「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

An addition part 15 generates the output image signal S2 by performing addition processing on the input image signal D1 whose bit width is extended and a difference signal D4 after the nonlinear process.例文帳に追加

加算部１５は、ビット幅を拡張された入力画像信号Ｄ１と非線形処理後の差分信号Ｄ４とを加算処理して出力画像信号Ｓ２を生成する。 - 特許庁

After covering a metallic electrode material, a lift-off using a contact pattern formed on an intermediate insulation film 22p and a first resist 20p is used to process a metallic electrode.例文帳に追加

金属電極材料を成膜した後、中間絶縁膜２２ｐ及び第１レジスト２０ｐに形成されたコンタクトパターンを用いたリフトオフにより金属電極を加工する。 - 特許庁

The denitrification process for decomposing NO_x in the exhaust gas comprises a step of causing the exhaust gas to react in a denitrification tower 11 after introducing an NO_x containing exhaust gas into an ammonia injection vessel 10.例文帳に追加

ＮＯx 含有排ガスをアンモニア注入器１０に導入した後、この排ガスを脱硝反応塔１１で反応させて排ガス中のＮＯx を分解する方法。 - 特許庁

The non-linear strain in the semiconductor wafer can be eliminated by performing heat treatment of 1000°C or higher in a nitrogen atmosphere after the oxidation process in the lamp annealing.例文帳に追加

ランプアニールでの酸化工程の後に、Ｎ２雰因気中での１０００℃以上の熱処理を行う事により半導体ウエハーの非線型な歪みを解消できる。 - 特許庁

After a belt-like electrode 3 is formed along a first split groove 2 on an upper side of a ceramic substrate 1, laser scribing is executed twice as a second split groove forming process.例文帳に追加

セラミック基板１の上面に一次分割溝２に沿って延びる帯状電極３を形成した後、二次分割溝形成工程としてレーザスクライブを２回行う。 - 特許庁

To obtain the manufacturing method of a semiconductor device, in which a processed layer used as the layer having a protective function in an after etching process can be accurately processed.例文帳に追加

後工程でエッチングからの保護機能を有する層として用いられる被加工層の加工を精度良く行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, unestablished packet data require an establishing process by CPU8 on the first packet receiving, and prohibit establishing commands toward packet data input after that.例文帳に追加

一方、未確立のパケットデータは、最初のパケット受信時にＣＰＵ８による確立処理を要求し、以降入力されるパケットデータに対する確立要求を禁止する。 - 特許庁

To provide a paper discharge device simplified in constitution by suitably performing ink drying process for a paper sheet discharged after image formation according to the print status.例文帳に追加

画像形成後に排出される用紙のインク乾燥処理を印字状況に応じて適切におこなえるようにした構成が簡易な排紙装置を提供する。 - 特許庁

To provide a compound memory in which redundancy relieving can be performed after package, the manufacturing cost can be reduced, and a process problem and variation of characteristics can be prevented.例文帳に追加

パッケージ後に冗長救済を行うことができ、製造コストを低減すると共にプロセス的な問題や特性の変化も防ぐことができる複合メモリを提供する。 - 特許庁

In a process in which the press fitting head 13 ascends after completion of press fitting, the pressing tool 16 chucked by the chuck 21 is taken out of the elastic bush 4 as it is.例文帳に追加

圧入完了後に圧入ヘッド１３が上昇する過程で、チャック２１にチャッキングされている押し治具１６をそのまま弾性ブッシュ４から取り出す。 - 特許庁

To provide a coating apparatus and a coating method, which can detect coating unevenness even in a coating film before drying, and can detect the coating unevenness from immediately after a coating process.例文帳に追加

乾燥前の塗布膜であっても塗布ムラを検出することができ、塗布工程直後から塗布ムラを検出することができる塗布装置及び塗布方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING TMCP AND TEMPERING PROCESS TYPE HIGH-STRENGTH THICK STEEL PLATE HAVING BOTH EXCELLENT PRODUCTIVITY AND WELDABILITY, AND EXCELLENT IN DROP-WEIGHT CHARACTERISTIC AFTER PWHT例文帳に追加

優れた生産性と溶接性を兼ね備えた、ＰＷＨＴ後の落重特性に優れたＴＭＣＰ−Ｔｅｍｐｅｒ型高強度厚鋼板の製造方法 - 特許庁

After an m th image of a plurality of images has been formed, a printer controller performs image process control at a timing before an (m+1) th image is formed.例文帳に追加

プリンタ制御装置は、複数枚の画像におけるｍ番目の画像が形成された後で、（ｍ＋１）番目の画像が形成される前のタイミングで、画像プロセス制御を行う。 - 特許庁

After this process, a cleaning liquid supply nozzle 41 travels above the main surface, and supplies a rinsing liquid which is the cleaning liquid to the main surface of the substrate W.例文帳に追加

その後、洗浄液供給ノズル４１が基板Ｗの主面上方を通過移動しつつ、基板Ｗの主面に洗浄液としてリンス液を供給する。 - 特許庁

This amorphous conductive film serves as a barrier between the gate dielectric and a following film to keep the gate dielectric secured through an after process.例文帳に追加

この非晶質の導電被膜が、ゲート誘電体とこの後の被膜の間の障壁層として作用して、この後のプロセス工程に亙ってゲート誘電体の完全さを保つ。 - 特許庁

As a consequence, since the metal base 1 is supported by the permanent dry-film resist 5 after the etching process, no anxiety exists on the deformation or the like of the metal base 1.例文帳に追加

これにより、エッチング加工後は永久ドライフィルムレジスト５により金属基材１が支持されることになるので、金属基材１の変形等の心配がなくなる。 - 特許庁

After dipping bridges 3B where the base material is fixed into the fluid dispersion S, a voltage is applied between the bridges 3B and the electrode 2, to thereby perform an electrophoretic process.例文帳に追加

基材を固定したブリッジ３Ｂを前記分散液Ｓに浸漬した後、前記ブリッジ３Ｂと前記電極２との間に電圧を印加し、電気泳動工程を行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of shortening a tact time when a substrate is subjected to a drying process after the substrate is processed with a processing solution.例文帳に追加

この発明は基板を処理液で処理してから乾燥処理する際のタクトタイムの短縮化を図ることができる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

Furthermore, by using the Cl2H2 gas as a p-type doping material, an HEMT can be produced continuously within the same chamber 10, after the p-type doping process.例文帳に追加

また、ｐ型ドーピング材料としてCI_2H_2ガスを用いることにより、ｐ型ドーピング工程の後、同一チャンバ内で連続してＨＥＭＴを生成することが可能となる。 - 特許庁

To form the line width CD of a pattern, and a sidewall angle SWA uniformly in a substrate surface in each substrate that is etched after a photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程後にエッチング処理が施された基板において、パターンの線幅（ＣＤ）とサイドウォールアングル（ＳＷＡ）とを夫々、前記基板面内で均一に形成すること。 - 特許庁

To prevent void and density decrease after a new cartridge is loaded in an image forming device on/from which a process cartridge having an automatic toner seal opening device can be loaded and unloaded.例文帳に追加

トナーシール自動開封装置を有するプロセスカートリッジを着脱可能な画像形成装置における新カートリッジ装着後における現像の白ぬけ、濃度低下を防止する。 - 特許庁

In the carbon-based composite material 2, cracks are formed between the crystal grains having the anisotropy in thermal expansion in a cooling process after the second coating layer 10 has been formed.例文帳に追加

この炭素系材料２によれば、第２の被覆層１０の製膜後の冷却過程において、熱膨張異方性結晶粒子間にクラックが形成される。 - 特許庁

To provide a technology, for a preparation method of catalyst ink, for suppressing variation in particle size of refined grain aggregate after dispersion process.例文帳に追加

触媒インクの製造方法において、分散処理で細粒化した細粒化粒子集合体の粒径にばらつきが生じるのを抑制する技術を提供すること。 - 特許庁

In a process for producing a carbon carrier 2A, the carbon carrier 2A in a red or while heated state after the finish of the carbonization is immersed in a liquid 3 mixed with a functional substance.例文帳に追加

炭素担体２Ａの製造工程において、炭化完了の後の赤熱あるいは白熱状態の炭素担体２Ａを機能性物質を混合させた液３に浸清させる。 - 特許庁

After being polished by means of CMP, the upper surface of the upper electrode 112 of the capacitor is doped by the same doping process as that of the lower electrode 106a of the capacitor.例文帳に追加

キャパシター上部電極１１２の上部表面がＣＭＰにポリシングされた後、キャパシター下部電極１０６ａと同一なドーピング工程によりドーピングされる。 - 特許庁

The residue after extracting phthalic anhydride generated in a distillation-refining process of the low purity phthalic anhydride is used as a part of a refining agent when a desulfurizing refining to molten iron alloy is performed.例文帳に追加

低純度無水フタル酸の蒸留精製過程で発生する無水フタル酸抽出残渣を、溶融鉄合金の脱硫精錬に際して精錬剤の一部に使用する。 - 特許庁

To safely and simply detach a green tire after molding from an expansible and contractible cylindrical tire-molding drum in a green tire molding process using the tire molding drum.例文帳に追加

拡縮可能な円筒形状のタイヤ成型ドラムを使用したグリーンタイヤの成型工程において、成型後のグリーンタイヤをタイヤ成型ドラムから容易に離型すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a capacitor for a semiconductor suitable for preventing a micro-bridge between storage nodes due to a residue after a separation process of the storage nodes.例文帳に追加

ストレージノードの分離工程後の残留物によるストレージノード間のマイクロブリッジを防止するのに好適な半導体素子のキャパシタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since the lens block 3 can be assembled from the front side of the body 1 even after a body 1 is connected with a cover, the degree of freedom of an assembly process is improved.例文帳に追加

ボディ１とカバーとを結合させた後であっても、レンズブロック３をボディ１の前方から組み付けることができるから、組立工程の自由度が向上する。 - 特許庁

Further, by adding a GABA- enriching treatment process, hypotensive effect is expected in addition to the absorption control of cholesterol and the inhibitory effect on rise of blood glucose level after eating.例文帳に追加

さらにＧＡＢＡ富化処理工程を追加することにより、コレステロールの吸収抑制、食後血糖値の上昇抑制効果に加えて血圧降下効果も期待できる。 - 特許庁

Further after exfoliating the microlens original plate 10, a process for smoothing a microlens shape by heat treatment or polishing or pressing a shape correcting metallic mold may be contained.例文帳に追加

またマイクロレンズ原版１０剥離後に、熱処理または研磨、あるいは形状修正用金型を押付けてマイクロレンズ形状を滑らかにする工程を含んでも良い。 - 特許庁

After a settlement process for the content purchased by a user has been carried out, a browser 23 accesses a shop server 101 in steps S30, S31 to obtain a package information file.例文帳に追加

ユーザにより購入されたコンテンツの決済処理が行われた後、ステップＳ３０，Ｓ３１において、ブラウザ２３は、ショップサーバ１０１にアクセスし、パッケージ情報ファイルを取得する。 - 特許庁

To provide a workflow asynchronous contact system for transmitting a contact even after a person in charge has already completed its own work and has transmitted a contact to a latter process.例文帳に追加

担当者が既に自分の業務を完了し、後工程に連絡を送信した後でも、連絡の送信を可能とするワークフロー非同期連絡システムを提供すること。 - 特許庁

The heat spreader 2 is formed directly on a silicon wafer which becomes the substrate of the spreader 2 or a chip to cover the wafer or chip before, during, or after a semiconductor element manufacturing process.例文帳に追加

これらのヒートスプレッダ２は、半導体素子作製工程前、工程中又は工程後のいずれかにおいて、基材となるシリコンウエハ又はチップに直接被覆形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing liquid crystal display panels, capable of skipping a pressurization process for forming a gap, after sticking a CF substrate and a TFT substrate together.例文帳に追加

ＣＦ基板とＴＦＴ基板とを貼り合わせた後の、ギャップ形成のための加圧工程を省くことができる液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A RIR solution process can be improved by analyzing the fundamental cause, using the RIR data stored on the database (44) after the logging and tracing of the defects.例文帳に追加

欠陥のロギング及び追跡により、データベース（４４）に格納されているＲＩＲデータを使用して根本的原因を解析し、ＲＩＲ解決プロセスを改善することができる。 - 特許庁

To provide a polyester fiber having excellent color developing properties in dyeing after postprocessing, antistatic properties, hygroscopicity, contact running friction, opacity and process passableness during yarn texturing.例文帳に追加

後加工後の染色における発色性、静電性、吸湿性、接触走行摩擦、不透明性、および糸加工時の工程通過性に優れたポリエステル繊維を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor apparatus that particulary uses information during and after a process or the like, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

半導体装置及びその製造方法等に関し、特にプロセス中及びプロセス後の情報等を利用することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus is configured to perform an aging process of trial running of the image carrier and a cleaning blade by using magnetic toner after supplying the magnetic toner with high lubricity and polishing property to a fur brush.例文帳に追加

潤滑性と研磨性の高い磁性トナーをファーブラシへ供給した後、磁性トナーを用いて像担持体表面とクリーニングブレードをならすエージング工程をおこなう。 - 特許庁

To prevent defective brazing while eliminating a process for deforming a tube after being inserted into a tank and to reduce sliding resistance at the time of inserted the tube into the tank.例文帳に追加

ろう付け不良を防止可能で、かつ、タンクに挿入後チューブを変形させる工程を不要にし、タンクにチューブを挿入する際の摺動抵抗を低減する。 - 特許庁

Then, the silicon substrate 1 after the second process is heat-treated, thus forming a metal silicide layer 9 by allowing the silicon substrate 1 and the gate electrode 4 to react with the metal film 7.例文帳に追加

次に、第２工程後のシリコン基板１を熱処理することで、シリコン基板１およびゲート電極４と金属膜７を反応させて金属シリサイド層９を形成する。 - 特許庁

To provide a digital radio receiver which can inspect a reception function on and after a demodulation process that cannot be detected by BER measurement, through a simple configuration.例文帳に追加

ＢＥＲ測定では検出できない復調過程以降の受信機能の検査を簡単な構成で行うことのできるデジタル無線受信装置を実現する。 - 特許庁

On the other hand, when the object instance is not referred to in the execution process after the last garbage collection pass, the aging value is increment during the garbage collection pass.例文帳に追加

一方、直前のガーベッジ・コレクション・パス以降に実行プロセスでオブジェクト・インスタンスが参照されなかった場合は、ガーベッジ・コレクション・パスの間にエージング値が増分される。 - 特許庁

After the wafer is cut along scribe lines into image sensors in dicing process, the first adhesive sheet is stretched in the X direction and the Y direction and then irradiated with UV-rays.例文帳に追加

ダイシング工程時、スクライブラインに沿ってウェハがイメージセンサチップに切り分けられた後、第１接着シートがＸ方向、Ｙ方向に引っ張られ紫外線が照射される。 - 特許庁

In certain preferred embodiments, the process solution of the present invention may reduce defects when employed as a rinse solution either during or after the development of the CMP processing.例文帳に追加

いくつかの好ましい実施態様においては、本発明のプロセス溶液は、CMP処理の間又はその後にすすぎ溶液として用いた場合、欠陥を低減することができる。 - 特許庁