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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 開口照射に関連した英語例文

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開口照射の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 872



例文

一次像Iの近傍に配置された送光ミラー32、主鏡M1の開口部36、及び副鏡M2の開口部37を介してウエハW上のウエハマークにアライメント光ALを照射し、そのウエハマークからの戻り光を開口部37、開口部36、及び一次像Iの近傍に配置された受光ミラー33を介して検出する。例文帳に追加

A wafer mark on the wafer is irradiated with an alignment light AL through a light sending mirror 32 arranged adjacent to a primary image I, the aperture 36 of the primary mirror M1, and the aperture 37 of the auxiliary mirror M, and a return light from the wafer mark is detected via the apertures 37 and 36, and the light receiving mirror 33 arranged adjacent to the primary image I. - 特許庁

レーザー光の照射により凹凸が形成された結晶性珪素膜に対して、凹凸が形成された結晶性半導体膜に不活性ガスを吹きつけるために、結晶性半導体膜上の近傍に設けられた複数の開口部と、凹凸が形成された結晶性半導体膜に照射されるレーザー光が通過するために、複数の開口部の中心に設けられた一つのスリットと、を有することを特徴とするレーザー照射装置を用いてレーザー光を照射する。例文帳に追加

The crystalline silicon film on which the unevenness is formed by irradiation of a laser beam is irradiated with a laser beam using a laser irradiation apparatus having a plurality of openings provided near on the crystalline semiconductor film to jet an inert gas on the crystalline semiconductor film having the unevenness, and a slit provided on the center of the plurality of openings through which the laser beam to be emitted to the crystalline semiconductor film having the unevenness pass. - 特許庁

ArFレジストパターンを形成した後、レジストパターンを熱処理する間にVUVエキシマレーザーからの照射またはEビーム照射により露光してレジストパターンのT_gを一時的に低めてパターンのスペース及び開口サイズを縮める。例文帳に追加

After an ArF resist pattern is formed, the space and opening size of the pattern are reduced by temporarily reducing T_g of the resist pattern by the irradiation of a VUV excimer laser or of the E beam irradiation during the thermal treatment of the resist pattern. - 特許庁

ドーム部材5の内面を反射面4とし、カメラ側に向けて光りを照射して前記反射面4で反射させた光りを線材表面1aに均一に照射させる光源6を、前記ドーム部材5の下側開口端内側に等間隔に設ける。例文帳に追加

The inner surface of the dome member 5 is set to be a reflecting surface 4, and light sources 6 for radiating light toward the camera side and uniformly radiating light having been reflected on the reflecting surface 4 to the wire surface 1a are disposed at a constant interval inside the lower opening end of the dome member 5. - 特許庁

例文

シャッタ動作部材16は、トナー補給装置8が補給位置に移動するときにレーザスキャナのシャッタ部材を押圧してレーザ照射口を開口状態にし、トナー補給装置8が待避位置に移動するときにシャッタ部材の押圧を解除してレーザ照射口を閉口状態にする。例文帳に追加

The shutter operating member 16 pushes a shutter member of a laser scanner when the toner replenishing device 8 moves to a replenishment position to open a laser light irradiation opening and releases the shutter member from being pushed when the toner replenishing device 8 moves to a standby position to close the laser light irradiation opening. - 特許庁


例文

これにより、反射光が制御用開口孔5から出射する範囲を小さく規制することができるので、スポット光SLによる正規の照射範囲SLE以内に反射光GLによる不必要な照射を納めることができ、明確なスポット光SLが得られることとなる。例文帳に追加

Since the range where the reflected light exits from the opening hole 5 for control can be regulated to be small, unnecessary irradiation by the reflected light GL can be set within the normal irradiation range SLE by spotlight SL, and sharp spotlight SL is obtained. - 特許庁

次いで、光源から紫外線を放射して、反射防止膜423が形成された下金型の本体部421の開口部の内周面で紫外線を案内して、遮光部43により周縁部が照射されないように、樹脂膜51に照射する。例文帳に追加

Then UV is radiated from a light source and irradiated to the resin film 51, while guiding the UV with the inner periphery face of the opening of the main body part 421 of the lower die for which a reflection preventive film 423 is formed, so that the marginal part is not irradiated thanks to the shading part 43. - 特許庁

処理装置(1)において、複数の紫外線照射室(7)を設けて紫外線照射源(10)を互いに千鳥状に配設したり、ダクト装置(2)の一端部または両端部に複数の反射板(9)を配置して通気開口部を互いに千鳥状に穿設することが好ましい。例文帳に追加

Preferably, this treatment apparatus 1 is provided with a plurality of ultraviolet ray irradiation chambers 7 with the ultraviolet ray irradiation sources 10 disposed into a zigzag shape mutually, or a plurality of reflecting plates 9 are disposed in one end or the both ends of the duct device 2 and the ventilation opening parts are bored into a zigzag state mutually. - 特許庁

検出部12へ照射するための放射線を透過させる開口部15を有し、かつ、前記検出部12以外への放射線照射を防ぐため遮蔽板としての機能を有するコリメータ13を、エネルギー−電気変換部(放射線検出素子)を形成する同一基板11上に設置する。例文帳に追加

A collimator 13 having an opening 15 transmitting radiation for irradiating a detector 12 and having a function as a shield plate protecting radiation irradiation expect the detector 12 is placed on the same substrate 11 forming an energy-electric converter (radiation detection element). - 特許庁

例文

内部に放電灯が挿入された凹面反射鏡の前面開口部周縁に透光板を固定した光照射ユニットであって、光源としての諸特性、凹面反射鏡の成形性および組立性の良好な光照射ユニットを提供する。例文帳に追加

To provide a light irradiation unit with a translucent panel fixed to a peripheral edge of a front opening of a concave reflection mirror having a discharge lamp inserted thereinside, provided with properties as a light source, a good molding property of the concave reflection mirror and a good assembling property. - 特許庁

例文

文字板の比較的大きな開口面積を有する扇形窓を通して形成されるのは照射領域B及び照射領域Cであり、分割線15ABを跨いで対称に分割セルB、Cの上に互いに等しい面積W2(W1<W2)を有している。例文帳に追加

An irradiated domain B and an irradiated domain C are formed through a fan-shaped window with a comparatively large open area of the dial and have a mutually equal area W2 (W1<W2) on the split cells B and C symmetrically striding across the parting line 15AB. - 特許庁

レーザ発振器から射出されたレーザ光をシリンドリカルレンズアレイ等のレンズアレイを通過させて複数に分割し、分割後のレーザ光を焦点を結ぶ位置でスリットの開口を通過させ、その後更に集光レンズを通過させて照射面上に照射する。例文帳に追加

The laser light, emitted from the laser oscillator, passes through the lens array, such as cylindrical lens array and is divided into plurality, and the laser light after divided passes through an opening of a slit at a focus position, then, passes through a condenser lens, and is irradiated on an irradiation surface. - 特許庁

第2照射手段200は、第2のレーザ光210を出射するレーザ発振器201と、第2のレーザ光210が照射されて所望のアパーチャ像を成形する開口絞り板206と、アパーチャ像をガラス基板10の主表面に結像する対物レンズ207とを有している。例文帳に追加

The second irradiating means 200 comprises a laser oscillator 201 emitting a second laser beam 210, an aperture stop plate 206 being irradiated with the second laser beam 210 to form a desired aperture image, and an objective lens 207 for focusing the aperture image on the major surface of the glass substrate 10. - 特許庁

処理室20に被処理物を投入口22より投入し、水蒸気プラズマ生成装置10により生成した水蒸気プラズマを照射開口部24より被処理物に照射することにより、アフラトキシンを除去することができる。例文帳に追加

The aflatoxin is removed by: charging a product to be treated into a treatment chamber 20 from a charging port 22; and irradiating the product to be treated with water vapor plasma generated by a water vapor plasma generation device 10 through an exposure opening part 24. - 特許庁

サイドインナーレンズ457a〜457dを、前板飾り451の表面側において複数の照射開口611を一体的に覆う態様でメッキ枠部材の表面側に取付け、左枠LED28b,右枠LED28cからの照射光を拡散させて誘導する。例文帳に追加

Side inner lenses 457a-457d are mounted on the surface side of a plated frame member in such a manner as to integrally cover the plurality of openings 611 for irradiation on the surface side of the front plate decoration 451, thereby guiding light emitted from the left frame LED 28b and the right frame LED 28c being diffused. - 特許庁

そして、紫外線ランプ8を冷水タンク2内から上記開口部2cを通って曲折部6bの底部に達するように配設し、紫外線ランプ8から照射される紫外線が冷水タンク2内と冷水注出管6の管路内の双方をくまなく照射するようにする。例文帳に追加

An ultraviolet lamp 8 is arranged so as to reach the bottom part of the bent part 6b through the opening part 2c from the inside of the cold water tank 2, so that both the inside of the cold water tank 2 and the inside of a pipe path of the cold water spout pipe 6 are wholly irradiated with the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet lamp 8. - 特許庁

更に、システム制御装置401は、体軸(z)方向、左右(x)方向、または上下(y)方向の少なくとも2方向の撮影範囲の指定を受け付け(撮影範囲ライン85)、撮影範囲に応じた照射幅でX線を照射するよう、コリメータ203の開口幅を制御する。例文帳に追加

Furthermore, the system control apparatus 401 receives a specification of a photographing area of at least two directions of a body axial (z) direction, a horizontal (x) direction, or a vertical (y) direction (photographing area line 85), and the opening width of a collimator 203 is controlled in order to irradiate X rays with the irradiation width corresponding to the radiographing area. - 特許庁

光源ランプの光をDMDに照射する入射光学系のランプ側に、DMDのマイクロミラー・アレイの形状(4:3の長方形)を入射角(20度)分だけ歪ませた開口部を有する照射絞りを設けた。例文帳に追加

An irradiation aperture having an opening part obtained by distorting the shape of a micromirror array of the DMD (a rectangle having an aspect ratio of 4:3) by an incidence angle (20°) is provided on the side of a light source lamp of an incidence optical system which radiated light of the light source lamp to the DMD. - 特許庁

裏面照射型固体撮像素子のフォトダイオード8裏面に光導波領域を設けることにより、固体撮像素子において裏面照射型で光を導入する開口を大きく取ることで感度向上を図り、光導波領域構造を取ることにより混色を低減することができる。例文帳に追加

In the back irradiation type solid-state imaging element, the sensitivity is enhanced by making large an opening for introducing light by a back irradiation type by providing a light guide region on a back surface of a photodiode 8 of the back irradiation type solid-state imaging element, and the color mixing is reduced by adopting a light guide region structure. - 特許庁

コリメータ42を、赤色光Rが照射範囲A1の左側の外縁部を規定するとともに、青色光Bが照射範囲A2の右側の外縁部を規定するように、赤色光Rおよび青色光Bを遮光する位置に移動し、開口の程度を調整する。例文帳に追加

A collimator 42 is moved to a position for blocking red light R and blue light B so that the red light R stipulates the outer edge part on the left side of an irradiation range A1 and the blue light B stipulates the outer edge part on the right side of an irradiation range A2, and a degree of an opening is adjusted. - 特許庁

これにより、実装基板2の凹状開口部2aの外側周縁部にある波長変換部材4から照射面側へ光が照射されなくなり、波長変換部材4の中央部から放射される光とそれ以外の部位から出射される光とが異なる色合いとなることがなくなる。例文帳に追加

Because of this structure, light is not irradiated on the irradiated face from the part of the wavelength transformation member 4 corresponding to the outside peripheral region of the concave opening 2a of the mount substrate 2, preventing the difference in color tone between the light emitted from the central part of the wavelength transformation member 4 and the light emitted from the other parts thereof. - 特許庁

シールドチャンバー10内に物品搬送手段20を収容し、この物品搬送手段20で搬送している樹脂製容器2に、シールドチャンバー10の開口部32aに連結した電子線照射ユニット34から電子線を照射して殺菌する。例文帳に追加

The plastic containers 2 fed by the article feeder 20 housed in the shield chamber 10 are sterilized by being irradiated with an electron beam that is radiated from the electron beam irradiation unit 34 which is coupled to an opening 32a of the shield chamber 10. - 特許庁

照射面における照明開口数を調整するために焦点距離または倍率が可変の第1変倍光学系(4)と、被照射面に形成される照明領域の大きさを変化させるために焦点距離または倍率が可変の第2変倍光学系(7)とを備えている。例文帳に追加

The illumination optical device includes a first variable magnification optical system 4 with variable focal distance or magnification for adjusting the number of illumination openings on the illuminated face, and a second variable magnification optical system 7 with variable focal distance or magnification for changing the size of the illumination region formed on the illuminated region. - 特許庁

光源16は、光ビームを、光ビームを支持されたボトルの開口部内を通過する光に限定する絞り22を通してボトル10の中を下方へと導き、支持されたボトルの底部からボトルのヒール符号を照射するように外方へ照射する。例文帳に追加

A light source 16 directs a beam of light downwardly through the bottle 10, and an iris 22 limits the beam to light which will pass through the opening of the supported bottle and will illuminate the bottom of the supported bottle outwardly so as to illuminate the heel code of the bottle. - 特許庁

実描画が行われていないときに、第2のアパーチャ18の開口部の周囲であって第2のアパーチャ18によって遮蔽される複数の位置に電子ビームを偏向し、各位置に所定の照射量の電子ビームが照射されるようにする偏向制御部30を備える。例文帳に追加

The apparatus includes a deflection control part 30 for deflecting the electron beam to a plurality of positions shielded by the second aperture 18 at the periphery of the opening of the second aperture 18 when actual drawing is not performed so as to radiate a prescribed irradiation amount of the electron beam to the respective positions. - 特許庁

しかも、照射方向からみて、少なくとも天面22の中心点22aから円筒部21の開口端の最も遠い部分21bまでを含む幅を有するとともに、移動するキャップ2が少なくとも一回転する長さに渡って、前記電子線を照射するようになっている。例文帳に追加

And that, the equipment 10 irradiates the electronic beams which have a width including at least from a central point 22a of the top plane 22 to the farthest part 21b of an opening edge of the cylinder part 21, viewed from radiational direction, along with a length ranges over at least a complete circle on which the shifting cap rotates. - 特許庁

文字板の比較的小さな開口面積を有する円形窓を通してソーラーセル15の発電面上に形成されるのは照射領域A16及び照射領域D19であり、分割線15DAを跨いで対称に互いに等しい面積W1を有している。例文帳に追加

An irradiated domain A16 and an irradiated domain D19 are formed on the power-generating plane of the solar cell 15 through a circular window with a comparatively small open area of the dial and have a mutually equal area W1 symmetrically striding across the parting line 15DA. - 特許庁

パラメトリックスピーカ1の超音波発生部4は、ハウジング2の開口部2aに張力が付与された状態で張られた膜部材3に向けて超音波を照射するものであり、膜部材3で反射した超音波が目的方向に向けて照射される。例文帳に追加

An ultrasonic wave generation part 4 of a parametric speaker 1 emits ultrasonic wave towards a film member 3, which is stretched on an opening 2a of a housing 2 with tension applied thereto, and the ultrasonic wave reflected by the film member 3 is emitted in a target direction. - 特許庁

計測用マーカ1Aは、基材11と、基材11上に貼り合わされて照射光l_eを再帰反射する再帰反射材10と、照射光l_eを透過する複数の開口部14を有するパターンが印刷され、再帰反射材10上に貼り合わされる透明基材12とを有する。例文帳に追加

A marker 1A for measurement includes a base material 11, a retroreflective material 10 that is pasted on the base material 11 and retroreflects radiation light l_e, and a transparent base material 12 on which a pattern having a plurality of openings 14 transmitting the radiation light l_e is printed, and which is pasted on the retroreflective material 10. - 特許庁

インク等を硬化するための硬化組立体2は、少なくとも一つの紫外線LEDの列18を備え、部分的に列18を包囲し、基板上の被覆を硬化するために開口部から照射される放射線を受ける位置に支持された基板に向かって放射線を照射する長尺反射面14を有する反射部4と、列と開口部との間のレンズ24とを備える。例文帳に追加

A UV-LED-curing assembly 2 for curing of inks and the like having at least one array 18 of UV LEDs includes the reflective section 4 which partly surrounds the array 18 and has an elongated reflective surface 14 for emitting radiation towards the substrate supported at a position receiving the radiation emitted from an opening for curing coating on the substrate; and the lens 24 located between the array 18 and the opening. - 特許庁

スリット板が、光学顕微鏡の光照射デバイス上に載置して逆スリット光を照射するためのスリット板であって、中央部が開口された外周縁部分と、該外周縁部分の内側にある開口部の中心またはその近傍を通って前記外周縁部分に固定または懸架された遮光部分とから構成されている。例文帳に追加

A slit plate which is mounted on an optical irradiation device of an optical microscope and is used for irradiation with reverse slit light is constituted of an outer peripheral section having an opened central part and a light shielding section which is fixed to or is suspended from the outer peripheral section through a center or a vicinity of an opened part located inside the outer peripheral section. - 特許庁

微小開口1の周囲に取り囲むように配置され照射光ビームの光軸検出用の少なくとも2分割以上に分割されたフォトダイオード2A〜2Dと、フォトダイオードのそれぞれの分割区間の電気出力を検出し検出出力に基づいて微小開口1に照射される光ビームの光軸を検出する検出装置5とを有する。例文帳に追加

A minute aperture head is provided with photo diodes 2A to 2D, which are arranged so as to surround a minute aperture 1 and are divided into two or more for optical axis detection of the irradiated light beam, and a detector 5 which detects the electric output of each divided section of photo diodes and detects the optical axis of the light beam thrown to the minute aperture 1 on the basis of detection outputs. - 特許庁

電子放出部に紫外線を照射し、光電面152から放出される光電子を開口を通してトナーへ導くと、形状Aの開口部151はその他の形状B〜Eよりも多量の電子をトナーへ導くことができ、トナーを効率よく帯電させることができる。例文帳に追加

The electron emission part is irradiated with ultraviolet rays and photoelectrons emitted from the photoelectric surface 152 are guided to the toner through the opening to enable the opening 151 in the shape A to guide more electrons than other shapes B to E to the toner, thereby efficiently electrostatically charging the toner. - 特許庁

この後、第1の電極層2の一部が露出する接続開口部6を形成するように、レーザービームを照射して半導体層3と導体層4aを一括除去した後、少なくとも前記接続開口部6内にエッチング加工を施す。例文帳に追加

After that, a laser beam is applied to collectively removing the semiconductor layer 3 and the conductor layer 4a so that a connection opening 6 where the first electrode 2 is exposed partially can be formed, and then at least the inside of the connection opening 6 is etched. - 特許庁

開口部12は、マスク10を保護シート20を介して半導体基板50に載置する際に、その半導体基板50に形成される構造体51と対応する部分であり、保護シート20の構造体51と対応する部分にUV光を照射するための開口である。例文帳に追加

The opening 12 is a portion corresponding to a structure 51 formed in the semiconductor substrate 50, and an opening for radiating UV light to a portion corresponding to the structure 51 of the protecting sheet 20 when mounting the mask 10 on the semiconductor substrate 50 through the protecting sheet 20 simultaneously. - 特許庁

電子放射体に対してウェーネルト電極の開口が非対称になっている構造の電子銃を備えるX線管において,開口の形状を工夫することで,ターゲット上の電子ビーム照射領域が湾曲しないようにする。例文帳に追加

To prevent an electron beam irradiation area on a target from being bent by devising the shape of an opening in an X-ray tube provided with an electron gun having a structure wherein an opening of an Wehnelt electrode is unsymmetrical with respect to an electron emission body. - 特許庁

パルスレーザのパルス周期となる期間に、マスク4の隣接する開口41を通過して被加工物に照射されるレーザビームどうしの間隔に対応した所定距離を移動する所定速度で、マスク4の開口41の並び方向に沿ってフィルム9を移動させる。例文帳に追加

In a period to be the pulse period of the pulse lasers, the film 9 is moved along the arrayed direction of the openings 41 of the mask 4, at a prescribed speed of moving at a prescribed distance corresponding to the interval between the laser beams that passed through the adjacent openings 41 of the mask 4 and are emitted to a workpiece. - 特許庁

開口部を有する容器本体と開口部を蓋う蓋材からなる容器であって、容器本体の底部内面にマイクロ波の照射により発熱する発熱層を設け、蓋材の容器本体側の面に水分を保持可能な水分保持層を設けてなることを特徴とする。例文帳に追加

This container includes a container body having an opening, and a lid material covering the opening, wherein the container body is provided, at its bottom inner surface, with a heat generating layer generating heat by irradiation with microwave, and the lid material is provided, at its surface in the container body side, with a moisture retaining layer capable of retaining moisture. - 特許庁

太陽電池基板1の反射面が鏡面の場合、発光部42から出射された光はトレイ31上に搭載された太陽電池基板1に開口部32を介して照射され、その反射光は、トレイ31の開口部32の側面において反射されて受光部43に入射される。例文帳に追加

When a reflecting surface of the solar cell substrate 1 is a mirror-finished surface, the solar cell substrate 1 mounted on a tray 31 is irradiated with a light emitted from the light-emitting portion 42 via an opening 32, and its reflected light is reflected by a side surface of the opening 32 of the tray 31 to be incident on the light-receiving portion 43. - 特許庁

また、画像読取部100は、搬送路を向く側に開口部104aを有し、開口部104aの搬送路の上流側の縁部から鉛直方向下方に延びる線121より上流側にレンズ部材105及び照射ユニット103が配置される。例文帳に追加

Further, the image reading unit 100 is provided with an opening part 104a at the side toward the conveyance passage while the lens member 105 and the irradiation unit 103 are arranged at the upstream side of a line 121 extending downward into the perpendicular direction from a rim part at the upstream side of the conveyance passage of the opening part 104a. - 特許庁

プローブ17は、導波部位が空洞になる中空光ファイバーによって形成され、その開口部17Bが試料Tに接触若しくは近接した状態で、開口部17Bから試料Tに中赤外光を照射するようになっている。例文帳に追加

The probe 17 is made up of a hollow optical fiber whose waveguide section is hollow, and irradiates the sample T with the mid infrared light through its aperture 17B in such a state that the aperture 17B is in contact with or in close proximity to the sample T. - 特許庁

対象試料にX線を照射したときに対象試料にて回折した回折X線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「対象試料の回折X線強度比」とする。例文帳に追加

The intensity of diffracted X rays, which are diffracted by an object specimen when applying X rays to the object specimen, is detected on a wide opening angle condition and on a narrow opening angle condition, with a relative ratio between the two taken as "a diffracted X-ray intensity ratio of the object specimen". - 特許庁

バックライトユニットは、表示パネルに対向し開口を塞いで位置し表示パネルに照明光を照射する表示位置と、開口からずれて位置し表示パネルの背面側を開放する開放位置との間を移動可能に設けられている。例文帳に追加

The backlight unit is arranged movably between a display position at which the the backlight unit is located while facing the display panel and closing the opening to emit illuminating light to the display panel and an opening position at which the backlight unit is located away from the opening to open a backside of the display panel. - 特許庁

オーステナイト系ステンレス鋼からなる薄板母材にレーザ照射による開口部を設けるとともに、その開口部の内壁面を含む薄板母材の表面にオーステナイト系ステンレス鋼とフッ素との化合物からなる改質層を設けたメタルマスク。例文帳に追加

In this metal mask, opening parts are provided by irradiating laser over a thin base material plate made of austenitic stainless steel and a reformed layer made of a compound of the austenitic stainless steel and fluorine is provided on the surface of the thin base material plate including on the inner wall surfaces of the opening parts. - 特許庁

蛍光基準部材9は、励起光が照射される面を有する蛍光発光体、蛍光発光体の上記面以外の表面をカバーするように収容したケース、およびケースの開口、すなわち蛍光発光体の面を露出する開口を塞ぐように設けられたメッシュ板を有する。例文帳に追加

The fluorescence reference member 9 has a a fluorescence emitting body having a surface irradiated with exciting light, a case for housing the fluorescence emitting body so as to cover the surface other than the irradiated surface of the fluorescence emitting body and a mesh plate provided so as to close the opening of the case, that is, the opening for exposing the surface of the fluorescence emitting body. - 特許庁

制御器が超音波送信器ユニットと連絡して、(a)計量測定を行うために送信開口の第1の部分(24)のみから、及び(b)画像を作成するため広範な照射を行うように送信開口の第1及び第2の両方の部分(24及び26)から、超音波を交互に送信する。例文帳に追加

A controller communicates with the ultrasonic transmission unit to alternately transmit ultrasonic waves from only the first part (24) of the transmission aperture for the quantitative measurement (a) and from the both of first and second parts (24 and 26) of the transmission aperture so as to provide a broad illumination for preparing an image (b). - 特許庁

レーザビームの照射によるレーザ加工により、開口部53を有するマスク金属層52をマスクとして、半導体構成体2の配線10の接続パッド部10aの下面中央部に対応する部分における下層絶縁膜1および接着層3に開口部13を形成する。例文帳に追加

Through laser machining employing irradiation with a laser beam, an opening 13 is bored in a lower-layer insulating film 1 and an adhesion layer 3 at a part corresponding to a reverse-surface center portion of a connection pad portion 10a of wiring 10 of the semiconductor constitution body 2 by using a mask metal layer 52 having an opening 53 as a mask. - 特許庁

液晶表示素子15と、この液晶表示素子15における有効画素領域に対応した開口部21を有しこの有効画素領域の外側に照射される不要な照明光を開口部21の縁部分によって遮断する遮光板22とを備える。例文帳に追加

The panel is provided with a liquid crystal display element 15, and a light shielding plate 22 having an opening part 21 corresponding to an effective pixel area for the liquid crystal display element 15, and for shielding unnecessary illuminating light emitted outside the effective pixel area by the edge part of the opening part 21. - 特許庁

採光手段32は空間12の外部に取り付けられ、導光手段34の一端部は、空間12に設けられた開口部16を通して採光手段32に連結され、その他端部は、開口部16を通して空間12の内部に延びて照射手段36に連結される。例文帳に追加

The daylighting means 32 is installed outside the space 12, and one end of the light guide means 34 is connected to the daylighting means 32 through an aperture 16 formed at the space 12, and the other end extends to the interior of the space 12 through the aperture 16 and is connected to the irradiation means 36. - 特許庁

例文

ステンシルマスクに対して斜め方向から線状平行光を照射し、表面反射光を撮像した撮像画像における非反射像により開口部の形状を測定することにより開口部の欠陥を検査するステンシルマスク欠陥検査方法および装置を提供する。例文帳に追加

Disclosed is the stencil mask defect inspecting method and device which irradiates the stencil mask obliquely with linear parallel light and measures the shape of the opening 8 using a non-reflection image of an image obtained by imaging surface reflected light, so as to inspect a defect of the opening 8. - 特許庁

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