「電子回折」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy. - 特許庁

常に回折像面を絞り位置に持って来ることができる低エネルギー反射電子顕微鏡を提供すること。例文帳に追加

To provide a low-energy reflection electron microscope, capable of positioning a diffraction image field in a diaphragm position at all times. - 特許庁

回折格子層内でのホールや電子の蓄積を抑制でき、発光効率を向上できる分布帰還型半導体レーザ素子を提供する。例文帳に追加

To provide a distributed feedback semiconductor laser device that can prevent the accumulation of a hole or an electron in a diffraction lattice layer and improve light emission efficiency. - 特許庁

高画素ＣＣＤを用いた電子スチルカメラにおいて、光の回折による影響が生じることなく鮮明な画像を検出する。例文帳に追加

To provide an electronic still camera which employs a high pixel density CCD, that detects sharp images, without being affected by diffraction of light. - 特許庁

反射高速電子回折観察を妨げない試料非固定式の試料ホルダー及びそれを使用した複合装置例文帳に追加

UNFIXED-TYPE SAMPLE HOLDER WHICH DOES NOT INTERFERE WITH REFLECTION HIGH-ENERGY ELECTRON DIFFRACTION OBSERVATION AND COMPOSITE DEVICE USING THE SAMPLE HOLDER - 特許庁

そこで、電子回折図形を観察し記録するステップにおいて、コンデンサレンズ絞り２に焦点が合うように中間レンズ１１を調整する。例文帳に追加

An intermediate lens 11 is adjusted so as to focus on the condenser lens diaphragm 2 in the step to observe and record electronic diffraction diagram. - 特許庁

電子線回折像から、メインスポットを正確に特定し、メインスポットの位置を正確に特定して、スポット間距離を計測する。例文帳に追加

To specify a main spot from an electron beam diffraction image precisely to determine the position of the main spot and then measure a distance between spots. - 特許庁

微小領域において格子定数の６つのパラメータ全てを測定できる収束電子回折測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a convergence electron diffraction measuring method capable of measuring all of six parameters of lattice constants in a microregion. - 特許庁

本発明は、電磁波の反射や回折が生じる、例えば、電子機器の筐体内の無線通信に適用できる。例文帳に追加

This invention can be applied to wireless communication in the housing of electronic apparatus, for example, which causes the reflection or diffraction of electromagnetic wave. - 特許庁

フエムト秒領域での試料の分子構造の変化の実時間追跡を可能にすることができる超短パルス電子回折装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ultra-short-pulse electron diffraction device for tracking the change in the molecular structure of a sample in a femtosecond region in real time. - 特許庁

そして、電子回折図形Ｄ_ｘｙ毎に求めた磁区構造画像データＭ_ｘｙに基づいて磁区構造画像を得る。例文帳に追加

Thus, the magnetic domain structural image is obtained on the basis of the magnetic domain structural image data M_xy calculated at each electron diffraction figure D_xy. - 特許庁

電子スキャンプローブを使用し、ＴＯＦＤ法における回折波の検出性を向上させたサイジング超音波探傷装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sizing ultrasonic flaw detector improved in detectability of diffracted wave in TOFD process by use of an electronic scan probe. - 特許庁

マスク材料上にレジストを塗布した後に電子ビーム露光法により回折格子の作製マスク用のレジストパターン１４３を作製する。例文帳に追加

Resist is applied on the mask material layer, and then a resist pattern 143 for a mask for producing a grating using electron-beam exposure. - 特許庁

また、例えば、複数の投射レンズに通電する電流を変化させ、電磁レンズの作用によって電子線回折像の方向を変化させる。例文帳に追加

Further, the direction of the electron beam diffraction image is changed with an action of an electromagnetic lens, for instance, by changing current conducted to a plurality of projection lenses. - 特許庁

回折光の到達角度範囲を均一にすることが可能な電気光学装置及び電子機器を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrooptical device for uniforming an arrival angle range of diffracted light, and to provide electronic equipment. - 特許庁

回折光による画像劣化を効果的に防ぐことのできる光学素子及びそれを用いた光学系、電子機器。例文帳に追加

To provide an optical element that can effectively prevent degradation in an image by diffracted light, and to provide an optical system and an electronic apparatus using the element. - 特許庁

試料に電子線を収束させて照射し、ディスク状の回折図形を得る収束電子回折法において、透過ディスク内に現れたHOLZラインの交点間の距離から、結晶の格子定数６つ（a、b、c、α、β、γ）全てを10nm以下の微小領域から測定することを可能にする。例文帳に追加

In this convergence electron diffraction method for acquiring a disc-shaped diffraction figure, by making electron beams converge and irradiate to a sample, all of six (a, b, c, α, β, γ) lattice constants of a crystal can be measured from the microregion smaller than 10 nm, from the distance between the intersection points of HOLZ line appearing in a transmission disc. - 特許庁

又、第２表示手段２９に、試料５に照射される電子線，電子線の照射により試料５から発生し分光結晶６に向かうＸ線及び分光結晶６で回折しＸ線検出器７に向かう回折Ｘ線をグラフィルカルに表示，非表示出来るように成してある。例文帳に追加

An electron beam irradiated to the sample 5, an X-ray generated from the sample 5 by an irradiation of the electron beam and directed to the spectral crystal 6 and a diffracted X-ray diffracted at the spectral crystal and directed to the X-ray detector 7 can be graphically displayed or not displayed on tee second display means 29. - 特許庁

透過電子線３ａはスリット６を介して画像検出装置８に入射され、画像検出装置８は、入射された透過電子線３ａによって電子線回折像を得る。例文帳に追加

The transmitted electron beam 3a is incident on an image detector 8 through a slit 6 and the image detector 8 obtains an electron beam diffraction image by the incident transmitted electron beam 3a. - 特許庁

回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器では、試料表面１０から放出される電子が取り込み口１６を介して静電型前段の電子レンズ１８に入射される。例文帳に追加

The angle resolving electron spectroscope of the diffraction plane aperture transmission energy control type allows electrons emitted from the surface of a sample 10 to be injected into a front-stage electrostatic lens 18 via an introducing port 16. - 特許庁

４）本膜を透過型電子顕微鏡により像、電子回折図形および電子エネルギー損失分光法スペクトルを観察、解析し、従来にない新しい構造と組成を有する極薄単離膜が生成していることを確認する。例文帳に追加

(4) It is confirmed that the ultra-thin isolation membrane having an unprecedented new structure and composition is formed by observing and analyzing images, electron diffraction diagrams and electron energy loss spectroscopy spectrums of the membrane by use of a transmission electron microscope. - 特許庁

実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。例文帳に追加

To provide an observation technology by a phase retrieval type electron microscope, making the intensity distribution of a parallel electron beam with a microscopic diameter in measuring a real image and an electron diffraction pattern bright and uniform. - 特許庁

透過型電子顕微鏡５００の複数の光学素子を用いることにより非散乱電子ビームを偏向して、回折平面に配置されたコントラスト向上素子５１８に該電子ビームが照射されないように調節する。例文帳に追加

Using a plurality of optical elements in a transmission electron microscope 500, an unscattered electron beam is adjusted to deflect to prevent incidence of the electron beam onto a contrast enhancing element 518 disposed in the diffraction plane. - 特許庁

そして、内方部材４１、外方部材４３及び転動体４２のうちの少なくとも１つが、電子顕微鏡法によって得られた電子回折図形上で、隣り合う母相の回折斑点の略中心を結ぶ仮想線上から逸れた位置に回折斑点が存在する新相２２を有するチタン材料から成っている。例文帳に追加

At least one of the inward member 41, the outward member 43 and the rolling element 42 is made of the titanium material having the new phase 22 that a diffraction spot is present at a position deviating from that on a virtual line connecting together almost the centers of diffraction spots of adjacent parent phases on an electron diffraction pattern obtained by electron microscopy. - 特許庁

この静電レンズの回折面には、角度制限アパチャーが配置され、電子レンズによって集光された電子がアパチャーの通過口を介して電子のエネルギーを分析する為の電子アナライザーに導入され、そのエネルギーが解析される。例文帳に追加

The diffraction plane of the static lens is provided with an angle-limiting aperture, which electrons converged by the electron lens are introduced via an aperture passage port to an electron analyzer for analyzing electron energy to be analyzed. - 特許庁

本発明の多孔質材料の構造解析方法は、小角電子線散乱により多孔質材料の電子線回折像の中央部に現れる小角電子線散乱部分を結像させることで小角電子線散乱像１５を形成することを特徴とする。例文帳に追加

A method for analyzing the structure of a porous material allows small angle electron beam scattering to form a small angle electron beam scattering image 15 through image formation of a small angle electron beam scattering portion emerging at the central part of the electron beam diffraction image of the porous material. - 特許庁

その本は最近の進展に関する議論、特に収束電子回折、電子線トモグラフィー、ホログラフィーおよび、結晶格子の高分解能の分野を含む。例文帳に追加

The book includes discussion of recent progress, especially in the area of convergent-beam electron diffraction, electron tomography, holograpy and the high resolution of crystal lattices.  - 科学技術論文動詞集

この静電レンズの回折面には、角度制限アパチャーが配置され、電子レンズによって集光された電子がアパチャーの通過口を介してその運動エネルギーを制御する第２の静電レンズに入射される。例文帳に追加

A diffraction plane of the electrostatic lens is provided with an angle-limiting aperture through which electrons converged by the electrostatic lens are injected via an aperture passage port into a second electrostatic lens for controlling the kinetic energy. - 特許庁

試料を交換したときにおいて、回折像面と中間像面の位置修正を効率良く行うことのできる電子光学システム及び電子顕微鏡を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an electron optical system and an electron microscope capable of efficiently correcting positions of a diffraction image surface and a medium image surface when replacing samples. - 特許庁

マルチダクト電子消音システムの下流側に吸音ダクトを設置することなく、２次音の回折等による消音効果の低下を防止できるマルチダクト電子消音システムを提供する。例文帳に追加

To provide a multi-duct electronic muffling system in which deterioration in muffling effect caused by diffraction of secondary sound, etc., is prevented without installing a sound absorbing duct on the downstream side from the system. - 特許庁

その露出させた面に対し、ＴＥＭにより電子線を照射して、その強誘電体膜のＴＥＭ像や電子線回折像の取得、元素組成分析等を行う（ステップＳ２）。例文帳に追加

The exposed surfaces are irradiated with an electron beam by a TEM (Transmission Electron Microscope) to acquire a TEM image and an electron-beam diffraction image of the ferroelectric film, and element composition analysis etc., is carried out (step S2). - 特許庁

結晶表面での反射高速陽電子回折を観測するための陽電子ビームの形成技術であり、表面評価法の開発に関わる技術分野に属する。例文帳に追加

To provide a technique for forming positron beams for observing reflected fast positron diffraction on a crystal surface, belonging to a technical field related to the development of a surface evaluation method. - 特許庁

電子ビームの走査方向に対して格子の方向を水平方向になるように一次元回折格子を配置させ、かつ格子のピッチ寸法に一致するように電子ビーム走査を垂直方向に移動させながら水平に走査する。例文帳に追加

A one-dimensional diffraction grating is positioned such that the direction of the grating is horizontal to the scanning direction of the electron beam, and the electron beam is scanned horizontally while shifting the scanning vertically so as to coincide with the pitch dimension of the grating. - 特許庁

電子黒板の筆記面１０のベースとなる折り曲げ可能な背面パネル９０を有する電子黒板であって、毎回反対方向へ奇数回折り曲げることによって折り畳める背面パネル９０を備えた構成とする。例文帳に追加

The electronic blackboard has a foldable back panel 90, which can be folded through the odd-numbered foldings under the condition that the folding direction of each one fold is opposite to that of the other fold and which acts as the base of its writing surface 10. - 特許庁

３方向照射と空気中電子流の疑似回折現象とにより、電子線透過不能部分の直接照射と支持部材の存在による影の発生を実質的に回避することができる。例文帳に追加

Then by the radiation in the three directions and a pseudo diffraction phenomenon of the electron flow in the air, direct radiation to the part which electron rays can not permeate and a shadow generation by the existence of a supporting member can be avoided practically. - 特許庁

また、その組織構造は、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。例文帳に追加

Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM). - 特許庁

本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを用いた、直接描画による回折格子の形成方法に係り、さらに詳しくは、描画装置のビーム照射位置制御分解能によらず、任意の空間周波数の回折格子を精度良く描画する方法に関するものである。例文帳に追加

To provide a method of producing a diffraction grating by direct plotting using charged particle beam such as electron beam or ion beam and in detail, a method of precisely plotting the diffraction grating having an optional spatial frequency without depending on beam irradiation position control resolution of the plotting device. - 特許庁

回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。例文帳に追加

To manufacture a lens molding die capable of forming a diffraction structure for aberration correction in an optical lens without causing deterioration of diffraction efficiency or deterioration of a product value, and an optical element molding die for an optical aberration correction element or the like by using drawing by the electron beam drawing device. - 特許庁

その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。例文帳に追加

The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM). - 特許庁

回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズの集光面側に収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。例文帳に追加

To manufacture a lens mold with which a diffraction structure for aberration correction can be formed on the light converging surface side of an optical lens and further an optical element mold for an optical aberration correcting element etc., without decrease in diffraction efficiency nor a decrease in product value by using an electron beam drawing device. - 特許庁

回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。例文帳に追加

To produce a lens molding die capable of forming a diffraction structure for correcting aberration on an optical lens without causing the reduction in diffraction efficiency and the reduction in a product value, and further, to produce a molding die for an optical element such as an optical aberration correction element using drawing by an electron beam drawing system. - 特許庁

プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、金属膜の広角Ｘ線回折によって得られる（１１１）結晶面を示す回折ピークの半値幅が１．５°以下であることを特徴とする電子部品用金属膜転写フィルム。例文帳に追加

This metallic film transfer film for an electronic component has such structure that a mold releasing layer and a metallic layer are made in this order on the plastic film, and the half-value width of the diffraction peak which shows the crystal plane (111) obtained by the wide-angle X-ray diffraction of a metallic film is 1.5° or under. - 特許庁

また、その組織中には実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法により金属ＳｉおよびＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。例文帳に追加

The Si dispersed vitreous carbon material is provided with structural performance that a crystalline structure except graphite structure does not exist practically in the structure, the diffraction line attributed to metal Si or an Si compound is not detected in an X-ray diffraction method and granular structure is not discriminated by the observation by a transmission electron microscope(TEM). - 特許庁

ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２）２７．２°に最大回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニン顔料を使用して、ハーフトーン画像の均一性や細線再現性に優れた電子写真感光体及び画像形成方法の提供。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor exhibiting excellent evenness of halftone images together with fine line reproduction, in which an oxytitanium phthalocyanine pigment having a maximum diffraction peak at a Bragg angle (2θ±0.2) of 27.2° in CuKα X-ray diffraction is used, and an image forming method. - 特許庁

電子線を収束して結晶基材の局所領域に照射し、スクリーン上に現れた透過電子線と回折電子線のうち、平行な欠損線と過剰線より成る菊地線の組の間の距離を計測し、その結果に基づいて該局所領域の格子歪を測定するように構成する。例文帳に追加

Electron beam is converged to irradiate the local region of the crystal base material and the distance between the sets of Kikuchi lines each consisting of deficit and excess lines parallel to each other in the transmitted and diffracted electron beams appearing on a screen is measured and, on the basis of the measured result, the lattice strain of a local region is measured. - 特許庁