「開口照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

第２の反射板３０が器具本体２０の開口部２０ａよりも小さいので、光源２１からの照射光の一部は、第２の反射板３０に遮られることなく、前方に照射される。例文帳に追加

A second reflecting plate 30 is smaller than an opening portion 20a of a luminaire body 20, whereby part of illumination light from a light source 21 is emitted to the front side without being shielded by the second reflecting plate 30. - 特許庁

第２遮光層６６は、第２照射光に対して遮光性を有し、かつ第１照射光に対して透過性を有すると共に、コンタクトホールに対応した開口部７０を有する。例文帳に追加

The second light-shielding layer 66 has light-shielding property against second irradiation light, transmitting property for the first irradiation light and an aperture 70 corresponding to the contact hole. - 特許庁

光源部30の複数の発光部32が並ぶ方向に対して斜めとなる方向に開閉し、器具本体12の照射開口23から外部へ照射する光を遮光可能とするバンドア14を備える。例文帳に追加

The lighting fixture includes barn doors 14 which open and close in a direction inclined to the direction in which the plurality of light-emitting parts 32 of the light source 30 are aligned and can shade light which is irradiated to the outside from the irradiation opening 23 of the fixture body 12. - 特許庁

ガラス窓を介することなく、被処理物に直接エキシマ光を照射するための開口を有するランプハウス内にエキシマランプを配置するエキシマランプ照射装置において、エキシマランプの表面温度を１００〜１８０℃に設定する。例文帳に追加

A surface temperature of the excimer lamp is set to 100-180°C. - 特許庁

このインジケータは、開口内で月の照射されない部分と照射される部分を表している暗部ゾーン（４）と明部ゾーン（５）の間にＳ字状の分離線（６）を含んでいる。例文帳に追加

This indicator contains an S-shaped separation line (6) between the dark space zone (4) and a light space zone (5) in the aperture, respectively, corresponding to the non-irradiated part and the irradiated part of the moon. - 特許庁

クリーナ非使用時にヘッドランプ２からの光Ｌをノズル１１に照射する光照射手段２７の開口部２８と光透過部２９とを設ける。例文帳に追加

This cleaner device is provided with an opening part 28 and a light transmitting part 29 of a light irradiation means 27 for radiating light L from a headlight 2 to the nozzle 11 when a cleaner is not used. - 特許庁

前記スライドドア７を開扉したときに、前記光源３３からの照射光３７を下方に向けて、少なくともドア開口部９の室外側を照射するように構成している。例文帳に追加

The lighting structure of the slide door has such a configuration that at least the outside of a room of the door opening section 9 is lit by allowing a lighting beam 37 from the light source 33 to be in a lower direction when opening the slide door 7. - 特許庁

このキャップ投入部７に隣接し、且つ給水ボックス３内に収納された容器２開口部上部には紫外線（２５３．７ナノメートル）を照射する紫外線照射部１０が取り付けられている。例文帳に追加

A UV-ray radiating part 10 for radiating UV rays (253.7nm) is arranged adjacently to the cap throw-in part 7, and attached onto the upper part of the opening part of the vessel 2 stored in the water supply box 3. - 特許庁

この開口部は、露光制御プログラムをコントローラ１４が実行すると、照射領域に応じて照射時間を任意に設定可能に開閉状態が部分的に制御される。例文帳に追加

A controller 14 executes an exposure control program to partially control the opening/closing state of the opening section such that an irradiation time is optionally settable according to the irradiation area. - 特許庁

また光源２を携帯用収納具の外側（外皮）８の一部にとりつける、もしくは携帯用収納具の外側（外皮）に開口部をつくり内部より外部を照射できるようにした光源をとりつけ外部を照射できるようにした。例文帳に追加

In another way, an opening part is formed at the outside (outer leather) of the portable storage tool, and a light source which lights up the outside from the inside is fixed so as to be able to light up the outside. - 特許庁

ホルダ本体５１は、一面に蛍光ランプ２３からの照射光を照射する開口部２ｄが形成された器具本体２に螺合される取付けねじ５７が通されるねじ通孔を有する。例文帳に追加

The holder body 51 has a screw through-hole, penetrated with an attachment screw 57 screwed to the luminaire body 2, formed with the opening part 2d for emitting irradiation light from a fluorescent lamp 23 on one side face. - 特許庁

帯電した電荷量は照射範囲１３に存在するステンシルマスク１７に依存し、帯電した電荷量を測定することで照射範囲１３のステンシルマスクの開口状態を検査することができる。例文帳に追加

An electrified charge amount depends on the stencil mask 17 existing in the irradiation range 13, and the electrified charge amount is measured, thereby inspecting the opening state of the stencil mask in the irradiation range 13. - 特許庁

第２開口部１１３の照射領域を短手方向に移動させ、レーザ光を照射して、先に形成した第１結晶化領域の直角方向の結晶を、更に成長させる。例文帳に追加

The projecting area of the second opening 113 is moved into the short side direction to irradiate the laser beams and grow further the crystal in a direction orthogonal to the first crystallizing area. - 特許庁

電子デバイスの製造工程に、レ−ザ−照射領域が開口されたマスクとしてのＳｉ_3 Ｎ_4 膜２を形成する工程、エキシマレ−ザ−４を照射することによりレ−ザ−照射領域に金属不純物ゲッタリング用の格子欠陥８を導入する工程を含ませる。例文帳に追加

The method of manufacturing an electronic device comprises steps of forming an Si3N4 film 2 as a mask having opened laser irradiation regions, and introducing lattice defects 8 for gettering metal impurities in the laser irradiation regions by irradiating it using an excimer laser 4. - 特許庁

レーザ照射制御部８６ｂは、磁気共鳴画像の撮像のために架台部の開口部内に被検体が移動された状態で、シミュレーションデータを参照してｄＢ／ｄｔが基準値以上となる箇所に対してレーザ照射部１５ａ〜１５ｆからレーザが照射されるように制御する。例文帳に追加

A laser radiation control part 86b performs control to radiate lasers from the laser radiation parts 15a-15f to the places where the dB/dt is a reference value or more while referring to the simulation data in a state where the subject is moved into the opening of the gantry in order to image the magnetic resonance image. - 特許庁

開口部Ａ１が形成されたマスク４を使用することにより、照射面における走査方向の照射エネルギー積分値が走査方向と直角の方向に対して凹型の分布を有するレーザ光を照射してブラックマトリクス転写層をカラーフィルタ基板に転写させる。例文帳に追加

A black matrix transfer layer is transferred to a color filter substrate by using a mask 4 formed with an aperture A1 and irradiating the transfer layer with a laser beam that the integrated value of the irradiation energy in a scanning direction on an irradiating surface has a distribution of a concave shape in a direction perpendicular to the irradiation direction. - 特許庁

主光源体については従来のものを使用しつつ凹面鏡の開口寸法のみを小さくし、かつ、主光源体から放射された光を無駄なく所定の照射点あるいは照射範囲に向けて照射できる発光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light-emitting device capable of light-reducing the aperture dimensions of a concave mirror, while using a conventional type as a main light source body and irradiating light emitted from the main light source body to a designated irradiating point or to a designated irradiating range. - 特許庁

そして、２枚目の放射線画像Ｇ２の撮影時に、１枚目の放射線画像Ｇ１において特定された関心領域に対応する領域にのみ放射線が照射されるように、照射野設定部２ｄがコリメータ２２の開口を調整して照射野を設定する。例文帳に追加

Then, the radiation field is set by adjusting an opening of a collimator 22 by a radiation field setting part 2d so that a radiation ray is irradiated to only a region corresponding to the concerned region which is specified by the first radiation ray image G1 at the photographing of the second radiation ray image G2. - 特許庁

記録再生が光照射によってなされ、光照射が開口数１以上の集光レンズを通じてなされ、記録ピットが記録される光記録媒体であって、光照射側から、少なくともシリコン層３、シリコン酸化物層２がこの順に形成される構成とする。例文帳に追加

In the optical recording medium wherein recording and reproducing are performed by optical irradiation, optical irradiation is performed through the condenser lens having a numerical aperture of 1 or more and the recording pits are recorded, at least a silicon layer 3 and a silicon oxide layer 2 are formed in this order from an optical irradiation side. - 特許庁

放射線照射制御装置１２は、設定された放射線源１１１の位置及び放射線照射野サイズに基づいて放射線源１１１の位置及び照射野絞り１１２の開口範囲を調整し、制御部２１からの制御に応じて本撮影を行う。例文帳に追加

The radiation irradiation controller 12 adjusts the position of the radiation source 111 and the opening range of an irradiation field diaphragm 112 on the basis of the position of the radiation source 111 and the radiation irradiation field size that are set, and performs main image capturing corresponding to control from a control part 21. - 特許庁

レーザノズルは、テーパー状の開口部２３と、レーザビームＬＢの多重反射を行う小径のストレート部２５と、上記ストレート部２５の径よりはノズル照射口２７が大径になるようにノズル照射口側が次第に大径になる照射口側テーパ部２９とを備えてなるものである。例文帳に追加

A laser nozzle is provided with a tapered opening part 23, the straight part 25 having the small diameter through which the laser beams LB are multiply reflected, and an irradiating port side tapered part 29 the nozzle irradiating port side of which becomes large in diameter gradually so that the diameter of a nozzle irradiating port 27 becomes larger than the diameter of the above described straight part 25. - 特許庁

蛍光計測におけるS/B比向上に必要な励起光照射領域縮小化技術であるナノ開口照射検出方式において，励起光照射領域を含む反応槽内部の表面に凹凸があるため，前記領域の溶液交換効率が低下する。例文帳に追加

To solve a problem where solution exchange efficiency in an excitation light irradiation region is degraded because unevenness is present on a surface in a reaction tank including the excitation light irradiation region, in a nano-opening irradiation detection method being an excitation light irradiation region reducing technique required for improving an S/B ratio in fluorescence measurement. - 特許庁

膨張にて２本のイメージガイドの先端部の視野方向を変化させるバルーン10を備えた立体視スコープに於て、先端照射部17からレーザー光Ｌを照射可能なレーザーファイバ15の先端照射部17をバルーン10の基端開口部から挿入する。例文帳に追加

In the stereoscopic scope provided with the balloon 10 which is inflated to vary the directions of fields of view from the ends of two image guides, a laser fiber 15 which can irradiate a laser beam L from its irradiating end portion 17 has its irradiating end portion 17 inserted through an opening in the rear end of the balloon 10. - 特許庁

電子放出素子１０から放出される電子ビームの電子ビーム照射領域６が、蛍光体ドット２０より小さく、電子ビーム照射領域６内に黒色部材３の一部が位置し、開口８の少なくとも一部は、電子ビーム照射領域６の外側に位置している。例文帳に追加

An electron beam exposure area 6 of an electron beam discharged from the electron discharge element 10 is smaller than the fluorescent material dot 20, part of the black member 3 is within the electron beam exposure area 6, and at least part of the opening 8 is outside the electron beam exposure area 6. - 特許庁

レーザ装置２２と照射光学系２３は、ビアホール７の開口部に着弾した充填用液滴Ｆｆに充填用レーザＬｆを照射し、充填用液滴Ｆｆを充填用レーザＬｆの照射領域からビアホール７の内方に向けて流動させる。例文帳に追加

A laser device 22 and an irradiation optical system 23 irradiate a filling liquid droplet Ff landed on an opening of a via hole 7 with a laser beam Lf for filling to allow the filling liquid droplet Ff to flow from the region irradiated by the laser beam Lf for filling toward the inside of the via hole 7. - 特許庁

殺菌手段として、患者コネクタ装着部とバッグコネクタ装着部との間に配置された紫外線照射灯を有し、バッグ交換時に患者コネクタの開口端から紫外線照射灯を挿入して、前記コネクタ内部を照射することを特徴とする腹膜透析用自動交換装置例文帳に追加

This automatic exchanger for peritoneal dialysis has a UV irradiation lamp arranged between a patient connector mounting section and a bag connector mounting section as a sterilizing means and irradiates the inside of the connector by inserting the UV irradiation lamp into the patient connector from its opening end in exchanging the bag. - 特許庁

開口部幅が同じ開口部毎に、マスク端での水素プラズマ濃度が所定の濃度となる条件でエッチング（メタン／水素プラズマ照射）を行う。例文帳に追加

Etching (methane/hydrogen plasma irradiation) is performed for each opening having the same opening width, in a condition where a hydrogen plasma concentration at a mask end becomes a predetermined concentration. - 特許庁

遮蔽板３の開口３ａは、クラスターイオン源１から照射されるクラスターイオンが３０度以下の入射角でレンズ４に入射する領域にのみ開口する。例文帳に追加

The opening 3a of the shielding plate 3 is opened only at a region on which cluster ions emitted from a cluster ion source 1 are made incident to the lens 4 at an incidence angle of ≤30°. - 特許庁

光ピックアップ２０は、物体光ビーム４０ａを照射するときの対物レンズ３０の見かけ上の開口数ＮＡａよりも大きい開口数ＮＡｒを有する対物レンズ３０を用いている。例文帳に追加

An optical pickup 20 uses an objective lens 30 having a numerical aperture NAr larger than a seaming numerical aperture NAa of the objective lens 30 when being irradiated by an object optical beam 40a. - 特許庁

レジストパターン１２を除去した後、窒化シリコン膜１１上に、開口部１３ｂ、及び被イオン照射部１１ｃ上に位置する開口部１３ａそれぞれを有するレジストパターン１３を形成する。例文帳に追加

After a resist pattern 12 is removed, a resist pattern 13 having an opening 13b and an opening 13a arranged on the ion irradiated part 11c is formed on the silicon nitride film 11. - 特許庁

そして、モニタリング用開口部１３１ａへ光を照射して、モニタリング用開口部１３１ａからの反射光による反射干渉波形をモニタリングしながら、第２マスクを用いたドライエッチングを行う。例文帳に追加

While the reflection interference waveform caused by light reflected from the monitoring aperture 131a is monitored by radiating the light to the monitoring aperture 131a, dry etching is conducted using a second mask. - 特許庁

（４）開口部の位置がずれていれば、例えばマスクシート１２にレーザー１８を照射する等の手段により、マスクシート１２を収縮させて開口部の位置を移動させる。例文帳に追加

(4) If the positions of the openings are shifted, the mask sheet 12 is shrunk by a means, such as irradiation of the mask sheet 12 with a laser 18, to move the positions of the openings. - 特許庁

その後、前記絶縁性基板１側からレーザを照射することにより、裏面電極２の一部、及び半導体層３を貫通する開口溝を形成し、該開口溝を形成した後に透明電極４を積層する。例文帳に追加

The method further comprises the steps of thereafter irradiating the substrate 1 side with a laser, thereby forming an opening groove which passes through the part of the electrode 2 and the layer 3, and laminating a transparent electrode 4 after the groove is formed. - 特許庁

電極開口６は、レーザー光の照射等で形成され、この電極開口６の部分にハンダボールがマウントされて、マザー基板とハンダ接続される。例文帳に追加

The openings 6 are formed by irradiating the resist 4 with a laser beam, etc., and solder balls are mounted on the openings 6 for connecting the module substrate 2 to a mother substrate by soldering. - 特許庁

安全カバー３０には、電極２３に対応する位置にそれぞれ円形の開口３１が設けられており、電極２３から発せられたイオンは、この開口３１を通過して帯電物に照射される。例文帳に追加

In the safety cover 30, a circular opening 31 is each provided at a position corresponding to the electrode 23, and the ions generated from the electrode 23 passes through the opening 31 to be radiated to the charged object. - 特許庁

表面開口欠陥部２の内部に残存した浸透剤３を、紫外線を照射することにより蛍光発光させ、その形状を外観的に観察することにより、表面開口欠陥２を容易かつ確実に検出することができる。例文帳に追加

The penetrant 3 remaining in the surface opening flaw 2 is irradiated with ultraviolet rays to emit fluorescence, so that the shape thereof is observed externally to easily and certainly detect the surface opening flaw 2. - 特許庁

したがって、ブランキング中でも成形開口は常に非ブランキング時と同様に照射されており、成形開口が熱サイクルを受けることがなく熱的に安定する。例文帳に追加

Thus, the form opening 13 thermally stabilizes because the form opening 13 is irradiated at blanking the same as during non-blanking at all times and the form opening 13 does not undergo a heat cycle. - 特許庁

検出器１９が電子線通過開口１９ｃの周囲に面状に配置された検出面１９ａを有し、開口１９ｃが帯状の照射領域に対応する形状である。例文帳に追加

The detector 19 has a detecting surface 19a arranged in plane in a periphery of an electron beam passing aperture 19c, and the aperture 19c has a shape corresponding to a band-shaped irradiation area. - 特許庁

光軸調整用検出機能を有する微小開口および光記録ヘッドにおいて、微小開口上に照射されているレーザービームの位置を大がかりな光学系を付加することなく、容易に検出することを可能とする。例文帳に追加

To easily detect the position of a laser beam thrown onto a minute aperture without adding a large-scale optical system. - 特許庁

該樹脂層上に、開口部を有するマスクを所定位置に位置決めして配置し、さらに、マスク上に紫外線を照射することで、開口部に露出されている樹脂層の部分を露光させる。例文帳に追加

A mask having an opening is positioned and arranged at a specified position on the resin layer, and further the mask is irradiated with ultraviolet rays to expose to light the resin layer which is exposed from the opening. - 特許庁

半導体層は、非開口領域内に配置され、非開口領域に対する半導体層の相対位置が調整されることにより、半導体層に対する表示光の照射光量が複数の半導体素子間で一定化されている。例文帳に追加

The semiconductor layer is arranged in the non-aperture area and, by adjusting the relative position of the semiconductor layer to the non-aperture area, the irradiating light quantity of display light to the semiconductor layer is made constant among a plurality of semiconductor elements. - 特許庁

コンデンサ電極７１ａ〜７３ａの容量をトリミングするには、電極Ｐ１〜Ｐ３，３１を覆って他の部分を開口部５１としたマスク５０を積層基板３０の表面に載せて該開口部５１からレーザを照射する。例文帳に追加

When trimming the capacitance of the capacitor electrodes 71a-73a, a mask 50 which covers the electrodes P1-P3, 31 and has an opening 51 for not covering the other portions is placed on the surface of the laminated substrate 30 and the capacitor electrodes is irradiated with the laser from the opening 51. - 特許庁

オプティカルインテグレータの近傍に開口絞りを設けた照明光学系において、開口絞りを原因とする被照射面の照度均一性の低下を防止する。例文帳に追加

To provide an illumination optical system which is provided with an aperture-stop near an optical integrator and in which the degradation in the uniformity in the illuminance of a surface to be irradiated occurring in the aperture diaphragm is prevented. - 特許庁

開口部幅が同じ開口部毎に、マスク端での水素プラズマ濃度が所定の濃度となる条件でエッチング（メタン／水素プラズマ照射）を行う。例文帳に追加

For each opening having the same opening width, etching (irradiation of methane/hydrogen plasma) is carried out, under the condition such that a hydrogen plasma concentration at a mask end becomes a predetermined concentration. - 特許庁

第１のフォトレジスト４２の開口部４２ａを介してレーザビームを照射して、開口部４２ａに対応する領域の低誘電率膜配線積層部６を除去する。例文帳に追加

The low dielectric constant film wiring lamination part 6 in a region corresponding to the opening 42a of the first photoresist 42 is irradiated with a laser beam through the opening 42a to be removed. - 特許庁