「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming an element isolation film of a semiconductor device, which improves roughness of a trench side wall by implementing a predetermined cleaning process after element isolating trench etching, and forms a uniform side wall oxide film by skipping a PET process.例文帳に追加

素子分離用トレンチエッチング後に所定の洗浄工程を実施してトレンチ側壁の粗さを改善でき、ＰＥＴ工程を省略して均一な側壁酸化膜を形成できる半導体素子の素子分離膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

The outside member of the thread-rolling round die is formed into a new screw part by machining or grinding in a screw part reforming process 22 after removing the screw part from the planetary round die 10 by machining or grinding in a screw part removing process 21.例文帳に追加

ねじ転造丸ダイスの外側部材は、ねじ部除去工程２１によって、プラネタリ丸ダイス１０からねじ部が切削又は研削により除去された後、ねじ部再成形工程２２によって、新たなねじ部が切削又は研削により成形される。 - 特許庁

It is preferable to further include a heat treatment process for carrying out heat treatment of a formed chemical conversion coating film, and a film increase treatment process bringing the chemical conversion coating film after the heat treatment into contact with the mixed solution of sodium aluminate, sodium hydroxide and sodium oxalate to provide a thick film.例文帳に追加

好ましくは、更に、生成した化成皮膜を熱処理する、熱処理工程と、熱処理後の化成皮膜を、アルミン酸ナトリウムと、水酸化ナトリウムと、しゅう酸ナトリウムとの混合溶液に晒して、厚膜化する、増膜処理工程と、を有する。 - 特許庁

This method of manufacturing a non-single crystalline film comprises a first process of optimizing laser irradiation and monitoring it with a diffracted light after the non-single crystal film is formed, and a second process of irradiating a substrate with a laser beam, keeping it in a cooled state.例文帳に追加

本発明の非単結晶膜の製造方法は、第１に、非単結晶膜を形成した後、回折光でモニタリングしてレーザ照射を最適化するようにし、第２に、基板を冷却した状態で、レーザ照射を行うようにする。 - 特許庁

Further, digital voice data after the authentication data process of a protecting process part 20 are transferred from a general interface circuit part 19 and the authenticating data processing of the digital voice data inputted from the general interface circuit part 19 is performed by a protecting processing part 20.例文帳に追加

また、プロテクト処理部２０で認証データ処理を行ったデジタル音声データを汎用インタフェース回路部１９から転送し、汎用インタフェース回路部１９から入力したデジタル音声データの認証データ処理をプロテクト処理部２０で行う。 - 特許庁

To prevent slurry adhered to a wafer from being dried after completion of a cutting process, and thereafter easily and quickly clean-remove the slurry adhered to the wafer in the later washing process.例文帳に追加

ワークの切断加工の終了後に、ウエハに付着しているスラリが乾燥するのを防止することができて、その後の洗浄工程において、ウエハに付着しているスラリを容易かつ短時間に洗浄除去することができるワイヤソーを提供する。 - 特許庁

A sensitization heat treatment process (c) is applied after deep drawing (b-2) of a molding forming process, and thereby, residual stress generated on a cylinder body formed by deep drawing can be released, and stress crack of the cylinder body can be suppressed.例文帳に追加

成形体形成工程の深絞り加工（ｂ−２）の後に鋭敏化熱処理工程（ｃ）を施すことにより、深絞り加工により形成されたボンベ本体に生じる残留応力を緩和してボンベ本体の応力割れを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a sealing structure for a circuit board case capable of preventing the fraudulent modification of a board sealed in the circuit board case, being quickly openable at an inspection, facilitating a recycling process after use, and reducing the recycling process cost.例文帳に追加

回路基板ケースに封入された基板の不正な改造を防止できると共に検査時には速やかに開放できるのみならず、使用後のリサイクル処理が容易でリサイクル処理コストの低減も図ることができる回路基板ケースの封止構造を得る。 - 特許庁

To provide a production process by which cracks can surely be prevented from being caused in the crystal and the crystal quality can be maintained, in a cooling stage for the grown crystal after the growth of a compound semiconductor single crystal, and also to provide the device for the production process.例文帳に追加

結晶育成後の冷却工程において結晶にクラックが入る事態を確実に防止できると共に結晶品質を維持することのできる化合物半導体単結晶の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

There is provided a reduction treating process to the variable resistor in anywhere of a process step after forming a film of a variable resistor material, thereby raising the resistance value of the variable resistive element which becomes low too much in the conventional manufacturing method.例文帳に追加

可変抵抗体材料を成膜した以降の工程ステップのどこかに、可変抵抗体に対する還元処理工程を設けたので、従来の製造方法では低すぎた可変抵抗素子の抵抗値を上昇させることが可能となった。 - 特許庁

In a control device 17, a process simulation in the case where the center of the work W is clamped with the main clamp 29 in deciding the original point of the work W, is made previously to calculate the position of clamp change after the first time in this process simulation.例文帳に追加

制御装置１７ではワークＷの原点位置決め時にワークＷの中心をメインクランプ２９でクランプした場合の工程シミュレーションを事前に行ない、この工程シミュレーションにおける第１回目以降の掴み換え位置を算出する。 - 特許庁

This reduces the noise owing to the thinned gate oxide film of the amplifying transistor of the pixel, reduces a power consumption owing to the lowered voltage of the logic circuit and the shift register, quickens the speed, and lowers the noise of the device without an addition of a process after the dual oxide process.例文帳に追加

これにより、デュアルオキサイドプロセスからの工程追加無く、画素の増幅トランジスタのゲート酸化膜の薄膜化によるノイズ低減と、論理回路やシフトレジスタの低電圧化による低消費電力化、高速化、低ノイズ化が実現される。 - 特許庁

Then, a noble metal chip bonding process in which the noble metal chip is bonded in a forward direction of the tip part after that tip part molding process, thereby the center electrode 2 having the convex part 2k consisted of the metallic member for the spark consumption resistance is obtained.例文帳に追加

そして、その先端部成形工程後に前記先端部の前方側に貴金属チップを接合する貴金属チップ接合工程が行われることにより、耐火花消耗用金属部材からなる凸部２ｋを有する中心電極２が得られる。 - 特許庁

The control part 6 executes a process of reducing noise by an image processing part 5 to a pixel output value of the horizontal OB region 51 of the imaging element 1, and determines whether the output level of the pixel output value after the process is within a set range.例文帳に追加

制御部６は、撮像素子１の水平ＯＢ領域５１の画素出力値に対し画像処理部５によりノイズを低減する処理を行い、処理後の画素出力値の出力レベルが設定範囲にあるか否かを判定する。 - 特許庁

The method for manufacturing the harmful-substance removing material containing a carrier carrying the chicken egg antibody includes a process of filtering a solution containing the chicken egg antibody with a filter of a size of 0.5 μm or less and a process of adhering the solution after filtration to the carrier.例文帳に追加

鶏卵抗体を含有する溶液を孔径０．５μｍ以下のフィルターで濾過すること、及び前記濾過後の前記溶液を担体に付着させることを含む鶏卵抗体を担持した担体を含む有害物質除去材の製造方法。 - 特許庁

The alignment sealing room 6 includes a positioning mechanism as well as a heating mechanism, in which a front panel and a rear panel are heated to be sealed after positioning is processed, and the positioning process and the sealing process can be carried out in one treatment chamber.例文帳に追加

アライメント封着室６は位置合わせ機構の他に加熱機構を有しており、位置合わせが終了した後にフロントパネル及びリアパネルを加熱して封着することができ、位置合わせ工程と封着工程とを一つの処理室で行うことができる。 - 特許庁

After the molding process, a positioning process for holding the second shaft part 63 of the optical molded part 60 taken out of the mold to perform the positioning of the optical element when the optical function related part is formed to the optical element (step S2) is performed.例文帳に追加

成形工程後に、金型内から取り出された光学成形部品６０の第二軸部６３を保持して、光学素子に光学機能関連部を形成する際の当該光学素子の位置決めを行う位置決め工程を行う（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide a communication system that avoids the concentration of load on a management server and that performs a charging process and a connecting process after ensuring the state of communication even in the case of P2P communication where direct communication is performed end-to-end; and to provide its control method.例文帳に追加

管理サーバへの負荷集中を避けると共に、エンド／エンドで直接通信をするＰ２Ｐ通信においても、該通信状態を把握した上で課金処理や接続処理を行う通信システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sulfuric acid-resistant cement composition for a spraying process which can prevent the spalling and sagging of cement mortar directly after spraying, can thicken a spraying thickness, remarkably reduce a rebound amount, has increased adhesion, and also has excellent sulfuric acid resistance, and to provide a spraying process.例文帳に追加

吹付け直後の吹付けセメントモルタルの剥落やダレを防止でき、吹き厚を厚くすることができ、リバウンド量を大幅に低減し、付着性が増し、かつ、耐硫酸性に優れる吹付け用耐硫酸セメント組成物及び吹付け工法を提供すること。 - 特許庁

If the water level detection unit 40 does not detect water level equal to or higher than second predetermined water level even after a lapse of predetermined time from the commencement of the water supply process, the water supply process is suspended and the weight detection unit 73 detects the weight of the inside of the water tank again.例文帳に追加

給水過程が開始されてから所定時間が経過しても、水位検出部４０が第２所定水位以上の水位を検出しない場合、給水過程中断後、重量検出部７３は再び水槽内重量を検出する。 - 特許庁

After completion of the fixing process, the fixing belt 21 is cooled by contacting the radiation member 40 with the peripheral side of the heated fixing belt 21 to radiate heat when a user needs a prescribed operation, for such as a jam process.例文帳に追加

定着処理終了後、ジャム処理などのためにユーザにおいて所定の動作が必要とされた場合などには、熱せられている定着ベルト２１の周側に放熱部材４０を接触させて放熱させることにより、定着ベルト２１を冷却する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a process for cleaning an original plate 3 having a transfer pattern, and a process for transferring the transfer pattern to a pattern forming material 2 formed on a transferring substrate 1 before the allowable leaving time of the original plate 3 after cleaning passes.例文帳に追加

転写パターンを有する原板３を洗浄する工程と、原板３を洗浄した後の原板３の許容放置時間が経過する前に、転写パターンを被転写基板１に形成されたパターン形成材料２に転写する工程と、を備える． - 特許庁

A head recovery drive-controller 66 of the inkjet recording apparatus 1 performs a head recovery process when an elapsed time Tc1 after a last head recovery process exceeds a first time T1 based on the result counted by a maintenance timer 69.例文帳に追加

インクジェット記録装置１のヘッド回復駆動制御部６６は、メンテナンスタイマー６９の計測結果に基づき、最後のヘッド回復処理が行われた後からの経過時間Ｔｃ１が第１の時間Ｔ１を超えると、ヘッド回復処理を実行する。 - 特許庁

The centering and edging of the optical element are performed during a cooling process step from the end of pressing to die parting, by which the centering and edging are completed during a forming process and therefore the post processing after the forming can be completely omitted.例文帳に追加

プレス終了後から離型するまでの冷却工程中に光学素子の芯取り加工を行うことで、成形プロセス中に芯取り加工を終了してしまうため、成形後の後加工を１つ完全に省略することが可能となる。 - 特許庁

An etching waste liquid treatment method has the process of distilling the etching waste liquid obtained after the etching processing of a material to be etched with a hydrochloric acid-containing etchant, and the process of obtaining hydrochloric acid by subjecting the distillate obtained by the distillation to reduction treatment.例文帳に追加

本発明のエッチング廃液の処理方法は、塩酸を含むエッチング液によって被エッチング材をエッチング加工した後のエッチング廃液を蒸留する工程と、蒸留して得られた留出液を還元処理して塩酸を得る工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flash memory cell wherein an increase in thickness of an oxide film in a dielectric film can be restrained in a heat treatment process for compensating etching damage after an etching process for forming a stack gate is performed.例文帳に追加

スタックゲートを形成するためのエッチング工程を行った後、エッチング損傷を補償するための熱処理工程で誘電体膜内の酸化膜の厚さ増加を抑制することが可能なフラッシュメモリセルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method dispenses with a process of forming the predip material 2 after mounting each LED chip 1 on the lead frame 5 since this forms the predip material 2 in wafer condition, and can simplifies the manufacturing process of the semiconductor light emitter.例文帳に追加

本発明は、ウエハの状態でプレディップ材２を形成するため、各ＬＥＤチップ１をリードフレーム５にマウントした後にプレディップ材２を形成する工程が不要となり、半導体発光装置の製造工程を簡略化することができる。 - 特許庁

In this rice cooker, heating modes are changed at least three times for every heating output set differently between prescribed temperatures or times at least in the final process of cooking where water is removed through boiling after a water absorbing process in a rice cooking mode.例文帳に追加

炊飯モードでの少なくとも吸水工程後の沸騰を経て水分を無くしていく炊き上げにおける所定の温度または時点間で異なって設定される加熱出力ごとに、３回以上の変化を与えるように制御する。 - 特許庁

After manufacturing the dental product and before delivering the dental product, a process for creating a data packet of the dental product according to a data format of order data, and a process for comparing the order data with the data packet of the dental product are executed.例文帳に追加

歯科用製品の製造後かつこの歯科用製品の発送前に： 注文データのデータフォーマットに従って歯科用製品のデータパケットを作成する工程と； 注文データと歯科用製品のデータパケットとの間の比較を行う工程とが実施される。 - 特許庁

The machining period is specified as a period from a start time of machining the work in a proximate production process using the class 1 type facility, until the start time of machining the work in a production process immediately after using the class 1 type facility.例文帳に追加

その加工期間は、直前の第１種の設備を用いる生産工程におけるワークの加工の開始時刻から、直後の第１種の設備を用いる生産工程におけるワークの加工の開始時刻までの期間として特定される。 - 特許庁

Then, after a rinse process removing residual electrolyte solution on the porous crystalline silicon layer 4, a drying process using freeze-drying is execute and then, a high electric field drift layer 6 is formed by oxidizing the porous polycrystalline silicon layer 4.例文帳に追加

その後、多孔質多結晶シリコン層４に残留している電解液を除去するリンス工程を行った後に、凍結乾燥を利用した乾燥工程を行い、その後、多孔質多結晶シリコン層４を酸化して強電界ドリフト層６を形成する。 - 特許庁

Alternatively, a structure is provided in which an acceleration and deceleration process for achieving response of the position of the structure to be driven and machine base displacement without vibration and a control structure which determines a feed forward amount with respect to a position instruction value after the acceleration and deceleration process are provided for the position controller.例文帳に追加

又は、駆動体位置と機台変位を無振動応答化するための加減速処理と、この加減速処理後の位置指令値に関して、フィードフォワード量を決定する制御構造を位置制御装置に加える構成とする。 - 特許庁

Therefore, the sufficient heat radiating performance can be achieved without increasing the heat radiating performance of a single piece of the first outdoor heat exchanger 8, even when the radiation load is increased, for example, immediately after a desorption process is transferred to an absorption process.例文帳に追加

これにより、脱離工程から吸着工程に移行した直後等の放熱負荷が大きくなるときであっても、第１室外熱交換器８単体の放熱能力を大きくすることなく、十分な放熱能力を得ることができる。 - 特許庁

After the execution of a plate discharging process by a plate discharging means 18 and prior to the winding process of the master the plate of which has already been manufactured, air is discharged by the air discharging means 15 while the printing drum 8 is rotated, so that an ink viscosity on the printing drum 8 is equalized.例文帳に追加

排版手段１８による排版処理実行後で製版済みのマスタを巻装する処理前に、印刷ドラム８を回転させながらエアー吐出手段１５によりエアーを吐出させ、印刷ドラム８上のインキ粘度の均一化を図る。 - 特許庁

While the clamp member 5i grips and transfers the workpiece Wi, the workpiece Wi is turned over due to the engagement mechanism and released from the gripped state after transferred to the process stage 4j so that the workpiece Wi turned-over is placed on the process stage 4j.例文帳に追加

クランプ部材５iがワークＷiを把持して移送する際に、前記歯合関係によってワークＷiが反転せしめられ、加工ステージ４jへ移送された段階で把持状態を解除することで、反転したワークＷiが加工ステージ４jに載置される。 - 特許庁

The method comprises a measuring process wherein a natural oscillation cycle of an ink pressure in a pressurizing chamber on the recording head after the assembling and a ranking process wherein the assembled recording heads are classified into a plurality of Tc ranks.例文帳に追加

組立後の記録ヘッドにおける圧力室内のインク圧力の固有振動周期を測定する測定工程と、測定工程で得られた固有振動周期に基づき、組立後の記録ヘッドを複数のＴｃランクに分類するランク分け工程を経る。 - 特許庁

The component is carried out, in case of the component, from the passage for the worker to leave, when carried out from the process chamber in order to be cleaned by the common cleaning device, and is carried in from the passage for the worker to come in the process chamber, after cleaned.例文帳に追加

そして、部品については、共通の洗浄装置により洗浄するために工程室から搬出するときには作業者が出て行く通路から搬出し、洗浄した後は作業者が工程室に入る通路から搬入する。 - 特許庁

The standby period is specified as a period from the start time of machining the work in the production process, immediately after using the class 1 type facility, until the start time of machining of the work in a proximate production process by using the class 1 type facility.例文帳に追加

その待機期間は、直後の第１種の設備を用いる生産工程におけるワークの加工の開始時刻から、直前の第１種の設備を用いる生産工程におけるワークの加工の開始時刻までの期間として特定される。 - 特許庁

A ferroelectric memory element is formed by removing the etching resistant mask TiN film 42a in a third dry etching process after a second dry etching process for removing deposit sticking on the etching resistant mask TiN film 42a by the first dry etching.例文帳に追加

第１のドライエッチングにより耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａ上に付着した析出物を除去する第２のドライエッチング工程を経て、第３のドライエッチング工程で耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａを除去して、強誘電体メモリ素子を形成する。 - 特許庁

This measuring recording device for performing trend recording of the measurement result of the batch process in a wave shape following lapse of time is characterized by printing and recording information on the attribute of the batch process on at least either before or after trend recording.例文帳に追加

バッチプロセスの測定結果を時間の経過に伴う波形状にトレンド記録する測定記録装置であって、 トレンド記録前後の少なくとも一方に、そのバッチプロセスの属性に関する情報を印字記録することを特徴とするもの。 - 特許庁

Each of the draining drying tank group 6 includes: a hot pure water pulling-up tank 11 (a water pulling-up process) for pulling up the washed object after immersing it; and a solvent drying tank 13 (a solvent drying process) for applying vapor of a drying solvent taking in water.例文帳に追加

水切り乾燥槽群６は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽１１（水引き上げ工程）と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽１３（溶剤乾燥工程）を含む。 - 特許庁

The method for treating a catalyst permits the recovery of the catalyst used in the production process of the carbamate after the thermal decomposition process and therefore reduces a production cost of the isocyanate while permitting industrially efficient production of the isocyanate.例文帳に追加

このような触媒処理方法によれば、カルバメート製造工程において用いられる触媒を、熱分解工程の後に回収できるため、工業的に効率良くイソシアネートを製造できながら、そのイソシアネートの製造コストを低減できる。 - 特許庁

To provide a resin film and its production process and an electronic device and its production process, wherein a functional element is easily formed with high accuracy on the resin film supported by a support, and the resin film easily exfoliate from the support after forming the functional element.例文帳に追加

支持体によって支持した樹脂フィルムに機能素子を高い精度で形成し易く、かつ、機能素子を形成した後、支持体から剥離し易い樹脂フィルム及びその製造方法並びに電子デバイス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After the formation of a wiring layer by a thin film formation process, the coil is formed by forming a new wiring layer on the upper layer of the wiring layer by the thin film formation process, and repeating lamination of the wiring layers.例文帳に追加

ここで前記コイルの形成は、薄膜形成プロセスによって配線層を形成した後、当該配線層の上層に前記薄膜形成プロセスによって新たな配線層を形成し、これら配線層の積み重ねを繰り返すことで行うようにした。 - 特許庁

The method for producing the pigment dispersion incnludes a dispersion process for mixing and dispersing a pigment, a pigment dispersant, an alkylene oxide adduct of glycerin, a water-insoluble volatile solvent, and water; and a volatile solvent removal process for removing the water-insoluble volatile solvent after dispersing treatment.例文帳に追加

顔料、顔料分散剤、グリセリンのアルキレンオキシド付加物、非水溶性揮発性溶剤、及び水を混合して分散する分散工程と、分散後に前記非水溶性揮発性溶剤を除去する揮発性溶剤除去工程とを有している。 - 特許庁