「節磨」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

制御部は、研磨工程の時、基板支持部及び研磨ユニットを制御して基板の研磨量を調節する研磨変数の値を基板に対する研磨パッドの水平位置によって調節する。例文帳に追加

The control unit controls the substrate supporting member and the polishing unit during a polishing process to adjust a value of a polishing variable adjusting a polishing amount of the substrate according to a horizontal position of the polishing pad with respect to the substrate. - 特許庁

これに従って、基板研磨装置は、局部的に研磨量の調節ができるため、研磨均一度及び製品の収率を向上させられる。例文帳に追加

Therefore, the substrate polishing apparatus locally adjusts the polishing amount of the substrate to improve polishing uniformity and product yield. - 特許庁

バリアメタルの絶対的な研磨速度を適度に上げることに加え、金属配線材との研磨速度比を適切な選択比に調節できる金属研磨用、特にバリア金属研磨用、研磨液及び該研磨液を用いた研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing liquid for metals, especially for barrier metals and a polishing method using the polishing liquid wherein it improves moderately the absolute polishing speed of a barrier metal, and in addition to this, its polishing-speed ratio of the barrier metal to a metal-wiring material can be so adjusted as to make the selective ratio thereof proper. - 特許庁

研磨時間中の研磨液１３の温度を一定に保つための温度調節手段として、温度調節手段は、研磨液槽１１の壁面に気体２４を吹き付ける気体吹付手段２２を設置する。例文帳に追加

As a temperature adjusting means for keeping a temperature of grinding liquid 13 at a grinding time constant, the temperature adjusting means installs a gas spray means 22 for spraying gas 24 on a wall of a grinding liquid bath 11. - 特許庁

この調整部６の表面は被研磨膜５の研磨面の高低に応じて研磨面が研磨パッド１に接触する接触圧力の大小を調節するように、被研磨膜５の研磨面が高い部位が調整部表面が高く、低い部位が低くなるように加工されている。例文帳に追加

A surface of the adjusting part 6 is machined to be higher where a polishing surface of the film 5 is higher, and lower where it is lower, so that the polishing surface adjusts contact pressure of the polishing surface to get in contact with the polishing pad 1 in accordance with height of the polishing surface of the film 5. - 特許庁

局部的に研磨量の調節ができ、研磨均一度及び製品の収率を向上させることのできる基板研磨装置及びそれを利用する基板研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate polishing apparatus which may locally adjust a polishing amount to improve polishing uniformity and product yield, and to provide a method of polishing a substrate using the same. - 特許庁

酸化剤、ｐＨ調節剤、キレート試薬および脱イオン水を含み、研磨剤を含有しないことを特徴とする化学機械研磨用スラリーである。例文帳に追加

Chemical and mechanical polishing slurry contains an oxidizing agent, a pH adjustor, a chelate reagent, and deionized water. - 特許庁

コア・シェル構造を有する研磨用粒子においてシェル部の厚さおよび／または密度を調節することによって研磨速度をコントロールする。例文帳に追加

To prepare a polishing particle having a core-shell structure capable of controlling polishing speed by adjusting thickness and/or density of its shell part. - 特許庁

残留粒子の堆積を防止して研磨パッドの寿命を延長できる研磨パッド調節器を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing pad conditioner can extend a life of a polishing pad by preventing residual particles from being deposited. - 特許庁

鑞付けダイアモンド技術および窒化チタンを利用する、研磨パッドを調節するための方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR ADJUSTING POLISHING PAD USING BRAZED DIAMOND TECHNOLOGY AND TITANIUM NITRIDE - 特許庁

また、廃棄研磨材の排出量も減少するので、その廃棄処分費が大幅に節減される。例文帳に追加

Since the discharge amount of the discarded material is reduced, its discarding cost is largely decreased. - 特許庁

化学機械研磨装置は、少なくとも、調節ブラシ本体と、複数の粘着パッドとを有する。例文帳に追加

This chemical machinery polishing device is provided with at least an adjusting brush body and plural adhesive pads. - 特許庁

微小骨折術及び研磨関節形成術で使用することができる、関節軟骨の欠陥の修復のための改善された装置を提供する。例文帳に追加

To provide an improved apparatus for repair of articular cartilage defects, used in microfracture operation and abrasive arthroplasty. - 特許庁

本発明の研磨パッド調節器は、基層と、少なくとも１つの表面調節ユニットと、少なくとも１つの溝清掃ユニットとを含む。例文帳に追加

This polishing pad conditioner includes a base layer, at least one surface conditioning unit, and at least one groove cleaning unit. - 特許庁

ＣＭＰスラリーは研磨剤、酸化剤及び前記ＣＭＰスラリーのｐＨを調節する少なくとも一つのｐＨ調節剤を具備する。例文帳に追加

The CMP slurry is provided with an abrasive, an oxidant, and at least one pH regulant which regulates pH of the CMP slurry. - 特許庁

本発明の化学的機械的研磨スラリーは、脱イオン水に分散された研磨剤を含むスラリーと、スラリーの粘度を０．５ｍＰａｓ（ｃｐｓ）〜３．２ｍＰａｓ（ｃｐｓ）に調節するように添加される有機物の粘度調節剤とを含む。例文帳に追加

The chemical mechanical polishing slurry includes slurry containing abrasive powder dispersed in demineralized water, and organic viscosity modifier added for adjusting the viscosity of the slurry to 0.5-3.2 mPa s(cps). - 特許庁

研磨砥石の形状・条件を変更・調節する必要がなく、ゴム弾性層外周面の研磨性をその軸方向に沿って効果的に制御可能な研磨機を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing machine effectively controlling polishing performance on the outer circumference surface of a rubber elastic layer along the axial direction without altering nor adjusting the shape of a polishing grinding stone and conditions. - 特許庁

この研磨組成物を用いることによって、シリコンと導電材料を同時に研磨することができ、ＴＳＶウエハの研磨に必要な作業時間費用を有意に節約することができる。例文帳に追加

This polishing composition can be used to simultaneously polish Si and conductive materials and significantly save the necessary working-hour costs for polishing TSV wafers. - 特許庁

研磨処理する研磨対象物のパーティクルや金属汚染を問題にならないレベルに維持するために必要な排気が十分に実施でき、且つ排気に要するエネルギーが大幅に節約できる研磨装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing apparatus that allows the implementation of exhaust sufficient to keep particles and metal pollutants on an object to be polished for polish processing to a level causing no problem and saving of the substantial amount of energy required for the exhaust. - 特許庁

研磨量の大きいところではプラテンローラ１の移動速度を遅くし、研磨量の小さいところではプラテンローラ１の移動速度を速くして研磨量を調節する。例文帳に追加

The moving speed of the platen roller 1 is lowered at a portion where the amount in grinding is large and the moving speed thereof is raised at a portion where the amount in grinding is small. - 特許庁

研磨パッド上にケミカルメカニカル研磨組成物を注入することを含み、ケミカルメカニカル研磨組成物が、リン酸等の添加により２〜６に調節されたｐＨを示す方法が提供される。例文帳に追加

A method including a step for injecting the chemical mechanical polishing composition onto a polishing pad, and the chemical mechanical polishing composition shows a pH adjusted to 2-6 by adding phosphoric acid, or the like, is also provided. - 特許庁

２種類の材料が露出した基板表面を研磨して平坦化する際に、一方の材料の研磨レートと他方の材料の研磨レートとの比を容易に調節することが可能な研磨方法を取り入れた半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device achieved by introducing a polishing method capable of easily adjusting a ratio of a polishing rate of one material to that of the other material in polishing and flattening a substrate surface with two types of materials exposed therefrom. - 特許庁

研磨時間中の研磨液１３の温度を一定に保つための温度調節手段として、研磨液槽１１の周囲にヒーター１７を設置して、ヒーター１７の温度を制御することにより、研磨液１３の温度を一定の温度に保つ。例文帳に追加

A heater 17 is installed around a polishing fluid vessel 11 as a temperature regulating means for keeping the constant temperature of a polishing fluid 13 during a polishing time, and the temperature of the heater 17 is controlled to keep the constant temperature of the polishing fluid 13. - 特許庁

資源を節約し、歯磨き動作を容易にするコンパクト歯ブラシ装置、並びに該装置に用いる歯ブラシの製法例文帳に追加

COMPACT TOOTHBRUSH DEVICE TO SAVE RESOURCES AND TO MAKE BRUSHING MOTION EASIER AND MANUFACTURING METHOD FOR TOOTHBRUSH USED IN THE DEVICE - 特許庁

スライス後の半導体ウエーハを高精度かつ高能率に研削して、次工程の研磨に供給することにより、ウエーハ生産コストを節減する。例文帳に追加

To reduce wafer production cost by accurately and efficiently grinding a semiconductor wafer after slicing and supplying the wafer to the next polishing step. - 特許庁

回動装置を使用する際の消費エネルギを節減するとともに、回動装置やこれを駆動する駆動装置の磨耗や損傷を抑制する。例文帳に追加

To reduce consumption energy in using a rotary device and also restrain abrasion or damage of the rotary device and a driving device for driving it. - 特許庁

硬質で耐磨耗性の関節運動面を備えた医療インプラントまたは医療インプラント部品を提供すること。例文帳に追加

To provide a medical implant or a medical implant part which has a solid and anti-wear surface for joint movements. - 特許庁

これを、手、又は指に着けて使用するが、この歯磨き用具の柔軟さと、手指の関節の曲げ伸ばしにより、歯の汚れを取りやすくする。例文帳に追加

This implement is used with it put on the hand, the flexibility of the toothbrushing implement and the extension/contraction of the joint of the hand finger facilitate the removal of the stains on the teeth. - 特許庁

ハンマーの研磨作業を省略でき、ハンマーとメスとのかみ合わせ調節を簡単化できるようにすること。例文帳に追加

To omit the grinding work of a hammer and to simplify the engagement adjustment of the hammer and a knife. - 特許庁

砥液原料のスペースを節約でき、かつ、研磨装置に安定した性状の砥液を供給することができる砥液供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive liquid feeder capable of saving the space for abrasive liquid concentrate and supplying an abrasive liquid having stable properties to a polishing device. - 特許庁

ホイールを上下に昇降して接地圧力を調節し、垂直縦回転させることにより床を研磨する。例文帳に追加

A grounding pressure is adjusted by elevating and lowering the wheel up and down and the floor is polished by perpendicularly, vertically rotating it. - 特許庁

研磨材表面を平面、凹面、凸面の何れにも変形調節することのできるオービタルサンダーを提供すること。例文帳に追加

To provide an orbital sander capable of deforming and adjusting an abrasive material surface into any of a plane, a concave surface or a convex surface. - 特許庁

研磨剤、脱イオン化水、ｐＨ調節剤及びポリエチレンイミンを含む研磨液を使用すれば、ポリシリコン層のような導電層のＣＭＰ時に同時に露出されるシリコン酸化膜及びシリコン窒化膜の除去率を調節できる。例文帳に追加

Using a polishing solution containing a polishing compound, deionized water, a pH controlling agent and a polyethylene imine enabines adjustment of a removing ratios of a silicon oxide film and a silicon nitride film, which are simultaneously exposed at the time of CMP polishing of a conductive layer, such as a polysilicon layer. - 特許庁

後唄は金葉和歌集に載せられた源兼昌の和歌「淡路島通ふ千鳥の鳴く声に幾夜寝覚めぬ須磨の関守」に節付けしたものである。例文帳に追加

The words in the second vocal section is a waka poem 'Awaji shima, kayou chidori no naku koe ni, ikuyo nesamenu suma no sekimori' (淡路島 通ふ千鳥の鳴く声に 幾夜寝覚めぬ須磨の関守) by MINAMOTO no Kanemasa included in Kinyo wakashu.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

研磨剤の付着、堆積を防止し、従来のダブルスキン構造とは異なる構造材を用いた貯蔵・供給タンクを提案し、且つ化学研磨剤を温度調節せしめる最適な貯蔵・供給タンク構造を提供する。例文帳に追加

To propose a storage and supply tank preventing the adhesion and accumulation of a chemical abrasive and using a structural material different from a conventional double-skin structure and to provide a storage and supply tank structure optimum to regulate the temperature of the chemical abrasive. - 特許庁

ボール部材の表面仕上げ品質のばらつきを抑制するとともに、研磨効率の低下を抑制することができる、人工関節用ボール部材の研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a grinder for a ball member of an artificial joint capable of suppressing unevenness in the quality of surface finish of the ball member and suppressing the degradation of grinding efficiency. - 特許庁

研磨パッドに対する保持リングからの負荷と、研磨パッドに対するキャリアリングからの負荷が別々に調節可能とするキャリアヘッドを提供する。例文帳に追加

To provide a carrier head capable of independently adjusting a load from a retainer ring applied to a polishing pad and a load from a carrier ring applied to the polishing pad. - 特許庁

次に、研磨パッド１３に粘度調節剤（純水）３０を供給し、スラリー２０をゲル化させるとともに、研磨パッド１３の表層部を硬質化させる。例文帳に追加

Then a viscosity moderator (pure water) 30 is fed to the pad 13 and with the slurry 20 made to gel, the surface layer part of the pad 13 is rigidified. - 特許庁

床面艶出機のような清掃機において、駆動する研磨ディスクが、その押圧力を調節するために被清掃面の性状を考慮して自動で高さに関して可変に調節可能であること。例文帳に追加

To automatically regulate the height of a grinding disk to be driven in order to regulate the pressing force while taking the characteristics of a surface to be cleaned under consideration in a cleaning machine such as a floor surface polisher. - 特許庁

節輪の径が途中で変化している内視鏡の湾曲部において、径が相違する隣り合う節輪と節輪とが回動外端縁において当接し合って、操作ワイヤの磨耗等が発生することなくスムーズに作動する内視鏡の湾曲部を提供すること。例文帳に追加

To provide a bent portion of an endoscope in which adjacent node rings having different diameters smoothly move without generating abrasion of an operating wire while abutting each other at a pivoting outside end in the bent portion of the endoscope whose diameters of the node rings varies halfway. - 特許庁

バッテリーとマイクロモーターを内蔵した本体と、研磨剤を蓄えることのできる歯面爪面清掃研磨チップ４で構成され、清掃研磨チップは、本体に対して任意の角度に調節可能、あるいはモータ軸との角度を任意に設定した着脱可能な部品で構成され、本体は、バッテリー部分、モーター部分、及びチップ部分は、分割可能収納可能な形状のコードレス方式携帯型歯面爪面清掃研磨器。例文帳に追加

The cleaning and polishing tip 4 comprises a part that can be adjusted at an optional angle to the body, or an attachable and removable part in which an angle to a motor shaft is optionally set, and regarding the body, the battery part, the motor part, and the tip part are made to be dividable and housable shapes. - 特許庁

（Ａ）研磨材、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）酸化剤、（Ｄ）酸化防止剤（Ｅ）研磨速度調節剤および（Ｆ）水からなり、研磨材が、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも１種類からなる無機粒子が有機樹脂で被覆された粒子からなる研磨用組成物である。例文帳に追加

The polishing composition is one comprising (A) an abrasive, (B) an organic acid, (C) an oxidizing agent, (D) an antioxidant, (E) a polishing rate modifier, and (F) water, wherein the abrasive comprises particles prepared by coating inorganic particles comprising at least one member selected from among fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina with an organic resin. - 特許庁

ｐＨ調節剤、磨耗剤、金属−プロピレンジアミンテトラアセテート（Ｍ−ＰＤＴＡ）錯体、湿潤剤および水を含有する水性混合物を含む、半導体基板上の金属層の化学的機械的研磨用スラリー前駆体組成物を提供する。例文帳に追加

Slurry precursor composite which is used for chemical mechanical polishing of a metallization layer on a semiconductor substrate contains an aqueous mixture; and the aqueous mixture contains pH modifier, wear agent, metal-propylenediaminetetraacetate (M-PDTA) complex, wetting agent and water. - 特許庁

電気泳動研磨法を利用した研磨加工において、凝集する超微粒砥粒の結合度を調節可能とするとともに、研削から最終表面仕上げにいたる一連の加工を同一加工機械のもとで行うことを可能として、加工能率、加工精度のさらなる向上をはかる。例文帳に追加

To enhance the efficiency and accuracy of a polishing process to be performed using the electrophoretic polishing method whereby it is made practicable to adjust the degree of binding of super-abrasive grains coagulating under the polishing process and allowing the same working machine to perform a series of processes from grinding to final surface finishing. - 特許庁

高硬度耐磨耗性プローブは、高硬度、耐磨耗性、耐用年数等を改善できて、プローブとパッド間の導電能力を増加させ、プローブとテープの交換頻度と回数を減少させ、更に労力やコストを節約できて、試験効率を高めること。例文帳に追加

To provide a high hardness abrasion-resistant probe, which can be improved in high hardness, abrasion resistance, a service life and the like, increases conductivity between the probe and a pad, reduces exchange frequency and times of the probe and a tape, and can save labor and cost and increases test efficiency. - 特許庁