「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve engine efficiency and exhaust emission in starting by avoiding a situation wherein a regeneration process of a PM filter is necessary right after starting.例文帳に追加

この発明は、始動直後にＰＭフィルタの再生処理が必要となる状況を回避し、始動時の機関効率や排気エミッションを向上させることを目的とする。 - 特許庁

To obtain a recording paper that suppresses a temporary reduction in signal strength caused by a magnetic fiber even immediately after image formation by an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真法により画像を形成した直後においても、磁性繊維に起因する信号強度の一時的な低下を抑制することができる記録用紙を提供すること。 - 特許庁

After a gate electrode 4a is formed, an RIE process is so carried out that a region for forming a contact hole 5 becomes a projected smooth surface in the active region 3.例文帳に追加

ゲート電極４ａを形成した後に、活性領域３のコンタクトホール５を形成する領域の表面を上に凸の滑らかな表面となるようにＲＩＥ加工する。 - 特許庁

Image data stored in the memory 103 for storing reduced images are to be performed the decoding process by being used after being expanded as needed at the time of occurrence of errors.例文帳に追加

縮小画像格納用メモリ１０３に格納された画像データは、エラー発生時に必要に応じて拡大し利用することにより復号化処理を行う。 - 特許庁

The resource identifier selection part 106 after performing a specific selecting process for the resource identifier taken out of the resource identifier storage part 107 passes it to a resource gathering agent 101.例文帳に追加

そして、インデックスから取り出した識別子に該当する資源を取得するために、一定数の資源収集エージェントが起動され、且つ、並列的に動作する。 - 特許庁

After back grinding is applied, the wafer W stuck with the protecting tape T1 is released via a release tape stuck on the surface of the protecting tape T1 in a release process.例文帳に追加

保護テープＴ１が貼り付けられたウエハＷは、バックグラインド処理が施され後、剥離工程で保護テープＴ１の表面に貼り付けられた剥離テープを介して剥離される。 - 特許庁

When the conversion flag is set at '1' (S307: YES) after the conversion chance process is executed, the jackpot flag is set at '1' (S308), and processes S303 and S304 are executed.例文帳に追加

移行チャンス処理後に移行フラグが１にセットされていれば（Ｓ３０７：ＹＥＳ）、大当たりフラグを１にセットして（Ｓ３０８）、Ｓ３０３及びＳ３０４を実行する。 - 特許庁

Further, since the specimen treatment apparatus can smoothly be transferred to an inspection process after the release of the resting state of the measuring instrument 10, wasteful power consumption can be avoided.例文帳に追加

また、休止状態の解除の後、装置を検査工程へと円滑に移行させることができるため、無駄に電力が消費されるのを回避することができる。 - 特許庁

After substrate treatment in a device has been suspended, the resumption of treatment by either of 'washing drying unloading mode', 'arbitrary process continuation mode', and 'treatment bath continuation mode' is specified and inputted.例文帳に追加

装置における基板処理が中断した後、「水洗乾燥払出モード」、「任意工程続行モード」、「処理槽続行モード」のいずれかによる処理再開を指定・入力する。 - 特許庁

To form a magnetoresistive element having improved characteristics by preventing the characteristics of the magnetoresistive element from being deteriorated in a process performed after forming the magnetoresistive element.例文帳に追加

磁気抵抗素子を形成した後に行われる工程における磁気抵抗素子の特性の劣化を防止し、良好な特性を有する磁気抵抗素子を形成する。 - 特許庁

After that, the surface of the worked pattern is made smooth by applying, an etch to the roll surface of the mold roll base material so as to form a final molding pattern at the process 103.例文帳に追加

その後、金型ロール基材のロール面に腐食処理（エッチング処理）を施して加工パターンの表面を滑らかにし、最終的な成型パターンを形成する（工程１０３）。 - 特許庁

To provide an aluminum alloy sheet for can ends which can be manufactured by cold rolling without interposing a process annealing step between cold rolling steps after hot rolling and in which 0 to 180° earing is reduced at drawing and anisotropy is improved and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

絞り成形時に０−１８０°耳の小さな異方性に優れた缶エンド用アルミニウム合金板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the overlook of a common defect in a die comparison system and a post-process due to double counting of the defect existing in a reference image after inspection and realize an efficient inspection.例文帳に追加

ダイ比較方式の共通欠陥の見逃し、及び参照画像に存在する欠陥のダブルカウントによる検査後処理を軽減し、効率的な検査を実現する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for forming a stable image even after repeated use, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

繰り返し使用しても安定な画像を形成することの出来る電子写真感光体、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a novel and improved organic electroluminescent display for preventing warping or damage of a substrate during or after a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中または製造工程後の基板の反り及び損傷を防止することが可能な、新規かつ改良された有機電界発光表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of using recovered iron generating in a steelmaking process, which controls foam generation from the recovered iron, when refining iron after charging the recovered iron in a refining vessel.例文帳に追加

地金を精錬容器内に入れ置き精錬する際、地金からのフォーミングの発生を抑制して精錬し得る、製鉄工程で発生する地金の使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide the forming method of a temperature conversion function by which a heat treatment temperature at which a processed material is exposed in a heat treatment process after heat treatment, and temperature distribution is obtained with higher accuracy.例文帳に追加

熱処理後にその熱処理工程で晒された熱処理温度や温度分布を精度良く求めることが可能な温度換算関数の形成方法を提供する。 - 特許庁

A binarization processing unit 106 converts a printing object image into a binary image using the number of lines information and the screen angle information to be each acquired after the adjusting process.例文帳に追加

２値化処理部１０６は、上記調整処理後に得られる線数情報とスクリーン角情報とを用いて印刷対象画像を２値画像に変換する。 - 特許庁

Further, a process in which the light-emitting filling (20) collected at a site of the center of the light-emitting part (3) is solidified after being melted so as to hardly move is preferably included.例文帳に追加

さらに発光部（３）中央の１箇所に集めた発光封入物（２０）を溶融後に凝固させて移動しにくくする工程も含むことが好ましい。 - 特許庁

A display control part 280 first review-displays the representative image on a display part 285 based on a control by the control part 230 immediately after the generation process ends.例文帳に追加

表示制御部２８０は、制御部２３０の制御に基づいて、その生成処理が終了した直後に代表画像を表示部２８５に最初にレビュー表示させる。 - 特許庁

Specifically, both outside surfaces of the sintered compact body 37 after the wrapping process are polished by using polycrystal diamond abrasive grains 41 with an average particle diameter (D50) of 9 μm.例文帳に追加

具体的には、平均粒径（Ｄ５０）が９μｍの多結晶ダイヤモンド砥粒４１を使用して、ラッピング加工後の焼結体本体３７の両外側表面を研磨した。 - 特許庁

If the HC adhesion amount is less than a predetermined value S2 after start of the process for promoting the oxidation removal of the HC (S9), opening of the intake throttle is returned to the original state (S10).例文帳に追加

また、ＨＣの酸化除去を促進させる処理が開始された後、ＨＣ付着量が所定値Ｓ2未満になれば（Ｓ９）、吸気スロットルの開度を元に戻す（Ｓ１０）。 - 特許庁

The transfer process is executed using a condition set based on data related to at least either of the dimension and the shape of the pattern of the processing object film after processing.例文帳に追加

転写工程は、加工後の被加工膜のパターンの寸法及び形状の少なくともいずれかに関するデータに基づいて定められた条件を用いて実施される。 - 特許庁

Since ignition timing control by a knocking control process is allowed after when a cooling water temperature is ≥60°C before updating of the knocking determination threshold J(i), it can be started at an early stage during warming up.例文帳に追加

ノッキング制御処理による点火時期制御はノック判定閾値Ｊ（ｉ）更新前にて冷却水温≧６０℃以後に許可されるため暖機中の早期に開始できる。 - 特許庁

When the intermediate transfer belt 2 is separated from a color photoreceptor 3 after the primary transfer process, the rotation of a cooling fan in the apparatus is temporarily stopped (or decreased).例文帳に追加

１次転写処理が終わり、中間転写ベルト２がカラーの感光体３から離間される際に、機内の冷却ファンの回転を一定時間停止（または減速）させる。 - 特許庁

To provide a method of COD simulation capable of estimating a COD concentration in treated water after biological aerobic treatment of ammoniacal liquor generated in a coke production process and an apparatus thereof.例文帳に追加

コークス製造工程で発生する安水の生物学的好気処理後の処理水中ＣＯＤ濃度を予測可能なＣＯＤシミュレーション方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a power semiconductor device capable of reducing unevenness in characteristics by reducing unevenness in thickness of an insulating film after a CMP process.例文帳に追加

本発明は、ＣＭＰ処理後の絶縁膜の膜厚のバラツキを低減して特性のバラツキを低減させることが可能な電力半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

If the sample processing device is rotated after the opening is formed, the selected portion of the material located closer to the axis of rotation exits the process chamber through the opening.例文帳に追加

開口の形成後、試料プロセッシングデバイスを回転させる時、回転軸のより近位に位置する材料の選択された部分は開口を通してプロセスチャンバーを出る。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a substrate in which the damage of a substrate after the removal of a thin film is reduced, and the process load of repolishing is reduced as well, thus the regeneration cost of the substrate can be reduced.例文帳に追加

薄膜除去後の基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる基板の再生方法を提供する。 - 特許庁

The run length of a binary image A with a dot dispersion dither matrix is increased by an image arranging process (104), and the image is run-length-coded (100) after reducing short runs.例文帳に追加

ドット分散型ディザマトリクスによる２値画像（Ａ）は、画素並び替え処理（１０４）によりラン長を増大し、短ランを削減してからランレングス符号化（１００）される。 - 特許庁

To provide a bismuth-based lead-free sealing material which can be sufficiently softened and fluidized, has a high degree of crystallinity, and can not be again fluidized in a heating process after crystal deposition.例文帳に追加

十分に軟化流動し、しかも結晶化度が高く、結晶析出後の加熱工程で再流動することのないビスマス系無鉛封着材料を提案する。 - 特許庁

To provide a method for producing a rare earth-activated fluorinated barium halide fluorescent substance which has no worsened performances in erasure and image-storage even after treated in a burning process.例文帳に追加

焼成工程を経ても、消去特性及び残像特性が悪化することがない希土類賦活弗化ハロゲン化バリウム系蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A constant voltage can be applied to the electrostatic shield conductive film 60 through a common pad 61, a ground connection line 64, etc., in the manufacturing process and after the completion of the product.例文帳に追加

静電シールド導電膜６０に、製造工程および製品完成後において、コモンパッド６１、アース接続線６４等を通して一定電圧を印加できる構成とする。 - 特許庁

To provide an image outputting device which can be performed without operating a frame memory by two screens to process a correction of the image data including the errors after an expansion processing.例文帳に追加

伸張処理後のエラーを含む画像データについて補正処理するために、２画面分フレームメモリを使用せずに行うことができる画像出力装置を提供する。 - 特許庁

To perform an electric conduction inspection just after a flexible wiring board is connected with a plasma display panel without lighting up the plasma display panel to send only passed items to a subsequent process.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにフレキシブル配線基板を接続した後、プラズマディスプレイパネルを点灯することなく、導通検査を直ちにおこない、良品のみを後工程に流す。 - 特許庁

In addition, the remaining sheet in the sheet feeding route R is forcibly ejected by driving the respective process parts except the sheet feeding part after taking out a jammed sheet in the case of the sheet jam.例文帳に追加

また、シートジャム時、ジャムシートを取り出した後、シート供給部以外の各工程部を駆動することにより、シート搬送経路Ｒ内の残存シートを強制排出する。 - 特許庁

To provide a soft metal conductor where hardness on an uppermost surface without abrasion is improved after the surface is polished by a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学的機械的研磨プロセスで研磨した後でほぼ擦り傷なしの表面が得られるような、その最上部表面の硬度が改善された軟金属導体を提供する。 - 特許庁

After the other process is completed, defects of the wafer W are observed so as to identify the defects again by the defect observation apparatus 3 based on the initial defect identification data.例文帳に追加

そして、別のプロセスが終了した後、欠陥観察装置３により初期欠陥識別データを基にしてウェハＷの欠陥を観察し、再び欠陥の識別を行う。 - 特許庁

The discharging capacity of the nonaqueous electrolyte battery after a second cycle is more increased when heated in a high temperature at a reflow welding process than that when it is not heated.例文帳に追加

本発明の非水系電解液電池は、リフローハンダ付け工程で高温度に加熱されると、加熱されない場合より２サイクル目以降の放電容量が増加する。 - 特許庁

After that, a subsequent manufacturing process, where the light-emitting diode chip is cut for producing a plurality of light-emitting diode sticks, is performed to form a plurality of light-emitting diode devices.例文帳に追加

その後更に、発光ダイオードチップをカットして複数の発光ダイオードスティックを作った後続の製造工程を行い複数の発光ダイオードデバイスを形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a test pattern of a semiconductor device that allows recognizing an overetch or an underetch occurring at a side wall after an etching process.例文帳に追加

エッチング工程後に側壁で発生するオーバーエッチングまたはエッチング不足を確認することが可能な半導体素子のテストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali cleaning solution suitable for the cleaning of metallic materials such as aluminum, an aluminum alloy or the like after forming process, and to provide a cleaning method using the solution.例文帳に追加

アルミニウム及びアルミニウム合金等の金属材料の成形加工後の洗浄に適したアルカリ洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

After this 2nd process, a glass substrate 30 is mounted on the substrate-less filters 11, 12, 13, and is spliced to the substrate-less filters 11, 12, 13 by irradiating with light.例文帳に追加

この第２の工程の後、基板レスフィルタ１１，１２，１３にガラス基板３０を載せ、接着剤５０に光を照射して基板レスフィルタ１１，１２，１３に接合する。 - 特許庁

After the focal point (f) reaches the process starting point B1, processing of fine holes 202 for the fragile part 200 is started by irradiating the pulsed laser beam from the laser oscillator.例文帳に追加

焦点ｆが加工開始点Ｂ１に到達した後、レーザ発振器からレーザビームをパルス状に照射して脆弱部２００の微小孔２０２の加工を開始する。 - 特許庁

To increase the flatness of an insulation layer after being polished in a process of polishing the insulation layer in a method of manufacturing a semiconductor device including a memory region and a logic circuit region.例文帳に追加

メモリ領域とロジック回路領域とを含む半導体装置の製造方法の絶縁層を研磨する工程において、研磨後の絶縁層をより平坦化する。 - 特許庁