「化学組成」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

（Ａ）酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するポリイミド前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）活性化学線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルコール性水酸基を２価以上含む化合物及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。例文帳に追加

The method for manufacturing a pattern and the electronic parts are disclosed. - 特許庁

黒色顔料として火力発電所または化学プラントで副生する未燃物の煤を１〜４０重量％、スチレンスルホン酸塩を構成単位として含有する水溶性ホモポリマーまたはコポリマーを０．０１〜３０重量％、アクリル系ポリマーエマルジョンを０．５〜２０重量％配合して、墨汁等の黒色水性インク組成物とする。例文帳に追加

This water base black ink composition such as India ink is prepared by compounding 1-40 wt.% soot of unburned products to be by- produced in a thermal power station or a chemical plant as the black pigment, 0.01-30 wt.% water soluble homopolymer or copolymer containing a styrenesulfonate salt as the constituting unit, and 0.5-20 wt.% acrylic polymer emulsion. - 特許庁

塩基配列や塩基の長さ、組成などが既知の特異的結合物質に、放射性標識物質によって標識された生体由来の物質を特異的に結合させて、選択的に標識したスポット状領域を、メンブレンフィルタなどの担体表面に、高密度に形成した場合においても、高い分解能で、定量性に優れた生化学解析用のデータを生成することのできる蓄積性蛍光体シートを提供する。例文帳に追加

To provide a storage phosphor sheet allowing generating data for biochemical analysis with excellent quantification property with high resolution even when an organism-derived substance labeled by a radiological labeling material is specifically combined with a specific combination material of which the base sequence, length and composition are known and selectively labeled spot type regions are densely formed on carrier surface such as a membrane filter. - 特許庁

支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。例文帳に追加

The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%. - 特許庁

基板上に設けられた疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、エネルギーを付与し、該疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合させて得られる親水性表面を有することを特徴とする。例文帳に追加

The support for a planographic printing plate has a hydrophilic surface obtained by bringing a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with the top of a hydrophobic polymer-containing layer disposed on a substrate, imparting energy and directly chemically bonding the hydrophilic polymer having a polymerizable group to the top of the hydrophobic polymer-containing layer. - 特許庁

本発明の課題は、天然植物から抽出、分離した物質のチロシナーゼ活性阻害効果とその作用をなす有効成分の製法及び化学組成式を明らかにし、人皮膚における美白用剤、食品類の褐変防止剤等の用途に好適に使用しうるチロシナーゼ活性阻害剤を提供することにある。例文帳に追加

To elucidate tyrosinase activity inhibitory effects of a substance extracted and separated from a natural plant, and a method and a chemical composition formula of an active ingredient exerting the effects, and to provide a tyrosinase activity inhibitor favorably useful in applications of a bleaching ingredient in the human skin, a browning inhibitor of foods, etc. - 特許庁

赤外線照射炉において、アルゴンガス及び酸素ガス気流中で、マグネシウム基板、ホウ素及び酸化ホウ素を７００℃、４０分間加熱することにより、マグネシウム基板上に配列し、直径が４０〜１００ナノメートル、長さが１〜２マイクロメートルで、化学量論組成を有する酸化ホウ素ナノワイヤーを得る。例文帳に追加

The boron oxide nanowire having a stoichiometric composition, which is arranged on a magnesium substrate and has a diameter of 40-100 nm and a length of 1-2 μm, is obtained by heating a magnesium substrate, boron, and boron oxide at 700°C for 40 minutes in an atmospheric current of argon gas and oxygen gas in an infrared radiation furnace. - 特許庁

本発明は、難溶性であるロジンを変性することにより、一般の有機溶剤に対する溶解性や各種樹脂に対する相溶性に優れるとともに、化学性能、物理性能に優れる硬化性組成物、または実装基板等に部品を装着する際のハンダ付け用フラックス及びハンダペーストに好適なロジン誘導体を提供する。例文帳に追加

To obtain a rosin derivative suitable for a curable composition excellent in solubility in usual organic solvents and compatibility with various resins and further chemical and physical performances or a soldering flux and a solder paste when a part is mounted on a mount board, etc., by modifying rosin which is sparingly soluble. - 特許庁

下記式 （Ｓｉ_1-nＭ_n）Ｏ_2 式中、Ｍは多価金属を表し、 ｎはゼロを含まない０．１以下の数である、で表される化学的組成を有する薄板状シリカ金属複合体粒子であって、厚さが０．５μｍ未満の、シリケート骨格中のＳｉ原子が多価金属で置換されていることを特徴とする薄板状シリカ金属複合体粒子とする。例文帳に追加

The fibrous porous silica metal composite particle has a chemical formula expressed by the general formula: (Si_1-nM_n)O_2, where M represents a polyvalent metal, n is a figure below 0.1 not inclusive of 0 and in which the Si atom in the silicate skeleton is substituted with the polyvalent metal M. - 特許庁

基板上に、化学量論的組成のホール素子用多結晶薄膜（ＩｎＳｂ薄膜）を堆積する工程と、このホール素子用多結晶薄膜が堆積された成膜基板１ａ，１ｂ，１ｃ，・・・・・の表面上を、局所加熱ヒータ１１を用いて、局所加熱して加熱処理する工程とを少なくとも含む。例文帳に追加

This method includes at least a process for depositing a polycrystalline thin film (InSb thin film) of stoichiometric composition for the Hall element on a substrate, and a process for locally heating surfaces of film formed substrates 1a, 1b, 1c, etc., where the polycrystalline thin film is deposited by using a local heater 11 and for conducting heat treatment. - 特許庁

塗膜形成直後から高度な親水性に基づく耐汚染性能を有し、さらに良好な長期耐候性、耐水性、耐化学性能を有する硬化物を与えることのできる塗料組成物を提供し、かつ優れた仕上がり外観性を与えることが可能な塗装仕上げ方法及びその方法によって得られた塗装物品を提供する。例文帳に追加

To provide a coating composition that has stain-proof properties due to a high degree of hydrophilicity from immediately after the coating film is formed and can give hardened material of excellent long-term weather resistance, water resistance and chemical resistance, provide a finish coating method that can give excellent finish appearance and provide the coated matter that is prepared by the finish coating method. - 特許庁

本発明は、金属ターゲットと反応性ガスとによるリアクティブスパッタリングを行うに際し、ターゲットの使用時間と共に金属フッ化物薄膜のフッ素含有量が化学量論組成から乖離することに起因して光学特性がばらつくことがない金属フッ化物光学素子及びその製造方法及びその製造装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a metal fluoride optical element, at the time when reactive sputtering is performed with a metal target and reactive gas, free from variation in optical properties caused by the phenomenon that the content of fluorine in a metal fluoride thin film deviates from a stoichiometric composition in accordance with the using time of the target, to provide its production method, and to provide a production device therefor. - 特許庁

ポリビニル系アルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂およびポリエステル系樹脂からなる群より選択されるバリア性樹脂（Ａ）および酸化チタンまたは酸化亜鉛である光触媒（Ｂ）からなる樹脂組成物（Ｃ）でなるフィルムの表面を溶剤処理、火炎処理およびコロナ処理から選ばれる化学的処理または物理的処理してなるフィルム。例文帳に追加

The film is obtained by subjecting the surface of a film composed of (A) a barrier resin to be selected from the group consisting of a polyvinyl alcohol resin, a polyamide resin, and a polyester resin and (B) a photocatalyst of titanium oxide or zinc oxide to a chemical treatment or a physical treatment to be selected from a solvent treatment, a flame treatment, and a corona treatment. - 特許庁

二酸化炭素冷媒と共に用いた場合に、潤滑性、シール性、冷媒相溶性、熱・化学的安定性、電気絶縁性等をバランスよく十分に満足し、圧縮機の潤滑不良や冷凍効率の低下を十分に防止することが可能な冷凍機油、並びにその冷凍機油を用いた冷凍機用流体組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a refrigerating machine oil having sufficiently satisfactory lubricity, sealing performance, compatibility to refrigerant, thermal and chemical stability, electrical insulation, etc., in balanced state in the case of using together with carbon dioxide refrigerant and capable of sufficiently preventing the deficient lubrication of a compressor and the lowering of the refrigeration efficiency and to provide a fluid composition for refrigerating machine using the refrigerating machine oil. - 特許庁

高分子凝集剤として多様な排水や製紙原料に対応でき、また季節的な変動や配合パルプの変動にも対応可能な凝集処理方法を開発することであり、そのため異種化学組成のカチオン性水溶性高分子を混合し、アニオン性水溶性高分子と組み合わせる処理方法を提供する。例文帳に追加

To develop a flocculation treatment method capable of corresponding to wastewater of every kind or a papermaking raw material as a polymeric flocculant and capable of also corresponding to seasonal fluctuations or the fluctuations of compounded pulp, and to provide a treatment method for mixing cationic water soluble polymers different in chemical compositions to combine them with an anionic water soluble polymer for the purpose of developing the flocculation treatment method. - 特許庁

そして、材料に冷間圧延と焼鈍を少なくともそれぞれ1回以上行なってなる展張型色選別装置用素材の製造方法において、材料は上記のいずれかに記載の化学組成を有し、最終冷間圧延は圧延率を30%以上とし、前記最終冷間圧延に続き、700℃以下の焼鈍を行なう展張型色選別装置用素材の製造方法である。例文帳に追加

In the method for manufacturing the material for an expansion-type color selecting device by subjecting a material to cold rolling and annealing each at least one or more times, this material has the above chemical composition and rolling ratio at final cold rolling is ≥30% and, in succession to the final cold rolling, annealing is performed at ≤700°C. - 特許庁

（ｉ）配列ＴＣＴＣＣＣＡＧＣＧＴＧＣＧＣＣＡＴ（配列番号１７、当該配列中の少なくとも１個のヌクレオシド間結合がフォスフォロチオエート結合である）を有するアンチセンスオリゴヌクレオチドからなるアンチコードオリゴマー；（ｉｉ）１又は２以上の癌化学療法剤；および（ｉｉｉ）医薬として許容される担体、を含有することを特徴とする、ｂｃｌ−２タンパクを高レベルで発現している癌治療用医薬組成物。例文帳に追加

The pharmaceutical composition for treating cancers expressing bcl-2 protein in a high level, and containing an anticode oligomer comprising (i) an antisense oligonucleotide having a sequence: TCTCCCAGCGTGCGCCAT (sequence number 17, at least one inter-nucleoside bond in the sequence is a phosphorothioate bond), (ii) one or two or more kinds of cancer chemotherapeutic agents, and (iii) a pharmaceutically permissible vehicle. - 特許庁

非ハロゲン系難燃剤を用いた難燃化手法において，十分な難燃性を確保しつつ適正な硬化性を保てる樹脂配合であり，これら樹脂を用いた製品についても，機械的，電気的，化学的に適正な特性を得ることができる難燃性樹脂組成物を用いた樹脂付き銅はく、接着シート、プリント配線板を提供すること。例文帳に追加

To provide a resin-clad copper foil using a flame-retardant resin composition compounded with a resin, which can keep proper curable properties while ensuring sufficient flame retardancy in a flame retarding technique using a non-halogen flame retardant, and capable of obtaining mechanically, electrically and chemically proper characteristics even with respect to a product using the resin, an adhesive sheet and a printed wiring board. - 特許庁

高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a chemically amplified positive resist composition for forming a pattern satisfying demands for high sensitivity, high resolution (for example, high resolving power, an excellent pattern profile and small line edge roughness (LER)) and good dry etching durability, and to provide a resist film, a resist-coated mask blank, a resist pattern forming method and a photomask using the composition. - 特許庁

３５０−４１５ｎｍの光を発生する励起源と蛍光体を組み合わせた装置において、一般式［１］の化学組成を有する結晶相を含有し、第１の発光体からの光の照射により４２５ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長領域に発光ピークを有する蛍光体を使用した発光装置。例文帳に追加

The device comprising a combination of the stimulation source for generating light with 350 to 415 nm and the phosphorus, the phosphorous containing a crystal phase whose chemical composition is expressed in generic formula [1] and having a light emission peak in a wavelength region of 425 nm or over and 490 nm or below by the emission of light from a first light emitting body. - 特許庁

基板と該基板上に形成された着色層とを備えたカラ−フィルタにおいて、該着色層が、少なくとも有機顔料、分散剤、バインダー成分、及び溶剤からなり、分散剤の主成分として化学式（１）で表されるポリエステル系樹脂型分散剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用インクジェットインク組成物。例文帳に追加

Provided is the inkjet ink composition for the color filter wherein in a color filter including a substrate and a colored layer formed on the substrate, the colored layer is formed of the inkjet ink composition for a color filter comprising at least an organic pigment, a dispersant, a binder component and a solvent, and containing a polyester resin type dispersant represented by a formula (1) as a principal component of s dispersant. - 特許庁

５０ｍＡ／ｃｍ^２〜５００ｍＡ／ｃｍ^２の間の電流密度及び０．１ｍ／ｓ〜２ｍ／ｓの範囲内、好ましくは０．１〜０．４ｍ／ｓの範囲内の流速で、電気化学的に還元することより取得可能である、新規なロイコ硫化染料組成物、その製造、及びセルロース系材料を染色するためのその使用。例文帳に追加

The invention relates to the new leuco sulfur dye composition which can be obtained by electrochemically reducing in a current density of 50-500 mA/cm^2 and 0.1-2 m/s, preferably 0.1-0.4 m/s of a flow rate, and the invention relates to the method for producing the same and use of the same for dyeing the cellulosic material. - 特許庁

他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude. - 特許庁

高誘電体金属シリケートからなるゲート絶縁膜の形成において、金属等を含む前駆体の暴露時間には、表面吸着反応により成膜レートが飽和する時間を用い、酸化剤の暴露時間には、金属酸化膜の組成が化学量論値の９７％以上となる時間を用いてＡＬＤ堆積を行う。例文帳に追加

In formation of the gate insulation film formed of high dielectric metal silicate, ALD deposition is carried out by using a time for saturating a film formation rate owing to a surface adsorption reaction for an exposure time of a precursor containing a metal and the like, and using a time for setting the composition of the metal oxide film 97% or more of a stoichiometric value for an exposure time of an oxidizer. - 特許庁

化学式がＣ３ＨｊＦｋ（ただし、水素原子Ｈの数ｊ及びフッ素原子Ｆの数ｋは、1以上５以下の整数で、且つ、ｊ＋ｋ＝６が成立する。）で表され、且つ、分子構造中に炭素間の二重結合を１個持つハイドロフルオロオレフィン系冷媒と、鉱油とを含有することを特徴とする冷凍機用作動流体組成物。例文帳に追加

This working fluid composition for a refrigerator includes: a hydrofluoroolefin-based refrigerant expressed by chemical formula C_3H_jF_k (provided that the number j of hydrogen atoms H and the number k of fluorine atoms F are each an integer of 1 to 5, and an equation j+k=6 is satisfied) and having one double bond between carbon atoms in the molecular structure; and a mineral oil. - 特許庁

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状、現像欠陥、塗布性及び溶剤溶解性の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve the problems of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used and also satisfies characteristics such as development defects, suitability to coating and solubility in a solvent. - 特許庁

塩基配列や塩基の長さ、組成などが既知の特異的結合物質に、放射性標識物質によって標識された生体由来の物質を特異的に結合させて、選択的に標識したスポットを、メンブレンフィルタなどの担体表面に、高密度に形成した場合においても、高い分解能で、定量性に優れた生化学解析用のデータを生成することのできる蓄積性蛍光体シートを提供する。例文帳に追加

To provide a storage phosphor sheet which can generate superior- quantitativeness data for biochemical analysis with a high resolution even when spots selectively labeled by specifically bonding a substance originating from a living body labeled by a radioactive marker substance to a specific bond substance having known base sequence, base length, base composition and the like are formed highly densely to a surface of a carrier such as a membrane filter. - 特許庁

本発明のスライディングノズル用プレート耐火物は、窒化硼素と金属アルミニウムの質量比が０．０５〜１０、窒化硼素と金属アルミニウムの合計量が１〜１５質量％、カーボンが５質量％以下、アルミナが６５質量％以上、その他成分が０〜１５質量％である化学組成を有し、２００〜７５０℃の範囲内の温度で熱処理されていることを特徴とする。例文帳に追加

The plate refractory for sliding nozzles has a chemical composition comprising 0.05-10 mass ratio of boron nitride and metal aluminum, 1-15 mass% of the total amount of boron nitride and metal aluminum, ≤5 mass% of carbon, ≥65 mass% of alumina, and 0-15 mass% of other components, and is characterized by being heat treated at 200-750 °C. - 特許庁

解像性、絶縁性、平坦性、耐化学性及び接着力の全てに優れ、特に高開口率液晶表示素子と反射型液晶表示素子の有機絶縁膜の形成時に感度、残膜率及びＵＶ透過率が従来の感光性樹脂に比べて優れ、有機絶縁膜として使用するのに適するネガティブ感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a negative photosensitive resin composition which is excellent in resolution, insulation, flatness, chemical resistance and adhesive force and exhibits superior sensitivity, film retention and UV transmittance particularly in the formation of organic insulating films of a high-aperture-ratio liquid crystal display and a reflective liquid crystal display as compared with conventional photosensitive resins, whereby it is suitable for use as organic insulating films. - 特許庁

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。例文帳に追加

The resist film is formed of a chemically amplified resist composition comprising (A) a polymeric compound having such a structure that a hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group is substituted with a group expressed by general formula (I), (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, and an organic solvent, and the resist film has a film thickness of 10 to 200 nm. - 特許庁

不純物が酸化物換算で１質量％以下であって、かつ、ユークリプタイトの理論化学組成よりもＬｉをＬｉ_２０換算で０．５〜２．８質量％過剰に含有する粉末を成形後に１１００〜１３５０℃で焼結して、電子線描画装置等の電子線装置用部材としても適用可能なセラミック材料を得る。例文帳に追加

A ceramic material to be applied also as a member for an electron beam apparatus such as an electron beam plotting apparatus is obtained by molding powder containing ≤1% impurity expressed in terms of oxide and Li 0.5-2.8 mass% in excess of Li quantity of the stoichiometric composition of eucryptite expressed in terms of Li_2O and sintering at 1,100-1,350°C. - 特許庁

（Ａ）植物由来天然染料と、（Ｂ）カチオン性化合物、アンモニウム塩化合物、及びアルカリ金属塩からなる群より選択される天然染料吸着助剤と、（Ｃ）反応性染料、酸性染料、建染染料及び分散染料からなる群より選択される化学染料と、を含有する染料組成物である。例文帳に追加

The dye composition includes: (A) a plant origin natural dye; (B) a natural dye adsorption auxiliary selected from a group consisting of a cationic compound, an ammonium salt compound, and an alkali metal salt; (C) a chemical dye selected from a group consisting of a reactive dye, an acid dye, a vat dye, and a disperse dye. - 特許庁

ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning liquid for lithography showing uniformly favorable cleaning property for resists in various kinds and types of compositions such as resists for i-line specification, KrF specification or ArF specification, a silicon-containing resist and a chemically amplified positive resist, having preferable drying property after the process and causing no damage to characteristics of the resist by cleaning. - 特許庁

日常の紫外線やアイロン・ドライヤーの熱、特に漂白剤・ヘアカラー・ヘアブリーチ・パーマ等の化学処理を施したケラチンを含む繊維の損傷、特に毛髪の枝毛・切れ毛を防止し、かつ毛髪表面を修復することにより毛髪の手触りの改善に優れ、特に毛髪又は繊維製品処理に適したロスマリン酸含有組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a rosmarinic acid-containing composition which prevents damages of keratin-containing fibers subjected to daily ultraviolet exposure, heat of irons and dryers or chemical treatment such as coloring, bleaching and permanent wave, especially split ends or cut of hair, greatly improves touch of hair by repairing hair surface and is especially suitable for treatment of hair or fiber products. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物の樹脂成分として好適に用いうるアクリル酸若しくはメタクリル酸エステル共重合体及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an acrylate or a methacrylate copolymer suitable for use as a resin component of a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, a resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a high affinity to an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development, and to provide a method for producing the same. - 特許庁

（Ａ）ポリイミド前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）活性化学線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物、（Ｄ）アルコール性水酸基を２価以上含む化合物及び（Ｅ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive composition contains: (A) a polyimide precursor or a polybenzoxazole precursor; (B) a compound which generates an acid by irradiation of actinic rays; (C) a compound having an acid decomposable group which increases solubility with an alkali aqueous solution by acid catalytic reaction; (D) a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups; and (E) a solvent. - 特許庁

半導体化剤を含有したチタン酸ストロンチウム系の粒界絶縁型半導体セラミックスを作製するにあたり、結晶粒界を電気的に絶縁している成分及び半導体化剤をそれぞれ除いた組成でのチタン原子の割合を化学量論比よりも多くし、かつ、ストロンチウム原子の１０％以下をマグネシウム原子で置換することによって解決した。例文帳に追加

The strontium titanate-based grain-boundary-insulated semiconductor ceramic containing a semiconducting agent is manufactured in a state where the rate of titanium atoms in a composition from which a component electrically insulating crystal grain boundaries and the semiconducting agent are removed is made larger than the stoichiometric ratio of the composition and, in addition, the ≤10% of strontium atoms is replaced with magnesium atoms. - 特許庁

透過率、絶縁性、平坦性、耐化学性などの性能に優れるだけでなく、特に高耐熱特性を通した層間絶縁膜で発生されるガス抜けを最少化させて、後工程の信頼性を確保することによってＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜として使用するのに適した感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in performances, such as transmissivity, insulation, flatness, and chemical resistance, and also made suitable to use as an interlayer insulation film in a LCD manufacturing process securing the reliability in the following processes by minimizing the gas leakage especially through the high heat resistant interlayer insulation films. - 特許庁

ホルムアルデヒド発散量が充分に低減され、スチレンのような揮発性の高い重合性単量体を用いた場合の発散量も充分に低減できることにより、化学物質の発散に対する衛生上の支障を生じるおそれが充分に抑制され、建築分野等における建築材料の仕上げ材等に好適であるラジカル硬化性樹脂を含有する樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resin composition containing a radical-curable resin suitable for finishing materials for building materials in a construction field, etc., by virtue of an enough reduction in an amount of formaldehyde emission and in an amount of emission of highly volatile polymerizable monomers such as styrene, and full suppression of sanitary problems due to emission of chemical substances. - 特許庁

酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに式（Ｉ）で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式（II）で表される酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified resist composition comprises a resin which comprises a structural unit, having an acid-labile group in a side chain and a structural unit represented by Formula (I) and having a lactone structure in a side chain, and which itself is insoluble or hardly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution due to the action of an acid; and an acid generator represented by Formula (II). - 特許庁

金属アルコキシド及びキレート安定化剤を含む組成物を基板上に塗布し、塗布膜に光照射すると共に、この塗布膜における非照射部の化学反応を進行させた後、エッチング溶液にてエッチングして照射部を溶解、除去するポジ型酸化物薄膜パターンの形成方法において、前記エッチング溶液としてアルカリ水溶液を用いることを特徴とするものである。例文帳に追加

In a method for forming a positive oxide thin film pattern in which the top of a substrate is coated with a composition containing a metal alkoxide and a chelate stabilizer, the resulting coating film is irradiated with light, a chemical reaction of the unirradiated part in the coating film is allowed to proceed and the irradiated part is dissolved and removed by etching with an etching solution, an aqueous alkali solution is used as the etching solution. - 特許庁

金属配線を有する半導体基板を化学機械研磨した後にその基板表面の汚染を除去する際、金属配線を腐食させず、かつ残存砥粒、残存研磨くず、金属イオン等の不純物の除去能力が高い洗浄用組成物、これを用いた半導体基板の洗浄方法、およびこの洗浄方法を含む半導体装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To obtain a cleaning composition which has a high ability to remove impurities such as residual abrasive grains, residual polishing wastes, and metal ions without corroding metal wirings when contaminants on the surface of a semiconductor substrate having the metal wirings are removed after the substrate is subjected to chemical and mechanical polishing, to provide a washing method for the semiconductor substrate using the same, and a manufacturing method for a semiconductor device including the washing method. - 特許庁

プロピレン系重合体１００重量部に対して下記化学構造式で示される化合物を１つ以上含んだ改質剤を０．００５〜０．１重量部配合したプロピレン系樹脂組成物を用いて得られるＡＳＴＭ Ｄ２４５７−１９７０によって測定した光沢が１５０％以上、およびＪＩＳ Ｋ７１３６によって測定したＨＡＺＥが２％以下であることを特徴とするポリプロピレン系包装用フィルム。例文帳に追加

The polypropylene-based wrapping film is provided by using a propylene-based resin composition compounded with 0.005-0.1 pts.wt. of a modifier containing at lest one compound represented by chemical formula (1) based on 100 pts.wt. propylene-based polymer, and has ≥150% glossiness measured by ASTM D2457-1970 and ≤2% HAZE measured by JIS K7136. - 特許庁

支持体１１０上に存在し、放射線硬化性化合物および放射線硬化性組成物の少なくとも何れか一方を内包する電子写真方式用マイクロカプセルトナー含む電子写真方式用現像剤１１４のマイクロカプセルを破壊して、放射線１１３を照射して硬化反応を進行させると同時に、現像剤と支持体とを化学結合１１５することにより、現像剤を支持体に定着する。例文帳に追加

The microcapsules of a developer 114 for an electrophotographic process present on a support 110 and containing a microcapsular toner for an electrophotographic process containing at least one of a radiation-curable compound and a radiation-curable composition are broken and irradiated with radiation 113 to bring the developer and the support into chemical bonding 115 as well as to make a curing reaction proceed, thereby the developer is fixed on the support. - 特許庁

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size. - 特許庁