「四磨」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

屋号は萬屋錦之介萬屋（四代目までは播磨屋）。例文帳に追加

The stage family name is Yorozuya Kinnosuke YOROZUYA (it was Harimaya up to the fourth).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

電動上下四面同時磨き歯ブラシ例文帳に追加

UPPER AND LOWER FOUR-FACE POLISHING ELECTRIC TOOTH BRUSH - 特許庁

四辺形基板の受け渡しのできる受渡機構および四辺形基板を研磨することができる研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a transfer mechanism capable of transferring a quadrilateral substrate and a polishing device capable of polishing the quadrilateral substrate. - 特許庁

次男織田明や四男織田一磨は芸術家として知られている。例文帳に追加

Akira ODA, his second son and Kazuma ODA, the fourth son were known as artists.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ガラス基板の四辺の縁の研磨能率を大幅にアップするようにする。例文帳に追加

To remarkably increase the polishing efficiency for four edges of a glass substrate. - 特許庁

また、『二入四行論』が達磨に関する最も古い語録で達磨伝説の原型であるとともに達磨の思想をも伝えている。例文帳に追加

Furthermore, the oldest goroku (saying) concerning Daruma is found in "Ninyushigyo ron" (literally, "the way to the two truths, and methods for the four practices"), which, being the original model for legends concerning Daruma, also conveys Daruma's thought.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

少なくとも上記周縁上面、上角縁面、下角縁面又は周縁下面の四つの面のいずれかを研磨可能な迂回研磨加工部Ｂと、上記側面を研磨する折返研磨加工部Ｃとからなる。例文帳に追加

This disc member peripheral portion grinding device is composed of a detour grind machining portion B capable of grinding at least any one of a peripheral upper surface, an upper corner edge surface, a lower corner edge surface, and a peripheral lower surface; and a turning grind machining portion C for grinding a side surface. - 特許庁

その後、四国から播磨国へ行くが、そこでも乱暴を繰り返して、播磨国の圓教寺の堂塔を炎上させてしまう。例文帳に追加

Benkei went to Shikoku and then to the Harima Province, but he also acted wild and caused the temple building of Engyo-ji Temple to burn down.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

三つ目ドリル、四つ目ドリル用の研磨の操作を出来得る限り簡単に正確にできる研磨機の構造。例文帳に追加

To provide a grinder capable of grinding a three spur-point drill and a four spur-point drill as simply and accurately as possible. - 特許庁

この研磨用キャリア２の偏心させた部分には、この被研磨材を挿入する四角形の孔２Ｋが形成されている。例文帳に追加

A quadrangle hole 2K for inserting the element to be polished is formed in a portion which is eccentric from the polishing carrier 2. - 特許庁

四　数値制御を行うことができる工作機械であって、磁性流体研磨法を用いるもの例文帳に追加

(iv) Machine tools capable of numerical control and that employ magnetic fluid grinding methods  - 日本法令外国語訳データベースシステム

達磨が伝えたとされる二つの真理への至り方と、四つの実践方法。例文帳に追加

It is the way to the two truths and the methods for four practices, which is said to be introduced by Daruma.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

その後、京職、穀倉院、播磨国などの官を歴任し、位は従四位下にのぼった。例文帳に追加

Later, he held positions in Kyoshiki (Kyoto Police Office), Kokuso-in (Grain Warehouse), Harima Province and so on, and his courtly rank was elevated to Jushiinoge (Junior Fourth Rank, Lower Grade).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

12月20日(旧暦)：正四位下に昇叙し、右近衛中将・播磨権守如元例文帳に追加

December 20 (lunar calendar): Promoted to the court rank of Shoshiinoge (Senior Fourth Rank, Lower Grade), retained his posts as Ukone no chujo and Harima gon no kami.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

保元2年（1157年）1月2４日、従四位上に昇叙し、播磨権守を兼任。例文帳に追加

March 13, 1157: He gained the rank of Jushiinojo (Junior Fourth Rank, Upper Grade) and held the additional post of the Harima gon no kami (Lord of Harima Province).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

6月25日、正四位下に昇叙し、左近衛権中将・播磨権守如元。例文帳に追加

August 9: He gained the rank of Shoshiinoge (Senior Fourth Rank, Lower Grade) and stayed as Sakonoe gon chujo and Harima gon no kami.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

改元して元久元年4月13日、従四位上に昇叙し、左近衛中将・播磨介如元。例文帳に追加

The era changed to Genkyu and on May 21, 1204 he was promoted to Jushiinojo (Junior Fourth Rank, Upper Grade), and retained his position as Sakonoe no chujo and Harima no suke.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

3月11日、正四位下に昇叙し、左近衛中将・播磨権守如元。例文帳に追加

April 26: He was promoted to Shoshiinoge (Senior Fourth Rank, Lower Grade) and remained in the same position of Sakonoe no chujo cum Harima gon no kami.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

866年（貞観8）1月7日、従四位上に昇叙し、参議・右大弁・播磨権守元の如し。例文帳に追加

January 7, 866: He rose to the rank of Jushiinojo (Junior Fourth Rank, Upper Grade) and retained his positions as Sangi, Udaiben, and Harima gon no kami.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

3月23日、正四位下に昇叙し、参議・右大弁・播磨権守如元。例文帳に追加

On March 23, he rose to the rank of Shoshiinoge (Senior Fourth Rank, Lower Grade) and retained his positions as Sangi, Udaiben, and Harima gon no kami.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

播磨国龍野藩主・脇坂安照の四男・脇坂安利の次男。例文帳に追加

He was the second son of Yasutoshi WAKIZAKA who was the fourth son of Yasuteru WAKISAKA, the lord of Tatsuno Domain in Harima Province.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

有機酸、研磨砥粒、第四級アンモニウム塩および水を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The slurry for CMP contains an organic acid, abrasive grains, quaternary ammonium salt and water. - 特許庁

板ガラスの各コーナー及び四辺縁の研磨稼働率を大幅にアップする。例文帳に追加

To largely increase a polishing operation rate of the respective corners and the four side edges of plate glass. - 特許庁

この直霊だけが、直接「天」につながり、四つの魂をコントロールすることで四つの魂を磨くという働きをする。例文帳に追加

Only this naohi can be connected with 'heaven' and has a function to polish the four souls by controlling them.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

質量は金一枚（京目拾両）すなわち四十四匁を基準としているが、実際には吹き減りおよび磨耗などを考慮し二分の入り目が加えられ、四十四匁二分が規定量目である。例文帳に追加

The standard weight was one plate of gold (165 grams), which was equivalent to 44 monme; however, the actual standard weight was 44 monme and 2 bu with additional 2 bu as decrease in the weight at the time of minting and abrasion were taken into consideration.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

吉光の焼き直しの代表格としては、太刀を磨り上げた名物一期一振藤四郎（いちごひとふりとうしろう、刀）、小薙刀を磨り上げた名物鯰尾藤四郎（なまずおとうしろう、脇差）がある。例文帳に追加

Some of the major quenched Yoshimitsu include the famous sword Ichigo Hitofuri Toshiro, made from a cut sword, and the famous short sword Namazu Toshiro, made from a cut short pole sword.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ａ）カチオン性砥粒、 ｂ）四級アンモニウムヒドロキシド又は四級アンモニウム塩、 ｃ）シュウ酸又はシュウ酸塩及び ｄ）アニオン性ポリマーを含む、ポリシリコン膜とシリコン窒化物を同時に研磨可能な研磨用組成物。例文帳に追加

The polishing composition capable of simultaneously polishing the polysilicon film and a silicon nitride contains (a) cationic abrasive grains, (b) quaternary ammonium hydroxide or quaternary ammonium salt, (c) oxalic acid or oxalate, and (d) an anionic polymer. - 特許庁

半導体集積回路のバリア層を研磨するための研磨液であって、ジ四級アンモニウムカチオン、腐食抑制剤、及びコロイダルシリカを含み、ｐＨが２．５〜５．０であることを特徴とする研磨液。例文帳に追加

The polishing liquid for polishing the barrier layer of a semiconductor integrated circuit contains di-fourth class ammonium cation, a corrosion inhibitor and colloidal silica and has pH in the range of 2.5-5.0. - 特許庁

質量は金一枚すなわち京目拾両（四十四匁）を基準としているが、実際には色揚げによる減量および磨耗などを考慮し二分の入り目が加えられ、四十四匁二分が規定量目である。例文帳に追加

The mass of a Tensho oban was to be the same as a Kin (plate of gold), equivalent to kyome (unit of weight of Kin) ten ryo (a unit of weight), as well as forty-four monme (a monetary unit), however, counting loss during the process of finishing, re-dyeing and wear during circulation, it was regularly minted of the equivalent gold to forty-four monme two bu (forty-four monme is about 165g, forty-four monme two bu is about 173.25g).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

鴨吉備麻呂（播磨国守、従四位下）は備前国、美作国、備中国、淡路国の4国を管する。例文帳に追加

KAMO no Kibimaro (Harima no kuni no kami [Governor of Harima Province], Jushiinoge [Junior Fourth Rank, Lower Grade]) administered four provinces, namely Bizen Province, Mimasaka Province, Bicchu Province, and Awaji Province.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

同年9月、仲麻呂は都督四畿内三関近江丹波播磨等国兵事使になり軍権を掌握して反乱を計画。例文帳に追加

In September, 764, Nakamaro gained the position of Totoku shikinai sangen omi tanba harima to koku hyojishi (Governor general; four provinces close to the capital: Yamato, Yamashiro, Setsu, Kawachi; three major barrier stations; Omi Province; Tanba Province; Harima Province; and other provinces; military chief), and held the military power for a planned rebellion.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

天平神護2年（766年）正四位上に進み、その後、内廐頭、下総国、播磨国などの国司を歴任した。例文帳に追加

In 766, he was promoted to Shoshiinojo (Senior Fourth Rank, Upper Grade), and subsequently served as uchi-no-umaya-no-kami (manager of stables of the Imperial Palace) and Kuni-no-mikotomochi (provincial governor) of Shimousa Province, of Harima Province and so on.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

「直霊」（なおひ）の機能を一字で表すと「省」で、自分の行動の良し悪しを、省みることで、四魂を磨いていく働きをする。例文帳に追加

Naohi whose function is described as '省' with one Chinese character can polish the four souls by reflecting what was done is proper or not.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

直霊が正常に働いているときは、四魂は磨かれていくが、正常に働かなくなるとき曲霊（まがひ）に転じる。例文帳に追加

When naohi does not properly function, the four souls can be polished but can not sometimes work, turning into magahi spirits.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

1361年（康安元年）　播磨国守護だった赤松則村（円心）の四男・赤松氏範が有馬郡を領有し三田城（車瀬城）を築城。例文帳に追加

In 1361 Ujinori AKAMATSU, the forth son of Norimura AKAMATSU (Enshin) who was the Governor of Harima Province, became the ruler of Arima County and constructed Sanda-jo Castle.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

第四工程では、エッチャント又は液体を含む研磨剤を用いて基板１０を積層体７０から除去する。例文帳に追加

In a fourth process, the substrate 20 is removed from the laminated material 70, by using an etchant or a polishing agent including liquid. - 特許庁

有機シラン四級化合物、非反応性研磨剤、および過酸化水素を含有する洗浄性および多機能性被覆組成物。例文帳に追加

The cleansing and multifunctional coating composition comprises an organosilane quaternary compound, nonreactive abrasives, and hydrogen peroxide. - 特許庁

遊星歯車式の研磨装置において、四角形のワーク１５を研磨加工中に発生するワーク１５の割れ、欠けを防ぎ安定した加工精度の向上を計る。例文帳に追加

To improve stable working accuracy by preventing cracks and breaks of a work 15 occurring in the process of polishing the square work 15 in a planetary gear type polishing device. - 特許庁

半導体集積回路のバリア層を研磨するための研磨液であって、（Ａ）四級アンモニウムカチオン、（Ｂ）腐食抑制剤、（Ｃ）非イオン界面活性剤及び（Ｄ）コロイダルシリカを含み、ｐＨが２．５〜５．０であることを特徴とする。例文帳に追加

The polishing agent is one for polishing a barrier layer of a semiconductor integrated circuit, and contains: (A) quaternary ammonium cation; (B) a corrosion inhibitor; (C) a nonionic surfactant; and (D) colloidal silica, wherein its pH is 2.5 to 5.0. - 特許庁

本発明は、磨き具を四角柱にし、かつ、指で押さえるための凹状の面取り部を、両側に設け、さらに軽量にするため、面取り部と面取り部の間を貫通させ、ヤスリ部は平面のものと、湾曲したことを特徴とした、手、もしくは、足の爪を磨くための、爪磨きを提案する。例文帳に追加

To propose a nail polishing tool for polishing nails of the hand or foot in which the polishing tool is a square column, concave chamfers for pressing with the finger are provided on both sides, a through-hole is made between the chamfer and chamfer for making the tool lightweight furthermore, and a plane file part and a curved file part are provided. - 特許庁

半導体集積回路のバリア層を研磨するための研磨液であって、四級アンモニウムカチオン、腐食抑制剤、末端にスルホン基を有する高分子、無機粒子及び有機酸を含み、ｐＨが１〜７であることを特徴とする研磨液である。例文帳に追加

The polishing liquid for polishing the barrier layer of a semiconductor integrated circuit includes a quaternary ammonium cation, a corrosion inhibiting agent, a polymer compound having a sulfo group at a terminal, inorganic particles, and an organic acid, and the pH of the polishing liquid is in the range of 1-7. - 特許庁

さらに磨き組成物およびルテニウムを含む基材の化学的で機械的な磨き方法、以下を含む磨き組成物を与える：(a)+４の酸化状態より上にルテニウムを酸化する酸化剤、(b)ポリマー型金属イオン封鎖剤、金属キレート剤、有機チオール、四酸化ルテニウム還元する化合物、ラクトンからなる群から選択された磨き追加物、およびヒドロキシカルボニル化合物。例文帳に追加

The invention further provides a polishing composition and a method of chemically-mechanically polishing a substrate comprising ruthenium, the polishing composition comprising (a) an oxidizing agent that oxidizes ruthenium upper than +4 oxidation state, (b) a polishing additive selected from the group consisting of polymer-type sequestering agent, metal chelating agent, organic thiols, compounds that reduce ruthenium tetraoxide, and lactones, and a-hydroxycarbonyl compounds. - 特許庁

近接場光素子１６の頂面３０１ｅが所定の大きさとなり、かつその頂面３０１ｅとＡＢＳ１５ｂが同一平面をなすように、基板の下面と対向するように配置した平坦な研磨材４０４を用いて、四角錐台４０２と、四角錐４０１と、金属膜３０３、３０４とを研磨する。例文帳に追加

The quadrangular pyramid mount 402, the quadrangular pyramid 401, and the metal films 303, 304 are ground by using flat abrasives 404, arranged so as to face the lower plane of the substrate and the top face 301e of the proximity field optical element 16 becomes a prescribed magnitude, and that the top face 301e and the ABS15b form identical flat plane. - 特許庁

半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、四級アンモニウムカチオン、有機酸、無機粒子、並びに、下記一般式（Ｉ）で示される化合物及び下記一般式（Ｉ）で示される構造単位を含む高分子の少なくとも一方を含み、ｐＨが１〜７の範囲である研磨液である。例文帳に追加

The polishing liquid used for chemical mechanical polishing in a planarization process of a semiconductor integrated circuit contains a quaternary ammonium cation, an organic acid, an inorganic particle, and at least one of a compound expressed by general formula (I) and a polymer including a structure unit shown by the general formula (I), and has a pH of 1 to 7. - 特許庁

天平宝字8年（764年）9月、仲麻呂は都督四畿内三関近江丹波播磨等国兵事使になり軍権を手にして反乱を計画するが、密告により発覚。例文帳に追加

In October 764, Nakamaro attempted a rebellion with the military power he amassed by becoming totoku (Governor General) and Military Chief of Shikinai (four provinces close to the Capital Kyoto; Yamato, Yamashiro, Settsu, Kawachi), Sangen (three major barrier stations), Omi, Tanba, Harima and other provinces, but was foiled by an anonymous report.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス