「電子回折」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

デバイワラー因子に関する知識は、温度Tにおいて電子回折によって測定された構造因子を温度Tにおけるその対応するX線の構造因子に変換するために不可欠である。例文帳に追加

A knowledge of the Debye-Waller factor is essential in order to convert a structure factor measured by electron diffraction at temperature T into the corresponding X-ray structure factor at temperature T.  - 科学技術論文動詞集

かなりの(量の)研究が、(ある動力学的補正を伴った)主に運動学的理論に基づき、「点状の」または「環状の」電子回折図形を使って、結晶構造の解析について行われた。例文帳に追加

A considerable amount of work has been conducted on the analysis of crystal structures using point or ring electron diffraction patterns, based mainly on the kinematical theory (with some dynamical corrections).  - 科学技術論文動詞集

単結晶試料又は配向性が高い多結晶試料であっても、電子後方散乱回折像のコントラストを改善することができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method capable of improving a contrast of an electron backscattering diffraction image, even in the case of a monocrystal sample or a polycrystal sample having high orientation. - 特許庁

その組織構造は、Ｘ線回折によって金属ＳｉおよびＳｉ化合物が観察されず、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えたものである。例文帳に追加

The texture structure thereof has the texture characteristics that the metal Si and Si compound cannot be observed by X-ray diffraction and the granular texture cannot be observed by a transmission electron microscope(TEM). - 特許庁

得られた再生処理後の触媒について、金属種のＸ線回折分析及び／又はＸ線光電子分光分析を行い、触媒の回収の要否を判定する。例文帳に追加

The regenerated catalyst is subjected to an X-ray diffraction analysis and/or an X-ray photoelectron spectroscopic analysis of metal pieces to judge whether the regenerated catalyst is to be recovered. - 特許庁

電子ビーム描画装置のステージの移動誤差が回折格子に与える影響を小さくできる分布帰還型半導体レーザを作製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a distributed feedback semiconductor laser capable of reducing the effect of movement error of the stage of an electron beam drawing device on a diffraction grating. - 特許庁

基板２上に、Ｘ線回折においてダイヤモンドのパターンを有し、粒径が５nmから１０nmである複数のダイヤモンド粒子より構成された電子放出膜１を形成する。例文帳に追加

The electron emission film 1 having an X-ray diffraction pattern of diamond, constituted by a plurality of diamond particles with the size of 5 nm to 10 nm is formed on a substrate 2. - 特許庁

干渉縞や回折格子パターンは、コンピュータによる演算に基いて生成された画像データに基き、電子線描画装置によって描画される。例文帳に追加

The interference fringe and the diffraction grating pattern are plotted by an electron beam lithographing device based on an image data generated by calculation by a computer. - 特許庁

物質同定部４は、電子線回折像解析部３から送信された格子面間隔データ、ＥＤＸ分析部２から送信された元素データをもとに検索用データベースを検索して物質を同定する。例文帳に追加

The substance identification part 4 retrieves the database for the retrieval to identify the substance, based on the lattice spacing transmitted from the electron beam diffraction image analytical part 3 and an element data transmitted from the EDX analytical part 2. - 特許庁

位相回復法を適用した電子顕微鏡等において、回折像の画素サイズｐ、カメラ長L、照射ビームの波長λにより決まる画像サイズと試料照射領域が一定関係になるようにする。例文帳に追加

In the electron microscope applying a phase retrieval method, an image size decided by a pixel size p of a diffraction image, a camera length L, and a wavelength λ of irradiation beams and a sample irradiation area are set to have a constant relation. - 特許庁

他工程にて蓄積した加工誤差を解消する補正を行い、所定の光学的性能が得られる回折構造を描画することができる電子ビーム描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography capable of performing correction of canceling working errors accumulated in other processes and plotting a diffraction structure by which a prescribed optical performance is obtained. - 特許庁

電子ビーム露光装置を用いて回折格子のためのパターンを描画する際に良好なアライメントが可能になる半導体光素子を作製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing optical element capable of proper alignment in marking a pattern of a diffraction grating by means of an electron beam lithographic device. - 特許庁

通常は、回折現象のため、電子線の強度分布は（ａ）に忠実に対応するような矩形分布とならず、（ｂ）のように所定の広がりを持った分布となる。例文帳に追加

Normally, intensity distribution of an electron beam is not of a rectangular distribution that faithfully corresponds to (a) because of diffraction phenomenon, but has a distribution containing a specified widening as in (b). - 特許庁

走査型電子顕微鏡にて観察した粒子形状が立方体状であり、かつレーザ回折散乱式粒度分布測定による累積５０％粒子径（Ｄ_５０）が１．０μｍ以上である酸化マグネシウム粉末。例文帳に追加

The magnesium oxide powder has a cubic particle shape when observed by a scanning electron microscope, and has a cumulative 50% particle diameter (D_50) of at least 1.0 μm by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method. - 特許庁

拡大像観察モードから回折像観察モードに切り替わった場合にエネルギ密度が大きなビームがカメラの受光面に入射することを防止しうる透過電子顕微鏡を実現する。例文帳に追加

To realize a transmission electronic microscope which can prevent beams having large energy density from entering into the light receiving surface of a camera when it is changed from an enlarged image observation mode into a diffraction image observation mode. - 特許庁

比較的簡単な阻止電場型エネルギー分析器により、ＲＨＥＥＤで発生する回折電子のエネルギー損失スペクトルを高いＳ／Ｎで計測可能とする。例文帳に追加

To measure an energy loss spectrum of a diffracted electron generated in RHEED, at a high S/N ratio, by a relatively simple blocking field type energy analyzer. - 特許庁

回折面アパチャー２２を通過した電子は、中間レンズ電極部３０内に形成された中間レンズ２８によって中間アパチャー３２に収束され、レンズ電極部４０内の後段の静電レンズ３８に向けられる。例文帳に追加

Electrons, passing through the diffraction plane aperture 22, are converged into an intermediate aperture 32 by an intermediate lens 28, formed in an intermediate lens electrode portion 30 and directed to a rear-stage electrostatic lens 38 in a lens electrode portion 40. - 特許庁

電子線回折モードにて、視野絞りの孔径を視野絞りの孔における像の拡大率によって除算した値を単位として、試料ステージを移動させる。例文帳に追加

A sample stage is moved at electron beam diffraction mode in a unity of a value obtained by dividing hole diameter of a visual field stop by an image magnifying power at the hole of the visual field stop. - 特許庁

関数による表現が困難な格子パターンを電子計算器により設計し、この格子パターンを表現する格子データを用いて回折型光学素子を製造する。例文帳に追加

A grating pattern which is difficult to express by functions is designed with a computer and the objective diffraction type optical element is produced, using grating data which express the grating pattern. - 特許庁

接着剤は、該化合物を含み、基板は、０．０１μｍ〜１０μｍの線幅の金属薄膜パターンを有し、ワイヤーグリッド偏光板、回折格子、電子デバイス用金属配線基板等に有用である。例文帳に追加

The adhesive contains the compound, and the substrate has a metallic thin film pattern having a line width of 0.01-10 μm and useful as a wire grid polarization plate, a diffraction grating, a metal-wired substrate for electronic device, etc. - 特許庁

コアロス電子を利用した元素分析法において、試料の厚さや密度によるartifactや、回折コントラストによるartifactの発生を抑制し得る元素分布観察方法及びその装置を提供する。例文帳に追加

To provide an element distribution observing method and a device therefor capable of suppressing the generation of artifacts caused by the thickness or density of a material and artifacts caused by diffraction contrast. - 特許庁

Ｃｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３゜）７．６、１４．５及び２６．７゜にピークを示す結晶型オキシチタニウムフタロシアニン及びそれを用いた電子写真感光体。例文帳に追加

The crystalline oxytitanium phthalocyanine shows peaks at 7.6, 14.5 and 26.7° Bragg angle 2θ(±0.3°) in the X ray diffraction spectrum for Cu-Kα line, and the compound is used for the electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

Ｃｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）＝８．６°、１１．４°、１５．７°及び２５．７°にピークを示す結晶型ジクロロスズフタロシアニン及びそれを用いた電子写真感光体。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor is prepared by using crystalline dichloro-tin phthalocyanine of which the X-ray diffraction spectrum with Cu-Kα ray has peaks at Bragg angles 2θ (±0.3°) of 8.6°, 11.4°, 15.7°, and 25.7°. - 特許庁

ここに、因子▲１▼は、電子回折パターンの一致度を示す因子であって、基本反射の点が完全一致であれば最大値をとり、基本反射の点がすべて不一致であれば最小値をとる。例文帳に追加

In this case, the factor (1) which is a factor for showing coincidence of this electron diffraction pattern becomes the maximum value when basic reflection points agree completely, and becomes the minimum value when all the basic reflection points disagree. - 特許庁

ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角１２．３°、２０．５°、２５．３°、及び、２８．３°にピークを示す結晶構造を有するピランスロン化合物を用いる電子写真感光体。例文帳に追加

This electrophotographic photosensitive member uses a Piransron compound, having a crystal structure showing peaks at the Bragg angles of 12.3°, 20.5°, 25.3°, and 28.3° in an X-ray diffraction spectrum that has CuKα as radiation source. - 特許庁

前記誘電体磁器組成物表面に存在する生成物のＸ線回折における最高ピーク強度と、前記誘電体磁器組成物の最高ピーク強度の比を０．０２〜１である電子部品とする。例文帳に追加

The electronic part has a ratio of 0.02-1 of a maximum peak intensity of X-ray diffraction of a product existing on the surface of the dielectric porcelain composite to that of the dielectric porcelain composite. - 特許庁

例えば、走査透過像の試料の結晶配列方向に連動して、電子線回折像を撮影するＴＶカメラの受光面を直接あるいは間接的に回転させる。例文帳に追加

For example, a light receiving surface of a TV camera for photographing the electron beam diffraction image is directly and indirectly rotated by operating in linking with the crystal arrangement direction of the sample of the scanning transmission image. - 特許庁

第1電子回路チップ12-1が具えている発光素子14-1の出力光が円偏光板16-1に入力されて円偏光に変換されて第1回折格子22-1に入力される。例文帳に追加

The output light of the light emitting element 14-1 that a first electronic circuit chip 12-1 has is input to the circularly polarizing plate 16-1, converted to circularly polarized light, and input to a first diffraction grating 22-1. - 特許庁

機械的強度を維持しつつ微細孔を形成することができ、ＴＥＭの制限視野電子回折像観察に好適な制限視野絞りプレート及びその製造方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a selected area aperture plate, a manufacturing method of the same and the like, in which a fine pore can be formed while maintaining mechanical strength, and which is suitable for observing a selected area electron diffraction image of a TEM. - 特許庁

発光素子の寸法が小さい場合にも、隣接するカラーフィルタを通過した光の回折による混色を抑えることが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供する。例文帳に追加

To provide a display device which suppresses color mixture caused by the diffraction of light passing through an adjacent color filter even when the sizes of light emitting elements are small, and to provide an electronic apparatus including the display device. - 特許庁

ナノビーム電子回折法の格子歪測定精度を向上し、結晶試料における局所領域の応力・格子歪を高精度に測定する。例文帳に追加

To provide a method and system for measuring lattice distortion that can improve accuracy in lattice distortion measurement of nanobeam electronic diffractometry to measure stress/lattice distortion of local domain in crystalline sample with a high degree of precision. - 特許庁

周期構造であると判定したら、電子線回折像、及び、制限視野像を、試料ステージの位置を含む観察条件、Ｘ線スペクトル等と共に１つのデータ群として保存する。例文帳に追加

When determined that it is a periodic structure, the electron beam diffraction image and a limited visual field image are preserved as one data group together with an observation condition including the position of the sample stage, an X-ray spectrum or the like. - 特許庁

Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。例文帳に追加

The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support. - 特許庁

液晶のような電気的表示装置とＬＥＤなどの発光帯域の狭い３原色に対応した照明光源と単層の回折光学面を有する接眼レンズからなる電子ビューファインダーであり。例文帳に追加

The electronic view finder is constituted of an electric display device such as a liquid crystal display, an illuminating light source corresponding to three primary colors whose light emitting band is narrow such as an LED, and the eyepiece having a diffraction optical surface of a single layer. - 特許庁

電子写真用感光体表面がわからみた結晶構造のＸ線回折で得られる面方位１１０の反射強度のピーク値に対する、面方位１０１の反射強度の比率が０．８以下とする例文帳に追加

A crystalline structure observed in the surface side of the electrophotographic photoreceptor by X-ray diffraction analysis exhibits a ≤0.8 ratio of the reflection intensity in a 101 direction of crystal plane to the peak reflection intensity in a 110 direction of crystal plane. - 特許庁

回折光学要素(50)を使用して矩形の放射パターンを有する光を生成する、電子フラッシュ、イメージング装置、及びフラッシュ光の生成方法。例文帳に追加

An electronic flash, an imaging device and a method for producing flashes of light use a diffractive optical element (50) to produce a flash of light having a rectangular radiation pattern. - 特許庁

導電性支持体３１上に少なくとも感光層３３を有する電子写真感光体において、前記感光層３３の最表面層３９がポリカーボネート樹脂とポリエステル樹脂の双方を含み、かつ前記ポリエステル樹脂は、少なくともＸ線回折における結晶性を有する結晶性ポリエステルであることを特徴とする電子写真感光体、当該感光体を用いた電子写真方法、電子写真装置、およびプロセスカートリッジ。例文帳に追加

An electrophotographic method, an electrophotographic apparatus and a process cartridge using the photoreceptor are also provided. - 特許庁

測定波長に応じて何れかの光電子増倍管４、５の検出出力を選択すると共に、選択された光電子増倍管４、５に所定波長光が導入されるように平面回折格子３３の回転角を制御する。例文帳に追加

According to a measured wavelength, a detection output from either of the photoelectron amplifier tubes 4, 5 is selected, while a turning angle of a plane diffraction grating 33 is controlled so that light with a predetermined wavelength is introduced into the selected photoelectron amplifier tube 4 or 5. - 特許庁

２つの電子線バイプリズムを光軸方向に２段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。例文帳に追加

By using two electron beam biprisms in two stages in the optical axis direction, not only the Fresnel diffraction can be avoided, but also the interference fringe spacing s and the interference region width W are independently controlled by controlling the respective electrode voltage of the electron beam biprism. - 特許庁

本発明は、基材の曲面構造に応じてオーバーハングした状態の回折構造の形状を構成することができ、かつ、より微細な格子ピッチにも対応することのできる電子ビーム描画方法及びその方法にて描画された基材並びに電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for electron-beam lithography by which a diffraction structure shape in a state overhung is formed according to the curved surface structure of a base material and a finer grating pitch is realized, and to provide a base material plotted by the same and electron beam lithographic equipment. - 特許庁

図２では、白石綿を浸漬した硫酸水溶液中に、入射エネルギー０．８ＭｅＶの電子線を照射することで、白石綿の構造が針状から粒状に変化することが、Ｘ線回折による結晶構造ならびに電子顕微鏡による表面構造の測定結果から確認できる。例文帳に追加

In Fig.2, the fact that the structure of chrysotile is changed from acicular ones to grains may be confirmed from the crystal structure determined by X-ray diffraction and measurement results of a surface structure determined by an electron microscope by irradiating a sulfuric aqueous solution in which the chrysotile is immersed with electron beams with an incidence energy of 0.8 MeV. - 特許庁

電子銃１１と、光源１００と、音響光学偏向素子１０３と、ポリゴンミラー１０５と、２次電子検出器２４と、音響光学偏向素子１０３の駆動周波数の変化が回折に与える影響を補正する補正手段と、を備えた静電潜像計測装置。例文帳に追加

An electrostatic latent image measurement apparatus comprises an electron gun 11, a light source 100, an acousto-optic deflection element 103, a polygon mirror 105, a second electron detector 24 and correction means which corrects the effect of changed drive frequency of the acousto-optic deflection element 103 on diffraction. - 特許庁

３８０〜５００ｎｍの波長を有する半導体レーザー光を照射される電子写真感光体であって、支持体及びその上の感光層を有し、該電感光層がガリウムフタロシアニン化合物またはＣｕＫα特性Ｘ線回折における回折角の２７．２#±０．２°に強いピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor is irradiated with semiconductor laser beams of 380-500 nm wavelength and provided on a substrate with a photosensitive layer containing gallium phthalocyanine or oxytitanium- phthalocyanine having an intense peak in a diffraction angle of 27.2±0.2° in the CuK α characteristic X-ray diffraction. - 特許庁

ＣｕＫα線によるＸ線回折スペクトルにおいて、ブラック角(２θ±０．２゜)２７．３゜に最大回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する感光体上に形成された静電潜像の電子写真方式による現像に用いられる磁性トナーであって、該磁性トナーが少なくとも下記条件（１）を満足する磁性体を含有することを特徴とする 磁性トナー。例文帳に追加

The magnetic toner is used for developing an electrostatic latent image, by an electrophotographic system, formed on a photoreceptor containing oxy-titanium phthalocyanine having the highest diffraction peak at 27.3° Bragg angle (2θ±0.2°) in an X-ray diffraction spectrum with CuKα rays. - 特許庁

少なくとも感光体及びトナーを用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が、ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２）２７．３゜に最大回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する感光層を有し、該トナーが体積平均粒径が３〜８μmであり且つ流動性指数が２０ｍｍ以下であることを特徴とする画像形成方法。例文帳に追加

In the method of forming an image which uses at least a photoreceptor and a toner, the electrophotographic photoreceptor has a photosensitive layer containing oxytitanium phthalocyanine, having the maximum diffraction peak at the Bragg angle (2θ±0.2) 27.3° in X-ray diffraction by CuKα line, and the toner has 3 to 8 μm volume average particle size and 20 mm or lower fluidity index. - 特許庁