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After processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8069



例文

To provide a coating film forming method capable of forming a uniform coating film by stabilizing the concentration of a gas on the surface of the coating film after coating in its early stages to markedly suppress the irregularity caused in the initial drying process immediately after coating.例文帳に追加

塗布後の膜面上のガス濃度を早期に安定させ、塗布直後の初期乾燥過程で発生する斑を顕著に抑制し、均一な膜を形成することができる塗布膜の形成方法および形成装置を提供する。 - 特許庁

The photoreceptor manufacturing method includes a process of immersing the edge of the conductive base with a photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface thereof in the solvent, a process of pulling up the conductive base from the solvent, and a process of reducing the internal pressure of the conductive base, after the conductive base is separated from the solvent level at the pull-up process.例文帳に追加

感光体層が外周表面に形成された導電性基体の端部を溶剤液に浸漬する工程と、前記導電性基体を前記溶剤液から引上げる工程と、前記引上げ工程において、前記導電性基体が溶剤液面から離れた後、前記導電性基体の内部を減圧する工程とを備える感光体の製造方法である。 - 特許庁

The forming method of the doped PCMO thin-film layer which can be applied to RRAM and includes a process that prepares a PCMO precursor solution having a transition metal additive in it, a process that spin-coats a doped PCMO spin coating solution onto a wafer surface and anneals the same after sintered, a process that repeats spin coating several number of times and a process that further performs annealing.例文帳に追加

RRAMに適用出来るドープされたPCMO薄膜層の形成方法であって、その中に遷移金属添加物を有するPCMO前躯体溶液を準備する工程と、ドープされたPCMOスピンコーティング溶液をウェハ表面上にスピンコーティングし焼成後アニーリングする工程と、前記スピンコーティングを複数回繰り返す工程と、さらにアニーリングする工程とを含む。 - 特許庁

A processed substrate on the surface of which a metal catalyst layer is formed is prepared (process 1), oxygen plasma treatment is given to the metal catalyst layer (process 2), the surface of the metal catalyst layer is activated by giving hydrogen containing plasma treatment to the metal catalyst layer after the oxygen plasma treatment (process 3), and then a carbon nanotube film is formed on the metal catalyst layer by plasma CVD (process 5).例文帳に追加

表面に金属触媒層が形成された被処理基板を準備し(工程1)、金属触媒層に酸素プラズマ処理を施し(工程2)、酸素プラズマ処理後の金属触媒層に水素含有プラズマ処理を施して、金属触媒層の表面を活性化し(工程3)、その後、金属触媒層の上にプラズマCVDによりカーボンナノチューブ膜を成膜する(工程5)。 - 特許庁

例文

When the cloth-separating process for separating the laundry sticking to an inner periphery surface of a drum is performed after fishing a dewatering process, wherein the drum spins at high speed, before it shifts to a drying process, a control circuit performs DC excitation (step S3, S4) to fix a rotor-position of a motor in case of stopping the spinning drum during the cloth-separating process.例文帳に追加

ドラムを高速で回転させる脱水行程が終了した後、乾燥行程に移行するまでの間に、ドラムの内周面に貼り付いた状態にある洗濯物を剥離させるための布はがし行程を行う場合、制御回路は、布はがし行程においてドラムの回転を停止させる場合は、モータのロータ位置を固定するため直流励磁を行う(ステップS3,S4)。 - 特許庁


例文

Acetic acid and the catalyst are effectively recovered from a mother liquid discharged from a solid-liquid separation process after going through an oxidation process and a crystallization process in a continuous process of producing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid by oxidizing dimethylnaphthalene under an oxygen-containing gas and a solvent of acetic acid with a catalyst system prepared using a transition metal such as cobalt and manganese, and a bromine compound.例文帳に追加

ジメチルナフタレンを含酸素気体および酢酸溶媒下で、コバルト、マンガンのような遷移金属と臭素系化合物を用いて製造された触媒系によって酸化反応させ、ナフタレンジカルボン酸を製造する連続工程において、酸化工程と結晶化工程、そして固液分離工程を経て排出される母液中、酢酸および触媒を効果的に回収する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process of patterning a photoresist 2 by performing a developing process after coating the surface of a substrate 1 with the photoresist and performing proximity exposure of the photoresist 2 through a photomask 7, and then a process performing a heat treatment and a process of forming a reflecting film 3 on the heat-treated photoresist 2, and the proximity exposure is carried out under specified conditions.例文帳に追加

この製造方法では、基板1の表面上にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト2にフォトマスク7を介してプロキシミティ露光を施した後、現像処理を行うことにより、フォトレジスト2をパターニングし、しかる後、熱処理を施す工程と、熱処理されたフォトレジスト2上に反射膜3を形成する工程と備え、プロキシミティ露光を所定の条件で実行する。 - 特許庁

A process of manufacturing the semiconductor device 10t includes an oxygen plasma irradiation process of subjecting a silicon film 1s to become an active layer of a field-effect transistor 30n to oxygen plasma irradiation OP after crystallizing the silicon film 1s, and a surface oxide removal process of removing surface oxide 1r formed on the silicon film 1s in the oxygen plasma irradiation process.例文帳に追加

半導体装置10tの製造工程では、電界効果型トランジスタ30nの能動層となるシリコン膜1sを結晶化させた後、シリコン膜1sに酸素プラズマ照射OPを行う酸素プラズマ照射工程と、酸素プラズマ照射工程によりシリコン膜1sに形成された表面酸化物1rを除去する表面酸化物除去工程とを行う。 - 特許庁

A resist pattern manufacturing method comprises a first process of applying a resist 11 on a substrate, a second process of exposing the resist 11 to light reaching the substrate so as to enable a plurality of regions of the resist 11 to be exposed to light varying in intensity corresponding to the plurality of regions, and a third process of baking the resist 11 after the exposure process is finished.例文帳に追加

レジストパターン製造方法において、基板にレジスト11を塗布する工程と、前記基板まで到達する光で前記レジスト11を露光する工程であって、前記レジスト11は複数の領域を有し、それぞれの前記複数の領域が異なる強さで露光される前記露光工程と、前記露光工程後、前記レジスト11をベークする工程とを有すること。 - 特許庁

例文

The waste blood treatment method includes a coagulation process for adding hydrochloric acid and a ferric chloride solution to blood wastewater to coagulate organic components in blood, a precipitation process for neutralizing blood wastewater after the coagulation process with alkali to separate out a precipitate and a removal process for removing the separated-out precipitate from blood wastewater.例文帳に追加

血液廃水に塩酸及び塩化第二鉄水溶液を加えることにより、血液中の有機分を凝固させる、凝固工程と、凝固工程後の血液廃水をアルカリによって中和することにより、沈殿を析出させる、析出工程と、析出した沈殿物を血液廃水から除去する、除去工程と、を有することを特徴とする血液廃水処理方法である。 - 特許庁

例文

This HAZE reducing method of a semiconductor wafer comprises a dressing process for brushing an abutting surface of a polishing cloth used for a mirror surface polishing process on the semiconductor wafer with a brush means 5 to 10 times while adding an acescent surface active agent and a polishing process for polishing the semiconductor wafer to the mirror surface with the polishing cloth after the dressing process.例文帳に追加

半導体ウエハのHAZE低減化方法において、鏡面研磨処理に使用した研磨クロスの半導体ウエハへの当接面を、弱酸性界面活性剤を添加しながらブラシ手段によって5〜10回にわたりブラッシングするドレッシング工程と、ドレッシング工程終了後の研磨クロスにより、半導体ウエハを鏡面研磨する研磨工程とを有する。 - 特許庁

The method of stabilizing lead in burned ash has a stirring process of charging burned ash into water and stirring the ash in water while supplying carbon dioxide, a mixing process of mixing the ash with an Si-containing material after the stirring process and a calcinating process of calcinating the resultant mixture at 800°C or higher.例文帳に追加

焼却灰に含有する鉛の安定化方法は、水中に焼却灰を投入し、二酸化炭素を供給すると共に、水中で焼却灰を撹拌する撹拌工程と、前記工程後に、前記焼却灰にSi含有物を混合する混合工程と、前記混合工程で混合された混合物を800℃以上で焼成する焼成工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a lubricant for metal forming process which excels in adhesion when coated on a high-temperature article to be coated, excels in lubricity and seizure-prevention performance at high temperatures in performing metal forming process, prevents breakage, buckling, and a surface flaw in its forming, and can be easily removed after the forming process, a metal forming material coated therewith, and a metal forming process.例文帳に追加

高温の被塗物への塗装を行う際の付着性に優れ、金属成形加工を行う際に高温での潤滑性及び焼付き防止性能に優れ、加工時の破断、座屈、及び表面の疵を防ぐと共に、成形加工後は容易に除去することができる金属成形加工用潤滑剤、それを塗布した金属加工材、及び金属成形加工方法を提供する。 - 特許庁

The production process of the polyaniline electrically conductive ink is composed of a process for obtaining a polyaniline colloid by polymerization of aniline in an aqueous medium at least in the presence of an anionic surfactant, a process for separating into two layers by adding at least one organic solvent to the reaction solution after the polymerization to migrate the polyaniline colloid to the organic layer, and a process for removing the aqueous layer.例文帳に追加

少なくとも、アニオン性界面活性剤の存在下、水性溶媒中でアニリンを重合してポリアニリンコロイドを得る工程と、重合反応終了後の反応溶液に1種以上の有機溶媒を添加して二層分離させ、ポリアニリンコロイドを有機層に移行させる工程と、水層を除去する工程を有するポリアニリン導電性インキの製造方法とする。 - 特許庁

The accuracy of boiling start temperature detection in a boiling process after addition of potassium permanganate adopted as a method for oxidizing and decomposing the organic material in the sample water such as drinking water is heightened, and a sample taking process at the start of analysis on an analytical stage of start and a cleaning process at the end of the analysis are distributed on the same stage, to thereby divide the boiling process.例文帳に追加

飲料水等の試料水中の有機性物質を酸化分解するための方法として採用されている過マンガン酸カリウム添加後の煮沸工程を煮沸開始温度検知の精度を上げたこと、また、開始の分析ステージにおいての分析はじめの試料取り込み工程と分析最後の洗浄工程を同一ステージに配分することで煮沸工程の分割を行った。 - 特許庁

This method comprises a process to prepare the porous three-dimensional structure made of a material resin, a process to prepare a curable impregnation resin whose index of refraction after curing is the same as or close to the index of refraction of the material resin, a process to impregnate the porous three-dimensional structure with the impregnation resin and a process to cure the impregnation resin with which the three-dimensional structure is impregnated.例文帳に追加

素材用樹脂からなる多孔質の3次元構造体を準備する工程と、硬化後の屈折率が素材用樹脂の屈折率と同じか又はそれに近い硬化可能な含浸用樹脂を準備する工程と、含浸用樹脂を前記多孔質の3次元構造体に含浸させる工程と、3次元構造体に含浸させた含浸用樹脂を硬化させる工程とを有する。 - 特許庁

The design coating method comprises a process for imparting energizing property by energizing the surface of the base material, a process for forming a coating film by applying an ultraviolet curing-type powder coating on a base material and heating to melt the powder coating after coating, a process for curing the coating film by irradiating the coating film with ultraviolet ray and a process for printing a design on the cured coating film.例文帳に追加

基材表面に通電処理を施し、通電性を付与する工程と、紫外線硬化型の粉体塗料を基材上に塗装し、塗装後粉体塗料を加熱溶融して塗膜を形成する工程と、塗膜に紫外線を照射して塗膜を硬化させる工程と、硬化塗膜上に意匠を印刷する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

A filtering process is carried out by increasing the adding amount of the flocculant to 3-10 times the usual adding amount thereof only for a definite period immediately before the completion of the filtering process and holding the same to the usual adding amount of the flocculant for the remaining period other than the definite period and a backwashing process is performed after the completion of the filtering process to backwash the membrane module 22.例文帳に追加

濾過工程を終了する直前の一定期間だけ、凝集剤の添加量を通常の添加量の3〜10倍に増加させ、上記一定期間以外の残りの期間では、凝集剤の添加量を上記通常の添加量に保って濾過工程を実施し、濾過工程を終了した後、逆洗工程を実施して膜モジュール22を逆洗する。 - 特許庁

When a process speed is changed to a first process speed, whether an image forming condition should be adjusted or not before the start of forming an image at the first process speed is judged in accordance with a progress situation measured by a counter functional part 66 to measure the progress situation after performing the last adjustment of the image forming condition to form the image at the first process speed.例文帳に追加

第1のプロセス速度へプロセス速度を変更した際に、第1のプロセス速度において最後に像形成条件の調整を実施してからの経過状況を計測するカウンタ機能部66にて計測された経過状況に応じて、第1のプロセス速度において像の形成が開始される前に像形成条件の調整を行うか否かを判定する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic diagnosis apparatus capable of reducing the time from the loading of power supply for starting to the start of examination, and to reduce the operation burden on an examiner by preferentially executing the input process of preset information related to the initialization process of a system and executing the initialization process of the system after the input process of the preset information is executed.例文帳に追加

システムの初期化処理に関連するプリセット情報の入力処理を優先的に行い、そのプリセット情報の入力処理が実行された後にシステムの初期化処理を行うことにより、電源を投入して起動してから検査開始状態となるまでの時間を短縮すると共に、検査者への操作負担を軽減する超音波診断装置を提供する。 - 特許庁

The drying method in the drying device 1 includes: a process of adding water and a surface active agent to a fiber structure 100; a second process of immersing the fiber structure 100 in carbon dioxide in the liquid state or the supercritical state after the first process; and a third process of evaporating carbon dioxide in the liquid state or the supercritical state in which the fiber structure 100 is immersed in the second process.例文帳に追加

乾燥装置1における乾燥方法は、繊維構造体100に水と界面活性剤とを加える第1の行程と、第1の行程の後に、繊維構造体100を液体状態または超臨界状態の二酸化炭素に浸漬させる第2の行程と、第2の行程において繊維構造体100を浸漬させた液体状態または超臨界状態の二酸化炭素を蒸発させる第3の行程とを行なう。 - 特許庁

A polyoxyethylene alkyl ether sulfate is produced by carrying out a sulfation reaction process for bringing a polyoxyethylene alkyl ether into contact with a SO3-containing gas at40°C to sulfate the polyoxyethylene alkyl ether, a cooling process for cooling the reaction product of the sulfation reaction process at ≥1°C/s cooling rate to30°C and a neutralization process for neutralizing the reaction product after the cooling process.例文帳に追加

反応温度40℃以上で、ポリオキシエチレンアルキルエーテルとSO_3含有ガスとを接触させて硫酸化する硫酸化反応工程と、この硫酸化反応工程の反応生成物を、1℃/s以上の冷却速度で、30℃以下の温度に冷却する冷却工程と、この冷却工程後の反応生成物を中和してポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する中和工程を行ってポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する。 - 特許庁

This method for restoring transparency restores transparency which fish such as jellyfish has when being live fish after salting the fish and comprises a desalting process of desalting salted fish using hot water, a soaking process of soaking the desalted fish in the desalting process in cold water containing starch improving agent and a freezing process of quickly freezing using a freezer the soaked fish in the soaking process.例文帳に追加

クラゲ等の魚類が活魚の時に備えていた透明性を当該魚類の塩蔵後に復活させる透明性復活方法であって、塩蔵された魚類を温水の使用によって塩抜きする塩抜き工程と、塩抜き工程での塩抜きを終えた魚類を澱粉質改良剤の含有した冷水中に浸漬する浸漬工程と、浸漬工程での浸漬を終えた魚類を冷凍機の使用によって急速に凍結させる凍結工程と、からなる。 - 特許庁

The method icnludes: a first decomposition process decomposing bean curd refuse by cultivating Trichoderma or Clostridium with the bean curd refuse as a carbon source; a sterilization process sterilizing bean curd refuse decomposed matter produced by the first decomposition process; and a second decomposition process decomposing Trichoderma or Clostridium residing in sterilized matter by contacting the sterilized matter after the sterilization process with Lysobacter to cultivate the Lysobacter.例文帳に追加

おからを炭素源としてトリコデルマ(Trichoderma)またはクロストリジウム(Clostridium)を培養することで前記おからを分解する第1分解工程、前記第1分解工程で生じたおからの分解処理物を殺菌処理する殺菌工程、および前記殺菌工程後の殺菌処理物をリソバクター(Lysobacter)と接触させ、該リソバクター(Lysobacter)を培養することで、該殺菌処理物中に存在するトリコデルマ(Trichoderma)またはクロストリジウム(Clostridium)を分解する第2分解工程を有する。 - 特許庁

The film deposition method for depositing a film on a substrate to be treated includes a first process wherein a first film is deposited by ALD method on an insulation layer formed on the substrate to be treated, and a second process wherein a second film is deposited by CVD method uninterruptedly after the first process.例文帳に追加

被処理基板上に成膜を行う成膜方法であって、前記被処理基板上に形成された絶縁層上にALD法で第1の成膜を行う第1の工程と、当該第1の工程と連続して、CVD法で第2の成膜を行う第2の工程と、を有することを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

The method for treatment of gas emissions from cement production characteristically comprises collecting dust from gas emissions from a cement production process, injecting the collected dust in a clinker crushing process after a cement baking process, and reducing a concentration of volatile metal in the gas emissions which are released out by injecting the dust in the crushed clinker.例文帳に追加

セメント製造工程の排ガスからダストを捕集し、この捕集した集塵ダストを、セメント焼成後のクリンカ粉砕工程に投入し、またはクリンカ粉砕物に投入することにより、外部に放出される排ガス中の揮発性金属成分の濃度を低減することを特徴とするセメント製造排ガスの処理方法。 - 特許庁

The method has a first process of causing a liquid containing a first catalyst to permeate into a silica type coat formed on a substrate and a second process of hardening the coat after the treatment of the first process to obtain a silica type hardened coat.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明のシリカ系硬化被膜の形成方法は、基板上に形成されたシリカ系被膜内部に第1の触媒を含有する液体を浸透させる第1工程と、第1工程の後にシリカ系被膜を硬化してシリカ系硬化被膜を得る第2工程とを有するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrode 11 for the fuel cell is equipped with a process of forming the spacer member 2 at the peripheral part of the surface of the electrode base material 1, a process of coating a catalyst paste in a region surrounded by the spacer member 2, and a process of forming the catalyst layer 3 by crimping after drying the catalyst paste.例文帳に追加

本発明による燃料電池用電極11の製造方法は、電極基材1表面の周縁部にスぺーサ部材2を形成する工程と、スぺーサ部材2で囲まれる領域に触媒ペーストを塗布する工程と、触媒ペーストを乾燥した後、圧着して触媒層3を形成する工程とを備える。 - 特許庁

This method for evaluating the activation activity of a test substance toward the NK cells is characterized by comprising an activation process of giving the test substance to cell-lined natural killer cells, and an evaluating process for evaluating the cell-injuring activity of the natural killer cells after the activation process.例文帳に追加

本発明は、被験物質のナチュラルキラー細胞に対する賦活化活性を評価する方法であって、株化されたナチュラルキラー細胞に被験物質を与える賦活化工程と、賦活化工程の後に前記ナチュラルキラー細胞の細胞傷害活性を評価する評価工程とを含むことを特徴とする前記方法を提供する。 - 特許庁

The storage controller when performing a process in which the data input/output request that the host computer sends needs to be controlled sends a message informing the host computer of the start of execution of the process and executes the process after receiving a reply message to the message.例文帳に追加

記憶制御装置が、ホストコンピュータが送信する前記データ入出力要求を制御する必要のあるプロセスの実行に際し、前記ホストコンピュータに前記プロセスの実行開始を通知するメッセージを送信し、記憶制御装置が、前記メッセージに対する返答メッセージを受信した後に前記プロセスを実行するようにする。 - 特許庁

A manufacturing method of the lithium secondary cell comprises a process of putting the anode, the cathode and the nonaqueous electrolyte into a container to form the lithium secondary battery of not sealed open state; a process of charging the lithium secondary battery in the open state in a gaseous atmosphere containing carbon dioxide; and a process of sealing the lithium secondary battery after charging.例文帳に追加

負極と、正極と、非水電解質を容器に入れて、密封していない開放状態のリチウム二次電池を作製する工程と、二酸化炭素を含むガス雰囲気中で開放状態のリチウム二次電池を充電する工程と、充電後のリチウム二次電池を密封する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

The method of manufacturing the hydrogen separation membrane-electrolytic membrane junction (100) includes a hydrogen transmission treatment process in which a hydrogen separation membrane base material (10) is subjected to hydrogen transmission treatment at a specified temperature, and an electrolytic membrane forming process in which an electrolytic membrane (20) is formed on the hydrogen separation membrane base material after the hydrogen transmission treatment process.例文帳に追加

水素分離膜−電解質膜接合体(100)の製造方法は、水素分離膜基材(10)に所定の温度で水素透過処理を行う水素透過処理工程と、水素透過処理工程後に水素分離膜基材上に電解質膜(20)を成膜する電解質膜成膜工程とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a device forming process of forming the semiconductor device on a surface of a silicon wafer, and a gettering process of, after the device forming process, gathering metal in the wafer to a reverse surface side of the silicon wafer by applying a voltage between a top surface and the reverse surface of the silicon wafer so that the potential of the reverse surface is minus.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面に半導体デバイスを形成するデバイス形成工程と、前記デバイス形成工程後、前記シリコンウェーハの前記表面と裏面の間に、裏面がマイナスになるように電圧を印加してウェーハ中の金属を前記裏面側に集めるゲッタリング工程を含む、半導体デバイスの製造方法。 - 特許庁

The method performs the first fire-extinguishing process for jetting the mist of water toward a fire source at the primary stage of the occurrence of the fire and the second fire-extinguishing process for cooling the fire source to a temperature equal to or lower than an ignition temperature by jetting fog drips including water drips of a particle diameter larger than mist to the fire source after performing the first fire-extinguishing process.例文帳に追加

火災発生初期に火源元に向けて水のミストを噴出する第1消火工程と、第1消火工程を行った後に、火源元にミストよりも大きな粒子径の水滴を含む霧滴を噴出させてその火源元を着火温度以下の温度に冷却する第2消火工程とを行う。 - 特許庁

A motion controller 200 using a process advance type program has a means 400 of generating and storing a program storing reversible data of states right before and right after a process to be executed and putting data back into the reversible data in the state right before the execution, and the program can be executed at the end of the process.例文帳に追加

工程歩進型プログラムを使用したモーションコントローラ200において、実行される工程の直前と直後の状態の可逆データを記憶し、実行直前状態の可逆データに戻すプログラムを生成し記憶する手段400を有し、プログラムを工程終了時に実行可能とする。 - 特許庁

A recording method includes a coating process S22 for applying a light transmissive coating material, which is a coating material having optical transparency, onto an image coating material, which is a coating material composing an image drawn on a recording medium, and a heating and humidifying process S24 for heating and humidifying the light transmissive coating material after the coating process S22.例文帳に追加

記録媒体に描かれた画像を構成する塗料である画像塗料に、光透過性を有する塗料である透光塗料を重ねて塗布する塗布工程S22と、塗布工程S22の後に、前記透光塗料を加熱及び加湿する加熱加湿工程S24と、を含む、ことを特徴とする記録方法。 - 特許庁

On the basis of previously given production information, passage process information and cost information (S1), a reduction amount (loss amount in each process) in the amount of material resources before and after processing is calculated as a yield drop (S3) and registered as a loss appeal amount in all upper processes including the process concerned (S4).例文帳に追加

事前に与えられた生産量情報、通過工程情報、コスト情報(S1)に基づいて、各製品の工程毎に、歩留り落ちとして加工前後の物量の減少量(工程別損失量)を算出し(S3)、当該工程を含む上工程の全てに対して上工程での損失訴求量として登録する(S4)。 - 特許庁

Using a ceramic green sheet that can endure mechanical stresses in a detachment process for a carrier film, a lamination process for the green sheet or the like by adjusting a percentage of water of the ceramic green sheet after a drying process and/or an environment under which the ceramic green sheet is disposed, an ion-conducting solid electrolyte is manufactured.例文帳に追加

乾燥工程後のセラミックグリーンシートの水の含水率及び/又は該セラミックグリーンシートが置かれる環境を調整することにより、キャリアフィルムの剥離工程やグリーンシートの積層工程等における機械的ストレスに耐え得るセラミックグリーンシートを利用して、イオン伝導性固体電解質を製造する。 - 特許庁

The method is furnished with a molding process step of molding the diffractive optics by curing the photosetting resin material without heating, a parting process step of parting the molded goods formed by molding from molds and a curing process step of completely curing the molded goods parted from the molds by heating after irradiating the molded goods with light.例文帳に追加

光硬化性の樹脂材料を型上で加熱せずに硬化させて回折光学素子を成形する成形工程と、成形された成形品を型から離型する離型工程と、離型された成形品に光を照射した後に加熱することにより完全硬化させる硬化工程とを具備する。 - 特許庁

In the method for surface-grinding a semiconductor wafer sliced thinly, at least a cleaning process for removing the heavy metal before surface-grinding the semiconductor wafer is performed, and a surface-grinding process is performed after the cleaning process is performed.例文帳に追加

本発明は、薄板状にスライスされた半導体ウエーハを平面研削する方法であって、少なくとも、前記半導体ウエーハを平面研削する前に重金属を除去する洗浄工程を行い、該洗浄工程を行った後に平面研削工程を行うことを特徴とする半導体ウエーハの平面研削方法を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method for forming a multi-layered coating film capable of dispensing with a heat-curing process after coating with an electrodeposition paint from the process saving view point and capable of forming the multi-layered coating film having an excellent finished appearance to coating with an electrodeposition paint and a solvent type paint by a wet-on-wet process.例文帳に追加

省工程の観点から電着塗料塗装後の加熱硬化工程を省くことができ且つ優れた仕上がり外観の複層塗膜を形成せしめることができる、電着塗料及び溶剤型塗料をウェット・オン・ウェットで塗装するための改良された複層塗膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

An advancing process for compensating a response delay of intake/exhaust of the supercharger and an advancing process for compensating a response delay of the actuator 62 itself are independently performed by an advancing process means 65 relating to the operating target value, the actuator 62 is controlled by a control means 66 so as to obtain the operating target value after these advancing processes.例文帳に追加

過給機・吸排気の応答遅れを補償するための進み処理とアクチュエータ62そのものの応答遅れを補償するための進み処理とを前記作動目標値に対して進み処理手段65が独立に行い、これら進み処理後の作動目標値となるようにアクチュエータ62を制御手段66が制御する。 - 特許庁

The method of manufacturing the C/C composite is performed by applying a carbon black (CB) impregnation process, a pitch impregnation/firing process and a thermosetting resin impregnation/firing process to a preform composed of a carbon fiber having a three-dimensional network structure at least once and densifying the surface of the preform with the thermoplastic resin after machining.例文帳に追加

三次元網目構造を有するカーボンファイバより成るプリフォームに、CB含浸工程、ピッチ含浸・焼成工程、及び熱硬化性樹脂含浸・焼成工程を少なくとも1回施し、機械加工後に熱硬化性樹脂を用いて該プリフォーム表面を緻密化処理するC/Cコンポジットの製造方法である。 - 特許庁

In this method for producing the low Ti steel, a process for melting the scrap by adding slag-making agent into the electric furnace, a process for slag-off after tapping molten steel into a ladle under the state of leaving the produced slag and a process for reduction-refining the molten steel in the ladle are alternately repeated at least each two times.例文帳に追加

電気炉内で造滓材を添加してスクラップを溶解する工程と、生じたスラグを残留させた状態で溶鋼を取鍋内に出鋼したのち、スラグオフ工程と、この取鍋中の溶鋼を還元精錬する工程とを交互に少なくとも2回ずつ繰り返す低Ti鋼の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the high hardness diamond crystal includes a process for forming a synthetic diamond crystal having a nitrogen content of ≤3 ppm, a process for irradiating the synthetic diamond crystal with neutron, and a process for heat-treating the synthetic diamond crystal at a temperature of 800-2,000°C within 1 h after irradiation with neutron.例文帳に追加

窒素含有量が3ppm以下の合成ダイヤモンド結晶を形成する工程と、合成ダイヤモンド結晶に中性子を照射する工程と、中性子の照射後に合成ダイヤモンド結晶を800℃以上2000℃以下の温度で1時間以下熱処理する工程とを含む高硬度ダイヤモンド結晶の製造方法である。 - 特許庁

After the extracted cell body is removed from the binarized image, an image mainly including line elements is obtained, a line thinning process is applied to the image whose cell body is removed and a line thinned image having a line width of one pixel in the line element is obtained, a noise removing process is applied and an image processed by a cell protrusion extraction process is obtained.例文帳に追加

そして抽出された細胞本体部を二値化画像から除去して、線要素を主に含む画像を取得し、細胞本体部が除去された画像に対して細線化処理を行って、線要素の線幅が1画素の細線化画像を得た後、ノイズ除去処理を行って細胞突起抽出処理画像を得る。 - 特許庁

The output value of the planar antenna 6, obtained prior to the toner sealing member S for the process cartridge B is removed, is stored by a storing means 20 for the process cartridge B, then the toner quantity is measured after the process cartridge B is loaded to the device main body 14, and the toner quantity detection value by the planar antenna 6 is corrected by using the two values.例文帳に追加

プロセスカートリッジBのトナーシール部材Sを除去する前の平面アンテナ6の出力値をプロセスカートリッジBの記憶手段20に記憶させておき、装置本体14にプロセスカートリッジBを装着後にトナー量測定を実施し、この2つの値を用いて平面アンテナ6によるトナー量検出値を補正する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a process of preliminary charging the uncharged battery in which a power generation element comprising a positive electrode, a negative electrode, a separator, and a non-aqueous electrolytic solution is housed in an outer package member, a process of pressurizing the battery of preliminary charging by a high pressure gas, and a process of finally charging the battery after pressurization.例文帳に追加

外装部材に正極、負極、セパレータおよび非水電解液を有する発電要素を収納した未充電の電池を予備充電する工程と、前記予備充電の電池を高圧力の気体により加圧する工程と、加圧後の電池を本充電する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The transistor including the oxide semiconductor film on which the dehydration or dehydrogenation process by heat treatment has been performed and on which the oxygen doping process has been performed in the manufacturing process, has a smaller amount of change in the threshold voltage of the transistor before and after the bias-thermal stress test (BT test), and therefore the transistor has high reliability.例文帳に追加

熱処理による脱水化または脱水素化処理を行った酸化物半導体膜を含み、且つ、作製工程において酸素ドープ処理されたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験(BT試験)前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減できており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 - 特許庁

例文

The method comprises a die casting process which forms aluminum die-cast materials with a substantially constant configuration of a cross section having an odontoid process in the centrifugal or centripetal direction and a sizing process to perform sizing after aluminum die-casting materials are heated and annealed.例文帳に追加

本発明の断面一定のアルミニウム製品の製造方法は、ダイカスト法により遠心方向あるいは求心方向に歯状突起を持つ略断面一定形状のアルミダイカスト材を形成するダイカスト工程と、アルミダイカスト材を加熱して焼鈍した後に、サイジングを行うサイジング工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁




  
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