melting point of the resin (A), lower than the 1-min half-period decomposition temperature of the peroxide (B), and below the decomposition initiation temperature of the agent (C) and grinding the obtained foamable resin composition in a subsequent step. - 特許庁

C：0.01〜0.12％、Si≦0.50％、Mn：0.4〜2％、P≦0.05％、S≦0.008％、Al：0.002〜0.05％、N≦0.01％、Nb：0.003〜0.1％、残部はFeと不純物からなる化学組成で、〔C＋（Mn／6）＋（Cu／15）＋（Ni／15）＋（Cr／5）＋（Mo／5）＋（V／5）〕：0.32〜0.40％、板厚中心部において、フェライト組織分率≧80％、有効結晶粒径≦25μmで、しかも、板厚1／4位置における45゜方向の（321）面、（211）面及び（110）面のＸ線強度比の和と板厚中心部における45゜方向の（321）面、（211）面及び（110）面のＸ線強度比の和との算術平均値が3.3以下である高強度厚肉鋼板。例文帳に追加

Disclosed is a high-strength thick steel plate having a chemical composition comprising 0.01 to 0.12% C, ≤0.50% Si, 0.4 to 2% Mn, ≤0.05% P, ≤0.008% S, 0.002 to 0.05% Al, ≤0.01% - 特許庁

電気伝導性と化学的耐久性（耐食性）とをバランスよく維持させて、酸やアルカリ等の腐食性の高い環境下でも適用でき、その含有成分やその組成による特性の変動を抑制して設計を精密に行うことができると共に、飲料用ガラスビン等のガラス製品や石炭灰等の産業廃棄物を有効に再資源化できる導電性バナジン酸塩ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a conductive vanadate glass that is applicable under high corrosive circumstance such as acids, alkalis and the like while maintaining electroconductivity and chemical durability (corrosion resistance) with good balance and that is capable of precisely performing a design by suppressing the variation of properties due to its ingredient contnet and its composition and is capable of effectively recycling industrial wastes such as glassware, for example, glass bottles for drinks, and coal ash. - 特許庁

活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ_２ エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation sensitive composition excellent in storage stability as well as in resolution and environmental resistance as a chemical amplification type resist sensitive to active radiations, e.g. UV rays such as g- or i-line, KrF, ArF or F_2 excimer laser light, far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation) or an electron beam. - 特許庁

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能の向上及び技術課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像度、レジスト形状、現像欠陥、及び塗布性の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。例文帳に追加

To enhance performance and to solve technical problem in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity, resolution, resist shape, development defects and appliability in the use of electron beams or X-rays. - 特許庁