「A fabrication」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

The PC concrete board is manufactured in a factory or on a site-fabrication yard, the concrete board is carried at a building place and installed at a place correspoding to the web of the box girder and the box girder is constructed by cast-in-placing the lower floor slab and the upper floor slab.例文帳に追加

ＰＣコンクリート板は工場または現場製作ヤードで製作し，これを架設場所に運搬して箱桁のウエブにあたる位置に設置し，下床版および上床版を場所打ちすることによって箱桁を構築する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of reducing the number of masks to simplify fabrication process and, at the same time, capable of increasing capacitance of a storage capacitor without adding a mask process, and to provide a method for fabricating the liquid crystal display device.例文帳に追加

マスク数を減少させて製造工程を単純化すると共に、マスク工程を追加することなくストレージキャパシタの容量を増加させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for optical solid molding which can produce a three-dimensional molded article which has a flat surface and is excellent in dimensional precision smoothly in a high photo fabrication speed and an apparatus for the method.例文帳に追加

平坦な表面を有し、寸法精度に優れる立体造形物を高い光造形速度で円滑に製造し得る光学的立体造形方法及び装置の提供。 - 特許庁

To provide a color filter fabrication method by which photo-resist need not be used and therefore a substrate need not be removed from a vacuum plating machine to strip the photo-resist and particle contamination is avoided as a result.例文帳に追加

フォトレジストを使用しないことにより、基板を真空めっき機から取り出してフォトレジストの除去を行う必要がなく、ダストによる汚染が回避されるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetoresistance effect element capable of achieving a low element resistance and shortening a lead gap length, to provide its fabrication method, and to provide a magnetic storage equipped with the magnetoresistance effect element.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子の素子抵抗を低く抑えると共にリードギャップ長の短小化が可能な磁気抵抗効果素子、その製造方法、およびその磁気抵抗効果素子を備える磁気記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a foundation structure which serves as a foundation structure that supports a machine accompanying the generation of vibrations, solves a problem of vibration-related environmental pollution, ensures the precision of machine-used fabrication at low cost, and offers superior constructibility.例文帳に追加

振動発生を伴う機械を支える基礎構造物として、振動公害の問題を解消できるとともに、低コストで、機械による製作精度が確保でき、かつ、施工性に優れた基礎構造物を提供する。 - 特許庁

To enable detection of a voltage between terminals of each single cell and prevent the cost of apparatus fabrication from increasing, while securing desired insulation with respect to a high-voltage system in which a ground potential becomes relatively high by a plurality of single cells.例文帳に追加

複数の単セルによって対地電位が相対的に高電位となる高電圧系に対する所望の絶縁を確保しつつ、各単セルの端子間電圧を検出可能とし、装置構成に要する費用が嵩むことを防止する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which a highly reliable full silicide MOSFET and a silicide MOSFET can be formed on the same substrate easily as compared with prior art.例文帳に追加

信頼性の高いフルシリサイドＭＯＳＦＥＴおよびシリサイドＭＯＳＦＥＴを従来よりも簡単に同一基板上に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, i.e. an MIS transistor having a gate insulating film composed of a material having a high dielectric constant, in which controllability of threshold is improved, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

高誘電率材料からなるゲート絶縁膜を有するＭＩＳトランジスタであって、閾値の制御性が良好である半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric element in which delamination is prevented in a lower electrode, and to provide its fabrication process, a liquid ejection head, its manufacturing process, and a liquid ejector.例文帳に追加

下電極内の層間剥離を防止した圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a copolymer improving gas emission caused to high temperature retention in a fabrication and happening of silver or reduction of gloss on the surface of a molded article, and a thermoplastic resin composition excellent in thermal resistance and impact resistance.例文帳に追加

成形加工時の高温滞留によるガスの発生、成型体表面のシルバーの発生や光沢の低下を改善した共重合体及び耐熱性、耐衝撃性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a TFT structure and a fabrication method thereof in which low resistance interconnection can be realized sufficiently while preventing deterioration of characteristics due to undercut of a barrier metal layer when copper is used as a source-drain electrode material.例文帳に追加

ソース／ドレイン電極材料に銅を用いた場合の加工時のバリアメタル層のアンダーカットに起因する特性不良を防止し、低抵抗配線が充分に実現できるＴＦＴの構造とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of easily reversing the polarization of a degraded hemimorphic crystal without using a high-voltage power source or a complex electrode fabrication process.例文帳に追加

高圧電源や複雑な電極製造工程を用いずに、劣化した異極像結晶を簡単に分極反転させることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing device and method for a tire molding die piece, eliminating the need of fabrication of a fixture and installation of the fixture for each machine tool used in setup or processing of a plurality of machine tools.例文帳に追加

複数の工作機械の段取りや加工に使用する各工作機械毎の治具の作成及び治具の設置などを必要としないタイヤ成型金型の加工装置及び加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bag body which enables the formation of a seal part at the opening part on its fabrication stage and which does not require a hot seal device, etc. for closing the opening part after a user inserts an item in the bag body.例文帳に追加

製造段階で開口部にシール部を形成することができ、使用者が袋の中に物を装入した後、開口部を閉じるために熱シール装置等を用いて加工を施す必要がない袋体を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a silicon device in which the yield can be enhanced by preventing production of foreign substances in the fabrication process, and to provide a process for manufacturing a liquid ejection head.例文帳に追加

製造過程における異物の発生を防止して、歩留まりを向上することができるシリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyamide resin composition excellent in thermal stability in fabrication, useful for a molded article such as a driving component excellent in sliding characteristics, heat resistance, heat aging resistance or the like and enabling a thin-walled part excellent in strength to be molded.例文帳に追加

成形加工時の熱安定性に優れ、且つ摺動特性、耐熱性、耐熱老化性などに優れた駆動部品などの成形品用として有用、しかも強度に優れた薄肉部分の成形が可能なポリアミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a rotational moving mechanism which is used for assuring a stable action for holding a stop state in an arbitrary position of flip-up spectacles and is formed by a simple fabrication method and flip-up spectacles using this rotational moving mechanism.例文帳に追加

撥ね上げ眼鏡の任意の位置での停止状態の安定した保持動作の確保の為に使用される、簡単な加工法による回動機構及び該回動機構を使用した撥ね上げ眼鏡を提供する事。 - 特許庁

To provide a resin sealed semiconductor device in which variation in the characteristics of an IC chip due to a stress from a filler can be suppressed without lowering the package performance or without increasing the fabrication processes of a chip.例文帳に追加

パッケージ性能が低下したり、チップの製造工程を増加させることなく、フィラーからの応力によるＩＣチップの特性変動を抑制できる樹脂封止型半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display which can surely perform an instillation process used when a liquid crystal is sealed between substrates in a cell process, and also to provide a fabrication method thereof.例文帳に追加

本発明は、セル工程で基板間に液晶を封入する際に用いる滴下注入プロセスを確実に行える液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a crystal silicon solar cell having a reverse side insulation layer composed of an organic material by using a fabrication process which is suitable for mass production and less likely to have adverse effects.例文帳に追加

有機材料からなる裏面絶縁層を有する結晶シリコン太陽電池を、量産に適した悪影響の少ない工程により作製するための作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display, which surely performs an instillation process used when a liquid crystal is sealed between substrates in a cell process, and to provide a fabrication method of the device.例文帳に追加

本発明は、セル工程で基板間に液晶を封入する際に用いる滴下注入プロセスを確実に行える液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a multi-domain liquid crystal display device having high contrast and excellent in a visual angle characteristic, without increasing complex processes such as micro-fabrication process of a common electrode, and requiring a high degree of sticking technology.例文帳に追加

共通電極の微細加工工程等の煩雑な工程を増加させたり、高度な貼り合わせ技術を要求することなく、高コントラストで、視角特性の優れたマルチドメイン液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching process for suitably and selectively etching silicon nitride from a conductive oxide material in order to use in a semiconductor fabrication process.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて使用するために、導電性酸化物材料から窒化シリコンを好適に選択的にエッチングするドライエッチングプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a new probe for a scanning tunneling microscope and a method of fabrication having high conductivity and high optical transmission, and capable of obtaining high plasmon luminous efficiency.例文帳に追加

高導電性および高光透過性を有するとともに、高いプラズモン発光効率を得ることのできる、新しい走査型トンネル顕微鏡用探針およびその作製方法を提供する。 - 特許庁

The disclosed selective etching process is sufficiently suitable for ferroelectric memory device fabrication using a conductive oxide/ferroelectric interface having silicon nitride as a material for encapsulating a ferroelectric substance.例文帳に追加

開示された選択的エッチングプロセスは、強誘電体の封じ込め材料として窒化シリコンを有する導電性酸化物／強誘電体界面を用いる強誘電体メモリデバイス製造に十分適している。 - 特許庁

To protect a semiconductor element under fabrication against impact of auto-doping from a scribe line portion in the process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、スクライブライン部分からのオートドーピングの影響が形成中の半導体素子に及び難いようにすることを課題とする。 - 特許庁

To provide a polyester film suitable as a support for forming filmy interlayer insulating material which is used for a multilayer printed circuit board manufactured by the buildup method for corresponding to micro-fabrication or high density of wiring.例文帳に追加

配線の微細化および高密度化に対応するための、ビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a polyarylate resin which has heat resistance and transparency, furthermore has the excellent adhesion to a substrate and the alkali decomposability suitable for the film fabrication and to provide a polyarylate-film laminate having the above polyarylate resin laminated.例文帳に追加

耐熱性、透明性を有し、さらに、基材に対する優れた密着性と膜加工に適したアルカリ分解性を有するポリアリレート樹脂、およびそのポリアリレート樹脂が積層されたポリアリレート膜積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device having a variable density filter which can enhance the yield by adjusting the optical output characteristics of a semiconductor laser element occurring in the fabrication process.例文帳に追加

製造工程で生じる半導体レーザ素子の光出力特性のバラツキを調節し、歩止まりを向上させることを可能にする可変濃度フィルタを有する半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an electrode of such a structure as the problem of unnecessary alloying due to heat treatment in the fabrication process of the semiconductor device is avoided, and a method for forming the electrode.例文帳に追加

半導体デバイスの作成工程での熱処理による不要な合金化等の問題を回避した構造の電極を備えた半導体デバイスとその電極作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyester resin composition and a molded body which suppress the emboss ununiformity even when molded with a mold having an emboss finish performed, and thus which eliminate the secondary fabrication such as coating.例文帳に追加

シボ加工が施された金型を用いて成形した場合でも、シボムラが抑えられ、塗装などの２次加工を不要とするポリエステル樹脂組成物および成形体を提供する。 - 特許庁

The layout pattern includes a flagged critical region which corresponds to a critical region (256, 304) on a reticle or integrated circuit that is susceptible to special inspection or fabrication procedures.例文帳に追加

そのレイアウトパターンは、特殊な検査処理や製造処理を実行すべきレチクル上または集積回路上のクリティカル領域（２５６，３０４）に対応するフラグ付きクリティカル領域を含む。 - 特許庁

To provide a local facility for a semiconductor fabrication apparatus in which no gaseous organic substance exists and a local facility in which neither phosphorus compound nor boron compound exists.例文帳に追加

ガス状有機物が存在しない半導体製造装置等の局所設備と、リン化合物やホウ素化合物が存在しない局所設備を提供する。 - 特許庁

To provide a diode adapted for an optoelectronic device, which comprises a P-type semiconductor substrate and an N-type transparent amorphous oxide semiconductor layer, to simplify a fabrication process, and to decrease production costs.例文帳に追加

Ｐ型半導体基板とＮ型透明非結晶酸化物半導体層とを含む、光電デバイス用に採用されるダイオードを提供し、製作プロセスを簡単にするとともに、製造コストを低減する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which an SOI structure having a back gate electrode, and an ordinary SOI structure are formed on the same semiconductor substrate.例文帳に追加

バックゲート電極を有するＳＯＩ構造と、通常のＳＯＩ構造とを同一の半導体基板に形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can prevent the occurrence of a crystal defect caused by thermal oxidation in a fabrication method, while reducing the capacitance caused by the gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極起因の容量を低減し、かつ製造工程における熱酸化に起因する結晶欠陥の発生が抑制できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an impurity doping method and a fabrication method for memory device, insulated gate type semiconductor device and semiconductor device in a process for fabricating a semiconductor device such as semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路等の半導体装置を作製する工程における不純物ドープ方法、メモリ装置の作製方法、および絶縁ゲート型半導体装置の作製方法並びに半導体装置の作製方法に関する。 - 特許庁

In the fabrication process of semiconductor device having a multilayer interconnection layer, hydrogenation heat treatment is performed at least after formation of an insulation layer 107 covering a first interconnection layer 106 and an insulation layer 113 covering a last interconnection layer 112.例文帳に追加

多層配線層を有する半導体装置の製造工程において、少なくとも第一配線層１０６を覆う絶縁層１０７の形成後及び最終配線層１１２を覆う絶縁層１１３の形成後に水素化熱処理を行う。 - 特許庁

The invention is especially suitable for fabrication of a semiconductor device using a film of inorganic SOG series, and is suitable when an SOG film filling a limited region is formed and holes are made in that limited region.例文帳に追加

本発明は、特に、無機ＳＯＧ系列の膜を使用する半導体装置の製造に適切であり、狭い区域を充填するＳＯＧ膜を形成し、その狭い区域にホールを形成する場合に適切である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of fabrication in which the number of masks and steps can be decreased by making common the ion implanting conditions for the channel regions of a transistor having different threshold voltage or channel width.例文帳に追加

しきい値電圧やチャネル幅が異なるトランジスタのチャネル領域のイオン注入条件を共通にしてマスク数や工程数を低減することが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor optical element without producing an unnecessary region resulting from fabrication of a plurality of kinds of diffraction grating in element manufacture.例文帳に追加

素子作製において複数の種類の回折格子の作製に起因して無駄領域を発生させることなく、半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To reduce damage on a semiconductor layer due to irradiation with an electron beam for forming a low resistance p-type layer in the fabrication process of a III nitride based compound semiconductor element.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体素子の製造過程において低抵抗p型化する際の電子線照射によって半導体層が受けるダメージを低減する。 - 特許庁

To obtain such a reference layer as withstanding a fabrication process and exhibiting high coercivity and heat resistance with thin film thickness in a magnetic memory element using vertical magnetization.例文帳に追加

垂直磁化を用いた磁気メモリ素子において、作製プロセスに耐え、薄い膜厚で大きな保磁力と高い耐熱性を有する参照層を実現する。 - 特許庁