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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > After processの意味・解説 > After processに関連した英語例文

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After processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8071



例文

The method for refining stainless steel is characterized by separating and recovering the dust generated before and after the addition of alloy elements, in a refining process in a steelmaking furnace.例文帳に追加

製鋼炉での精錬において、合金元素添加開始前と添加開始後に発生するダストを分離して回収するステンレス精錬方法である。 - 特許庁

In a first discharge process, liquid droplets are discharged with a pitch larger than the diameter of a liquid droplet after landing at a substrate over the whole wiring formation region.例文帳に追加

第1吐出工程では、液滴を配線形成領域全体に前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで吐出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an IC package for improving quality and productivity in a dicing process after the molding of a resin package.例文帳に追加

本発明は、樹脂パッケージのモールド後のダイシング工程で品質および生産性を向上させることのできるICパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

The bias whose polarity is the same as that of toner which remains after a transfer process and which is carried on the surface of the drum 1 and passes by the magnet blade 7 is applied to the magnet blade 7.例文帳に追加

マグネットブレード7には、感光ドラム1表面に担持されたマグネットブレード7近傍を通過する転写残トナーと同じ極性のバイアスを印加する。 - 特許庁

例文

As a normal fastening process, after the bolt is fastened by a specified torque T2, the bolt is further fastened by a fixed angle θ2 so as to reach the required axial force.例文帳に追加

次に、正規締付工程として、所定のトルクT2でボルトを締め付けた後、さらに所定の角度θ2だけ締め付けて、要求軸力とする。 - 特許庁


例文

After the purging gas is heated to a specified temperature, the purging gas is exhausted by a vacuum pump 6 through a process gas line 9 and a purging gas line 19.例文帳に追加

パージ用ガスは所定の温度まで昇温された後、プロセスガスライン9及びパージ用ガスライン19を介して、真空ポンプ6により排気される。 - 特許庁

To improve the quality of a semiconductor device by dispersing charge occurring within a pellet due to a process after mounting the pellet onto a lead frame by heating treatment.例文帳に追加

加熱処理によるリードフレーム上へのペレットのマウント後のプロセスによりペレット内に発生したチャージを散らして、半導体装置の品質を向上させる。 - 特許庁

A re-sucking process of re-sucking aqueous urea in the aqueous urea piping 22 is carried out after stopping of aqueous urea supply to the aqueous urea adding valve 15.例文帳に追加

本システムでは、尿素水添加弁15への尿素水供給の停止後に、尿素水配管22内の尿素水を吸い戻す吸い戻し処理が実施される。 - 特許庁

The reforming process is performed by cutting off the voltage after the predetermined voltage is held for a constant period and then raising the voltage in the predetermined sweeping speed (voltage scanning).例文帳に追加

再化成処理は、所定電圧で一定時間保持した後電圧を遮断し、その後、所定の掃引速度で電圧上昇(電圧走査)を行う。 - 特許庁

例文

The sample storing method includes a process for heat-sealing the opening and closing the sample after the sample is inserted from the opening of the sample storing sheet.例文帳に追加

当該サンプル保管用シートの開口部からサンプルを挿入した後、開口部をヒートシール等してサンプルを閉じ込める工程を含む、サンプル保管方法。 - 特許庁

例文

A low-layer polygon model morphing process part after making the vertexes correspond to each other interpolates both to generate intermediate-layer polygon models 323a and 323b.例文帳に追加

低階層ポリゴンモデルモーフィング処理部により頂点同士を対応付けた後、両者を補間して中間低階層ポリゴンモデル323a,323bを形成する。 - 特許庁

After soft baking for vaporizing a solvent is carried out, a baking process in which acid is diffused to cause reaction with the bridging resin is performed to form a cured layer 14.例文帳に追加

溶剤を蒸発させるソフトベークを行った後、酸を拡散し、架橋性樹脂との反応を起こすベーキング処理を行い、硬化層14を形成する。 - 特許庁

The rice cooker has a decompression control means 130 for driving a decompression pump 82 for a preset driving time T1 after a prescribed time T2 elapses during the heat retention process.例文帳に追加

保温中に所定時間T2が経過すると、減圧ポンプ82が設定された所定の駆動時間T1で駆動する減圧制御手段130を備える。 - 特許庁

The sidewall insulating film 18 of the gate electrode 14 is formed before the gate oxidized process of the other MOS transistor after the resist not shown is removed.例文帳に追加

次に図示しないレジストを除去した後、他のMOSトランジスタのゲート酸化工程以前に、ゲート電極14の側壁絶縁膜18を形成する。 - 特許庁

To provide a process for preparing a hydrogenated alicyclic olefin polymer which achieves a high hydrogenation rate at a low temperature and allows an easy removal of catalysts after the hydrogenation reaction.例文帳に追加

低温で高水素添加率を達成でき、水素添加反応後の触媒除去が容易な水添脂環式オレフィン重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this example, the heat in between the loaded copied objects after the fixation process remains for a comparatively long time, then, a low duty ratio is selected in order to prevent overheating.例文帳に追加

本例の場合、定着後のコピー積載物内部の熱の滞留が比較的多くなるので、過熱を防止するため、低いデューティ比が選択されている。 - 特許庁

Before forming a conductive film after forming element electrodes 2, 3, a surface renewal process for renewing the activation promoting layer 4 is applied.例文帳に追加

素子電極2,3の形成後導電性薄膜4形成前に、上記活性化促進層4の表面を更新する表面更新処理を施す。 - 特許庁

To provide an angle measuring apparatus capable of performing an angle measuring process after removing multipath waves, even if complex gain patterns of all sensor elements are not necessarily known.例文帳に追加

必ずしも全てのセンサ素子の複素ゲインパターンが既知でなくてもマルチパス波を除去してから測角処理を行える測角装置を提供する。 - 特許庁

The process for production of plastic lenses comprises mixing a plurality of polymerizable components and injecting the mixture immediately after the mixing into a mold and polymerizing the mixture to obtain a molded body.例文帳に追加

複数の重合性成分を混合し混合後直ちに混合液を成形型に注入し、重合して成形体を得るプラスチックレンズの製造方法。 - 特許庁

To provide a new, useful method of manufacturing electronic device that prevents Si digging defects due to an ashing process after phosphorus ion implantation.例文帳に追加

燐のイオン注入後のアッシング工程に起因するSi掘られ欠陥の発生を抑制する新規で有用な電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A conductor plug is formed after high temperature heat treatment in oxidizing atmosphere of the ferroelectric film, and the multilayer wiring structure is formed by a plating process.例文帳に追加

導体プラグの形成を強誘電体膜の酸化雰囲気中での高温熱処理の後に行い、多層配線構造を、めっき工程により行う。 - 特許庁

After the end of the re-pressing process, a pore is impregnated with resin to seal the pore, and subsequently the whole surface is polished by magnetic barrel polishing or electromagnetic barrel polishing.例文帳に追加

再圧工程が終わってから気孔に樹脂を含浸させて封孔し、次いで磁気バレル研磨もしくは電磁バレル研磨によって全面を研磨する。 - 特許庁

To provide a signal quality-monitoring method and a multipath equalization device, which can self-diagnose a signal quality after equalization process with a simple circuit.例文帳に追加

等化処理後の信号品質を簡単な回路で自己診断することが可能な信号品質監視方法及びマルチパス等化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering cumene in which the generated 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane is effectively recovered after it has been converted into cumene, in a process using cumene.例文帳に追加

クメンを用いるプロセスにおいて、生成した2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタンを効率的にクメンとして回収するクメンの回収方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the pre-tilt angle of the liquid crystal molecules can be controlled, since the arrangement state of the alignment layer molecules after the drying process can be controlled.例文帳に追加

従って、乾燥処理後における配向膜分子の配列状態を制御することができるため液晶分子のプレチルト角を制御することができる。 - 特許庁

After than, in order to eliminate the hard mask material and the metal material from the resistors of a constant length, a second etching process 360 is performed.例文帳に追加

その後、定められた一定長の抵抗器からハード・マスク材料および金属材料を除去するために、第2のエッチング工程360が行われる。 - 特許庁

The production process is characterized in that, after recrystallization annealing, cold rolling is performed at a low reduction ratio of 7 to 55%, and thereafter, low-temperature annealing is performed.例文帳に追加

そして、製造方法は、再結晶焼鈍後に7%〜55%の低加工率での冷間加工を行い、その後低温焼鈍することを特徴とする。 - 特許庁

The water soluble aluminum salt or the aqueous solution of the same can be added in a process for forming the mulching material or after setting up the mulching material.例文帳に追加

水溶性のアルミニウム塩、又はその水溶液は、マルチング材を形成する工程で付与してもよく、マルチング材を施工した後に付与してもよい。 - 特許庁

The humification of the treated objects is sufficiently progressed by holding the objects for 2 to 40 hours at 150 to 250°C in a heat treatment process after heating and drying.例文帳に追加

加熱乾燥後の熱処理工程において被処理物を150〜200℃で2〜40時間保持することにより腐植化を十分に進行させる。 - 特許庁

Alternatively, a method comprises a heat treatment process which is performed at temperature higher than film formation temperature of the amorphous oxide layer after forming the amorphous oxide layer on the substrate.例文帳に追加

または、基板上に、非晶質酸化物層を形成する後に、非晶質酸化物層の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁

In the mixing process, a mixture is obtained by mixing a lithium source and a vanadium source in accordance with a stoichiometry so that it becomes LiV_2O_5 after baking.例文帳に追加

混合工程においては、リチウム源と、バナジウム源とを、焼成後にLiV_2O_5となるような化学量論比にしたがって混合して混合物を得る。 - 特許庁

After that, a thinner filming process, wherein the substrate 1 is selectively polished to the layer 4 and the film thickness of the substrate 1 is made thin, is performed.例文帳に追加

その後、絶縁層4に対して半導体基板1を選択的に研磨し、半導体基板1の膜厚を薄くする薄膜化工程を行う。 - 特許庁

The toner remaining after the transfer process passes by the magnet blade 7 and then the toner is removed by the developing device 4, the carrier 2c is removed by the magnetic force of the magnet blade 7.例文帳に追加

転写残トナーはマグネットブレード7を通過して現像装置4によって除去され、キャリヤ2cはマグブレード7によりその磁力によって除去される。 - 特許庁

The waste is stored in a water tank until the radioactivity is sufficiently attenuated to produce hydrogen and oxygen and after that, the waste is sent to a normal treatment process such as reclamation.例文帳に追加

廃棄物が十分低い放射能レベルに減衰するまで水槽内で貯蔵、水素と酸素の製造後に、埋め立て等の通常処理プロセスに送る。 - 特許庁

The coating cutting tool is manufactured by forming the coated film 2 after performing bombardment process on the base material 1 surface using dilute gas ion.例文帳に追加

この被覆切削工具は、希ガスのイオンを用いたボンバードメント処理を基材1表面に施した後、被覆膜2を形成することで製造される。 - 特許庁

To provide a laser welding method for making rolled stocks in which a low temperature transformed structure is produced after laser welding usable in continuous hot rolling process.例文帳に追加

レーザー溶接後に低温変態組織が発生する圧延材を、連続製造工程で使用可能とするためのレーザー溶接方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive composition which has high heat resistance, adhesive strength in high temperature environments, and alkali resistance, and can easily be peeled after a high temperature process.例文帳に追加

高い耐熱性、高温環境下における接着強度、耐アルカリ性を有し、さらに高温プロセス後の剥離が容易な、接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is thermally stable in after process and which is suitable for manufacturing a gate insulation film having a multilayer structure wherein various oxides of a high permittivity are laminated.例文帳に追加

後プロセスで熱的に安定で、また、各種高誘電率酸化物との積層構造ゲート絶縁膜作製に適した半導体装置を提供する。 - 特許庁

An oxygen supply source is injected into soil G after finishing the soil cleaning process cleaning the contaminated soil G by oxidation decomposition.例文帳に追加

酸化分解によって汚染土壌Gを浄化する土壌浄化工程終了後に、土壌G内に酸素を供給する酸素供給源を注入する。 - 特許庁

In the processes of forming the ferroelectric film or piezoelectric body film, the precursor is irradiated with an ion beam at least once after the degreasing process.例文帳に追加

強誘電体膜又は圧電体膜を形成する工程において、前記脱脂後の少なくとも一回、前記前駆体にイオンビームを照射する。 - 特許庁

To provide an original plate of a direct drawing type lithographic printing plate which does not require troublesome process after laser light irradiation and has excellent image reproducibility.例文帳に追加

本発明は、レーザー光照射後の煩雑な工程を必要としない、画像再現性に優れた直描型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

An apparatus is employed which makes X-rays or ultraviolet rays or both irradiated to a semiconductor surface in a vacuum or inert atmosphere, after plasma process.例文帳に追加

プラズマプロセス後に、真空中、若しくは不活性雰囲気中で半導体表面にX線、若しくは紫外線、或いはその両者を照射する装置を用いる。 - 特許庁

After each exposure and treatment process, distortion of the substrate wafer is measured by comparing positions of a plurality of reference marks 20 with values of the database.例文帳に追加

それぞれの露光及び処理工程後に、複数の基準マーク20の位置をデータベースの値と比較することによって、基板ウェハのゆがみが測定される。 - 特許庁

Water injection from the water injection valve 16 into the combustion chamber 17 is performed within a range at 115-155° of crank angle after the bottom dead point (in a piston compressing process).例文帳に追加

前記水噴射弁16から燃焼室17内への水噴射を(ピストンの圧縮工程の)下死点後クランク角度115°〜155°の範囲内で行う。 - 特許庁

After computing the coil sensitivities by using the different polynominal models PMa and PMb, a combining process for smoothly combining the coil sensitivities is executed.例文帳に追加

異なる多項式モデルPMaおよびPMbを用いてコイル感度を算出した後、コイル感度を滑らかに結合するための結合処理を行う。 - 特許庁

In a principal process, the charge storage film and memory gate electrode are formed after ion implantation D01 for forming the memory source-drain region SDm is carried out.例文帳に追加

本工程では、メモリソース・ドレイン領域SDmを形成するためのイオン注入D01を施した後に、電荷蓄積膜とメモリゲート電極とを形成する。 - 特許庁

To generate a photon with a different frequency (wavelength) from that of excitation light with no requirement of a process for returning to the state of a single substance after photon discharge.例文帳に追加

光子放出後に単一物質系の状態を戻すプロセスを必要とせず、かつ励起光と異なる周波数(波長)の光子を発生させる。 - 特許庁

A compound liquid of chelating agent-added hydrogen peroxide water and ammonia water is used as a chemical 5 in a cleaning process after forming a trench 3.例文帳に追加

トレンチ3を形成した後の洗浄工程の薬液5として、キレート剤を添加した過酸化水素水とアンモニア水と水の混合液を用いる。 - 特許庁

It is said that, after coming back to Japan, he made thick textile by making improvements in the process along with Iemon (Tobei) TAKEWAKA, together with the house inherited technique and new technology he had learned. 例文帳に追加

帰国後、家伝の技法と学んだ新技術を以て、竹若伊右衛門(藤兵衛)と共に工法の改良を重ねて厚地の織物を作ったとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

例文

After this process, mekabu seaweed will be finely chopped and will be used for food whereby it is mixed with soy sauce, noodle sauce or other condiments and served over the rice or it is added to soup. 例文帳に追加

その後は包丁などで細かく刻み、醤油やめんつゆ、その他の薬味を混ぜ飯にかけて食べられたり、吸い物などスープに入れられたりする。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス




  
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