「開口照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

更に、本発明の回路装置の製造方法では、フィラーが充填された樹脂から成る絶縁層１２を、レーザーを照射させることにより部分的に除去して開口部２０を形成している。例文帳に追加

In the production process of circuit device, the opening 20 is formed by irradiating the insulating layer 12 composed of resin filled with filler with a laser beam and removing the insulating layer 12 partially. - 特許庁

ノズルプレートは、溝の開口端をアクチュエータの上側から覆うとともに、溝に向けて照射されたレーザ光により形成された複数のノズルを有する。例文帳に追加

In the nozzle plate, the open end of each groove is covered from above, and a plurality of nozzles are formed by a laser beam irradiated toward the grooves. - 特許庁

微小開口１０３の形状は、部材１０１に入射光１０６が照射されたことにより励起される表面プラズモンポラリトンの波長の半整数または整数倍に等しいまたは略等しい辺を有する形状である。例文帳に追加

The shape of a fine opening 103 has a side having a half-integer-fold or integer-fold length, or an approximately equal length to the wavelength of surface plasmon polariton excited by irradiation of a member 101 with incident light 106. - 特許庁

微小開口１４ａは、金属材料からなる反射膜１４に対して、例えば、電子又はイオンの照射によって最も高い位置の反射膜１４を欠如させて形成する。例文帳に追加

The microopening 14a is formed by irradiating the reflection film 14 consisting of metallic material with, for example, electrons or ions to eliminate the reflection film 14 of the highest position. - 特許庁

コア孔及び表層孔は，いずれもレーザーの照射により開口させたものであり，これらはその内壁を覆う金属めっき膜又は内部に充填した導電材により導電性が付与されている。例文帳に追加

Both the core hole and the surface layer hole are opened by the irradiation of a laser, and conductivity is imparted thereto by a metal plating film coating the inner wall or a conductive material filled therein. - 特許庁

ポジションランプ用バルブ７の光はインナーレンズ９を介して前方へ放射されるとともに、その光の一部が開口１１を介してヘッドランプ用リフレクタ８に照射され灯体内がトワイライト化される。例文帳に追加

Light from the position lamp bulb 7 is emitted forward through an inner lens 9, and also partially irradiated to the headlamp reflector 8 through the opening 11, so that the inside of the lamp body is twilit. - 特許庁

フリット封着されるセラミック細管部の開口端部と給電体を、それぞれに対して吸収率が高い波長領域の放射を照射する個別のレーザ装置により加熱する。例文帳に追加

The opening ends and the feed conductors are heated respectively by different laser devices irradiating lights of wavelength having high absorption for respective parts. - 特許庁

シャッタ３７，３８は、各定着ランプ３０，３１から放射されるイエロー及びマゼンタの各定着光を各搬送路１３３，２３３の一方に照射されるように、それぞれ対面する２つの開口を選択的に塞ぐ。例文帳に追加

Shutters 37 and 38 selectively block two opposite openings so that each of yellow and magenta fixing lights emitted from each of fixing lamps 30 and 31 is applied to one of the transfer paths 133 and 233. - 特許庁

次に、外部接続用電極１０の上面中央部に対応する部分における封止膜１１に、レーザビームを照射するレーザ加工により、開口部１２を形成する。例文帳に追加

An opening part 12 is then formed by laser processing for irradiating the sealing film 11 in a section corresponding to the center part of the top face of the electrode 10 for external connection with a laser beam. - 特許庁

その表面に絶縁性フィルム８を積層し、絶縁性フィルム８、１１のアクセスホールとなる部分にレーザー光を照射して開口部３を形成する。例文帳に追加

The method further comprises the steps of laminating an insulating film 8 on the surface, irradiating the part of accessing holes of the films 8 and 11 with a laser beam to form openings 3. - 特許庁

この状態でマスク１０の開口部を部品４に設けられた金属接合部上に位置決めし、プラズマコントローラ１７により第２電極７からと第１電極６に向けてプラズマイオンを照射する。例文帳に追加

In this state, the opening part of the mask 10 is positioned on a metal joint provided at a component 4, and plasma ions are emitted from a second electrode 7 toward a first electrode 6 by a plasma controller 17. - 特許庁

加熱用開口１１ｂで露出している導電部材１３にレーザ１５を照射することにより、導電部材１３を介してクリーム半田を加熱して溶融させる。例文帳に追加

By radiating laser 15 to the conductive member 13 exposed in the heating opening 11b, the cream solder is heated and melted through the conductive member 13. - 特許庁

これにより、そのフォトマスク１を用いて光硬化性樹脂に光を照射したときに、開口部１ａの形状が所定角度（中心角−３０度）だけ回転した形状のマイクロレンズ２がガラス基板上に形成される。例文帳に追加

As a result, the micro lenses 2 of a shape obtained by rotating the shape of the openings 1a by the prescribed angle (central angle -30°) are formed on the glass substrate. - 特許庁

次いで、フォトクロミック層２４の開口部２８に対して第２のレーザ光３７を照射することにより近接場光２９を生成し、近接場光２９によりフォトレジスト層２２に対して露光処理を行う。例文帳に追加

Near-field light 29 is then generated by irradiating the opening 28 of the photochromic layer 24 with a second laser beam 37 and the photoresist layer 22 is exposed with the near-field light 29. - 特許庁

最終保護膜を形成した後、導通用パターン７上の絶縁膜に開口部を形成し、導通用パターン７をレーザー照射により切断する。例文帳に追加

After a final protection film is formed, an opening part is formed in the insulating film on the pattern 7 for conduction, which is cut by being irradiated by a laser. - 特許庁

そして、このフォトマスクを照射する露光装置の露光光の波長をλ、結像系レンズの入射側開口数をＮＡ_ｉとすると、Ｐ＜λ／ＮＡ_ｉに設定する。例文帳に追加

When the wavelength of exposure light of an aligner that irradiates the photomask is represented by λ and the incident side numerical aperture of an imaging lens by NA_i, the pitch (P) is set at P<λ/NA_i. - 特許庁

この後、レーザビームを照射するレーザ加工により、配線１１の接続パッド部に対応する部分における上層絶縁膜１５およびオーバーコート膜１２に開口部を連続して形成する。例文帳に追加

Subsequently, through the laser process using the laser beam irradiation, the opening area is formed continuously on the upper insulating layer 15 and overcoat film 12 area corresponding to a connection pad for the interconnect line 11. - 特許庁

ボトル４を保持した状態で、上下突出部２２の間の間隙２４Ａａ、２４Ａｂ、２４Ｂａ、２４Ｂｂおよび開口部から電子線をネック部に照射することができる。例文帳に追加

The electron ray can irradiate the neck through clearances 24Aa, 24Ab, 24Ba and 24Bb between the upper and lower pains of protrusions 22 and the openings with the bottle 4 held. - 特許庁

マイクロ波照射装置１８は、マイクロ波発信器３０と、処理容器１２内の断熱箱３６の真上に開口が位置するように設けられる導波管３２を備える。例文帳に追加

The microwave irradiation apparatus 18 is provided with a microwave oscillator 30 and a waveguide tube 32 provided with an opening located right above the insulating box 36 in the treating vessel 12. - 特許庁

再生レーザービームの波長をλ、レーザービーム照射光学系の開口数をＮＡとしたとき、記録マーク列は、マーク長が０．３７λ／ＮＡ未満である記録マークを少なくとも含む。例文帳に追加

When a wavelength of the reproducing laser beam is defined as λ and the number of openings in an optical laser beam irradiation system is defined as NA, the recording mark stream includes at least the recording marks of which a mark length is < 0.37λ/NA. - 特許庁

光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。例文帳に追加

Light from a light emission part 100 passes through a liquid tank 40 and irradiates a resist R from an opening 31a of a resist liquid-protective structure 10 immersed in liquid through a mask M. - 特許庁

薬剤分包装置１は、電極３２に高電圧を印加することによって発生するイオンを薬剤投下部２８の開口２８ａ近傍に照射し、帯電を解消あるいは防止することができる。例文帳に追加

The medicine dose packaging apparatus 1 emits ion generated by applying high voltage to the electrode 32 to the vicinity of the opening 28a of the medicine chute part 28, and can eliminate or prevent electrostatic charge. - 特許庁

検査対象物２０でその開口が貫通されるように配置された楕円ドーナツ状ミラー１８でリング状レーザビームを反射し、検査対象物２０の所望の位置Ｐにリング状レーザビームを照射する。例文帳に追加

The ring-shaped laser beam is reflected by the oval doughnut-shaped mirror 18, arranged so that the inspection target 20 pierces the opening of the inspection target for irradiating the desired position P of the inspection target 20. - 特許庁

固定上部１０ａの中央部に連通孔部１２の一次燃焼室１０側を開口し、その外方にマイクロ波照射部１４を設ける。例文帳に追加

At the central part of fixed upper part 10a, the primary combustion chamber 10 side of a communicating hole part 12 is opened and a microwave radiating part 14 is arranged on the outer side of the opening. - 特許庁

そして、測定用開口部３３を介して露出された赤外線反射層（支持膜）３１に赤外線を照射し、それによって反射された赤外線を検出し、この検出結果から支持膜用赤外吸収スペクトルを得る。例文帳に追加

Infrared rays are radiated to the infrared reflection layer (support film) 31 exposed via the opening 33 for measurement, the infrared rays reflected by it are detected, and infrared absorption spectrum for a support film is obtained based on the detection result. - 特許庁

これらの光照射部７は、ディスク半径方向Ｒにほぼ等間隔に配列され、それぞれ光源の光の波長より小さい直径の円形開口８を有している。例文帳に追加

These light emitting parts 7 are arranged in the radial direction R of the disk at approximately equal intervals, and have a round aperture 8 of a diameter smaller than the wavelength of the light from the light source, respectively. - 特許庁

このため、隣接する反射層からの伝熱に色素層が容易に変形して開口を生じることができるので、低いパワーのレーザ光照射においても高コントラストの視覚イメージを描画できる。例文帳に追加

Thereby, a visual image of high contrast can be drawn by irradiation with the laser light having comparatively low power since the dyestuff layer is easily deformed by heat transfer from the adjacent reflection layer to form an aperture. - 特許庁

遮光層１４のレンズ集光領域に開口部１４ＰＳを形成する工程では、レーザー光Ｌのエネルギー密度を調整した後、レンズシート１３に照射されるレーザー光Ｌの光線平行度αを調整する。例文帳に追加

When the openings 14PS are formed in lens condensing regions of the light shielding layer 14, a degree α of beam collimation of the laser light L to irradiate the lens sheet is adjusted after an energy density of the laser light L is adjusted. - 特許庁

レチクル８の表面に対するパルスレーザー光１０の入射方向を、Ｘ、Ｙ両軸の周りに変化させることができ、レチクル８の開口部の側壁にも、まんべんなくパルスレーザー光１０を照射することができる。例文帳に追加

The incident direction of the pulse laser beam 10 for the surface of the reticle 8 can be changed to around X and Y-axes, and the pulse beam 10 can be made to irradiate on the side wall of the aperture part of a reticle 8. - 特許庁

そして、ポリゴンミラー１８からｆθレンズ１９を介して照射されたレーザ光の主走査方向の移動に追従して開口２３Ｃを移動させるように、回転アパーチャ２３を回転させる。例文帳に追加

Then, the aperture 23 is rotated so as to move the aperture 23C, which following the movement of the laser beam irradiated from a polygon mirror 18 through the fθ lens 19 in the main scanning direction. - 特許庁

ここでは、レーザー光源３１から照射されるレーザー光のスペクトル幅の変動によって生ずるＩＤＢの変動を補正するように投影光学系５１の開口数を調整する。例文帳に追加

In this case, the numerical aperture of the projection optical system 51 is adjusted so that the variation can be corrected in IDB generated due to the variation of the spectrum width of a laser beam to be emitted from the laser beam source 31. - 特許庁

開口を上向きにして配置された重量の大きな集光鏡を点灯時においても正確に保持することができ、集光特性がよくて集光鏡が破損することのない光照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light irradiation device having excellent light condensing property, on which a lighted up heavy light condensing mirror can be safely and accurately retained with its aperture facing upward. - 特許庁

電極１０Ａ及び１０Ｂの対峙する領域、即ちの開口部１０１の形状を設計することで、任意形状の領域に効率良くプラズマを照射することが可能となる。例文帳に追加

By designing a shape of a region in which the electrodes 10A and 10B are opposing, that is the opening part 101, efficient irradiation of the plasma to the region having the arbitrary shape becomes possible. - 特許庁

ランプにより基板９に光を照射して基板９に加熱を伴う処理を施す熱処理装置１において、リフレクタ１２１に開口１２０を形成し、カメラユニット６を取り付ける。例文帳に追加

In the thermal processing apparatus 1 irradiating the substrate 9 with light from a lamp for applying a process accompanying heating to the substrate 9, an opening 120 is formed in a reflector 121 for mounting a camera unit 6. - 特許庁

リフレクタ１４は、少なくともＬＥＤ１２からＬＥＤ１２の非軸方向に照射される光を反射面１５で反射して開口部１７から出射する。例文帳に追加

The reflector 14 reflects light incident at least from the LED 12 to the non-axis direction of the LED 12 at a reflection surface 15 and emits the light from the opening 17. - 特許庁

最後にパッシベーション膜１４４を形成し、ヒューズ開口部１４８のレーザー照射部位のヒューズライン１２４上部のパッシベーション膜１４４を除去する。例文帳に追加

Finally, the passivation film 144 is formed, and the passivation film 144, at the upper portion of the fuse line 124 in the part of the fuse opening part 148 where laser beams are applied, is removed. - 特許庁

Ｓｉメンブレン１０の厚さは２μm程度であり、荷電粒子線を散乱するのみで吸収をしないため、ビーム照射による熱の問題（開口損傷や寸法変化）が発生しない。例文帳に追加

The thickness of the Si membrane is about 2 μm and the does not absorb the charged particle beam but disperses only, therefore heat problems (aperture damage or size change) by the beam radiation are not generated. - 特許庁

フラッシュランプ６９から出射された閃光はクランプリング９０の開口部９１によって規定される光学窓を介して半導体ウェハーＷに照射される。例文帳に追加

A semiconductor wafer W is irradiated with flash light emitted from a flash lamp 69 via an optical window defined by an opening 91 of a clamp ring 90. - 特許庁

フォトマスク３１に上記光が照射されることにより、フォトマスク３１の遮光膜３３の開口部の近くに近接場光が発生し、この近接場光により被処理体４１のレジスト４３が露光する。例文帳に追加

By radiating the light to the photomask 31, near-field light is generated near the opening of the light shielding film 33 of the photomask 31, and the resist 43 of a body 41 to be treated is exposed by the near-field light. - 特許庁

波面分割型オプティカルインテグレータに起因する照度ムラの発生を良好に抑え、被照射面における照度の均一性と開口数の均一性とを同時に満たす。例文帳に追加

To provide a projection aligner which appropriately prevents ununiform illuminance, due to a wave front separation type optical integrator and satisfies uniformity of illuminance and the constant numerical apertures on the surface to be irradiated at the same time. - 特許庁

多孔質基材の開口を通じて両面の粘着剤層が接合しており、放射線照射時の収縮の差によって凹凸を生じ被着体との剥離性が向上する。例文帳に追加

Through the openings of the porous base material, the adhesive agent layers of both the surfaces join, and the difference in shrinkage at the time of irradiation produces unevenness, which improves the detachability from an adherend. - 特許庁

Ｏ_2プラズマ（ＲＦパワー：１００Ｗ）による照射処理を６分間行うことで、レジストパターン１０４の開口領域におけるシード層１０３の表面に付着している有機物（残渣）が除去された状態とする。例文帳に追加

An organic material (residue) stuck on the surface of the seed layer 103 in an opening area of the resist pattern 104 is removed by the irradiation with O_2 plasma (RF power:100W) for 6 min. - 特許庁

次に、開口パターン４１ａを配したフォトマスク４１を介して光（ｉ線）を照射して平坦化膜１８を露光（露光量：２００ｍＪ／ｃｍ^２ ）する（図３（ｃ））。例文帳に追加

Then the flattening film 18 is exposed (exposure quantity: 200 mJ/cm2) to irradiating light (i line) through a photomask 41 having an opening pattern 41a arranged (Fig.(c)). - 特許庁

オプティカルインテグレータの直後に開口絞りを配置することなく、テレセントリシティの良好な照明光で被照射面を照明することのできる照明光学装置。例文帳に追加

To provide an illumination optical apparatus that can illuminate an illuminated surface with illumination light excellent in telecentricity without arranging an aperture stop right after an optical integrator. - 特許庁

このとき、表面層の溶融が進行し過ぎて、開口部１６Ｃが生じ、ベース層１４が大きく露出してしまうことがないようにレーザービームの照射時間を制御する。例文帳に追加

At this time, an irradiation time of the laser beam is controlled in order to prevent overexposure of a base layer 14 due to an opening 16C formed by excessive progress of melting of the surface layer. - 特許庁