「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To secure the specified quality for a magnetic disk after the transfer, when the process such as recording a specific magnetic pattern to a magnetic disk by a magnetic transfer method is included.例文帳に追加

特定の磁気パターンを磁気転写方式で磁気ディスクへ記録する工程を含む場合の、転写後の磁気ディスクに対し一定品質を確保できるようにする。 - 特許庁

After confirming the interruption of the data transfer process to the hard disk HDD, a next exposure trigger signal is generated and the exposure is commanded or notified to the X-ray tube, the collimator and the sensor front end.例文帳に追加

ハードディスクへのデータ転送処理の中断の確認後に、次の曝射トリガ信号を生成し、Ｘ線管、コリメータ、センサフロントエンドに曝射を指示又は通知する。 - 特許庁

The CPU 11 is designed to perform each process of motion picture coding such as motion compensation MC, motion estimation ME, quantization Q, etc. after memorizing data into the inner RAM 12.例文帳に追加

ＣＰＵ１１が、動き補償ＭＣ、動き推定ＭＥ、量子化Ｑなどの動画像圧縮符号化の各処理を内部ＲＡＭ１２にデータを記憶して処理する。 - 特許庁

After carrying out the cost adjustment for each link to be target process of the route computing in order, the optimum route where the total cost to the destination is the lowest is computed (S150).例文帳に追加

経路計算の対象となる各リンクに対して順次コスト調整を実施した後、目的地までの総コストが最も低い最適経路を算出する（Ｓ１５０）。 - 特許庁

Additional security is achieved by subjecting the plaintext and intermediate ciphertext to input and output transformation before and after each iteration of the CMEA process.例文帳に追加

平文および中間暗号文に対して、各回のＣＭＥＡプロセスの前後に入力および出力変換を適用することによって、追加セキュリティが達成される。 - 特許庁

Then, etching is carried out after mask is peeled, and the thin plated layers 7 and the base layers 6 under the masks 11 are removed so that conductive patterns 2 can be divided by a dividing process.例文帳に追加

分断工程にて、マスク剥離後にエッチングを行い、マスク１１下の薄付けめっき層７及び下地層６を除去して導体パターン２同士を分断する。 - 特許庁

Since each of the holder portions 16 is easily released from the inner surface of the mold while undergoing bending deformation, in a mold releasing process after molding, a mold releasing resistance is significantly reduced.例文帳に追加

したがって、成形後の離型過程では、各ホルダ部１６が曲げ変形しながら金型内面から容易に離脱するので、離型抵抗が著しく緩和される。 - 特許庁

To provide a simple method and apparatus for maintaining the surface of an article to be treated at a high degree of cleanliness after a treating process such as cleaning using high-pressure carbon dioxide.例文帳に追加

高圧二酸化炭素を用いた洗浄等の処理工程後、被処理体の表面が高い清浄度に維持される簡易な処理方法、及び処理装置を目的とする。 - 特許庁

To post-process paper after recording well via its appreciable register on a paper collating tray, and stack the post-processed paper fairly on a delivered paper tray.例文帳に追加

用紙整合トレイ上での整合を良好として記録済みの用紙にきれいな後処理を行うとともに、後処理後の用紙を排紙トレイ上にきれいにスタックする。 - 特許庁

After the start of mounting process, positional error in the X axis direction of feeder 36 is detected based on detection of the holding position error of electronic component 38 with the suction nozzle.例文帳に追加

装着開始後、吸着ノズルによる電子部品３８の保持位置誤差の検出に基づいてフィーダ３６のＸ軸方向の位置誤差を検出し、修正する。 - 特許庁

The polarity of a bias applied on a fur brush 10 positioned at the prestage of an electrostatic recovering roller 20 in the traveling direction of the intermediate transfer belt 501 is made the same as that of the toner left after the transfer process.例文帳に追加

静電回収ローラ２０の中間転写ベルト５０１走行方向前段にあるファーブラシ１０の印加バイアスは転写残トナーと同極性にする。 - 特許庁

To realize a sales information management system performing a process corresponding to a refund, after settling a commodity charge of different sellers according to an existing electronic money settlement procedure.例文帳に追加

販売者が異なる商品の代金を既存の電子マネー決済手順で決済させた上で返金に相当する処理を行える販売情報管理システムを実現する。 - 特許庁

The CMYK gradation data after the gradation correction are subjected to half toning 7 to obtain half-tone data, according to which an image is printed through an electrophotographic process 11.例文帳に追加

階調補正後のＣＭＹＫ階調データに対し、ハーフトーニング（７）を行ってハーフトーンデータとし、このハーフトーンデータに基づいて電子写真プロセス（１１）で画像を印刷する。 - 特許庁

In the solidification process, the workpiece 1 is baked to cure the sealing resin 3, and after the resin 3 is cured, the configuration of the flatly leveled sealing resin 3 is retained.例文帳に追加

固化処理は、ワーク１をベークして封止用樹脂３を硬化させ、樹脂３の硬化後、偏平に均された封止用樹脂３の形状を保型させる処理である。 - 特許庁

Because fusion and extraction are carried out after removing the large part of the uranium, an amount of processed solution and a size for installing equipment can be reduced greatly and a reprocessing process can be greatly reduced in size.例文帳に追加

ウランの大部分を除いてから溶解，抽出を行うので、処理溶液量と機器設置規模を小さくでき、再処理工程を著しく小型化できる。 - 特許庁

To provide a work supporting system capable of automatically determining a delivery priority per lot in each process after reflecting the general flow of a production plan.例文帳に追加

生産計画の全体的な流れを反映した上で各工程内でのロット毎の出庫優先順位を自動的に決定できるようにした作業支援システムを提供する。 - 特許庁

To add a stable antibacterial deodorization which is not influenced in a footwear manufacturing process, and which can be maintained for a long time after the completion of the product to a rubber member of footwear.例文帳に追加

履物のゴム製部材に対し、履物製造工程による影響を受けず、製品完成後に長期間維持される安定な抗菌消臭性を付与する。 - 特許庁

The first upper punch 8 is elevated to form an open space 12 after a press-forming process to prevent generation of a spring-back in the green compact.例文帳に追加

前記第１上パンチ８は、加圧成形工程を経た後、上昇することによって開放空間１２を形成して、圧粉体１１にスプリングバックが生じないようにする。 - 特許庁

To provide a treating liquid which prevents production of deposition or slime on a roller in a process after development without decreasing ink receptivity with time.例文帳に追加

経時によってインキ受理性を低下させることなく、かつ現像処理後の処理工程でのローラーの付着物やスライムの発生を防止する処理液を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated ceramic capacitor which is made uniform enough in inner density and capable of effectively restraining voids from occurring at thermocompression bonding or delamination from occurring after a baking process is carried out.例文帳に追加

コンデンサ内部の密度を十分均一にし、熱圧着時の空孔の発生や焼成後のデラミネーションの発生を有効に抑制できる積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

A printer starts to work from timing t1, when the output of printing data starts and ends the printing process Pa, after a predetermined time ta has passed.例文帳に追加

プリンタは、ジョブＡの開始点、即ち、印刷データの出力を開始するタイミングｔ１から稼働し始めて所定時間ｔａの経過後、印刷処理Ｐａを終了する。 - 特許庁

To avoid necessity of management of rotation direction and/or reduction in the visibility of pattern after rotation relating to a rotation operation in layout of process marks formed in a scribe region.例文帳に追加

スクライブ領域に形成するプロセスマークのレイアウト時の回転操作に関し、回転方向の管理の必要性及び／又は回転後のパターン視認性の低下などを回避する。 - 特許庁

By preliminarily generating cracks in the laminate, obtained after the sliced veneer 2 is laminated on the base material 1, in a drying process, the occurrence of cracks is suppressed when the building material is used.例文帳に追加

このように基材１に突き板２を貼った後に乾燥工程で乾燥することにより事前にクラックを発生させ、使用時のクラックの発生を抑える。 - 特許庁

*Concretely describe the R&D project (basic research, applied research, production of prototype, mass production technology, process of evaluation test, etc.)to be undertaken after the site has been established. 例文帳に追加

※拠点整備後に実施する研究開発内容（基礎研究、応用研究、試作品製造、量産化技術、評価試験等の工程）について具体的に記載すること。 - 経済産業省

After a large amount of damping water is supplied in the damping water adjusting process, the alteration of the amount of ink to be supplied is prohibited only for a preset standby period.例文帳に追加

湿し水調整工程において一旦多量の湿し水を供給した後には、予め設定した待機期間の間だけインキの供給量の変更が禁止される。 - 特許庁

To provide a bonding method and a device, where a defective caused by misalignment is prevented from being sent to an after process, and a card base material can be thermally less deformed.例文帳に追加

位置ずれが発生して不良が後工程に送られるのを防ぎ、カード基材の熱変形を小さくできるボンディング方法及びボンディング装置を提供すること。 - 特許庁

In a development simulation process of this resist pattern forming method, by calculating a stored energy distribution in the resist film after electron beam lithography and by performing a development simulation for estimating a resist pattern form after development corresponding to the distribution, a resist pattern form after development is presumed and the development condition is determined so that the resist pattern form becomes optimal.例文帳に追加

現像シミュレーション工程では、電子線描画後のレジスト膜中の蓄積エネルギー分布を計算し、その分布に対応した現像後のレジストパターン形状を予測する現像シミュレーションを行うことによって現像後のレジストパターン形状を推定し、レジストパターン形状が最適となるように現像条件を決定する。 - 特許庁

A search process (ST 20 to ST 26 in figure 2) of a receivable broadcasting channel is started by external power feeding, after sales or distribution of the video device (digital TV, DVD recorder etc.) in which a searching method is performed for the electronic program list distribution channel, after a long period of power failure, or after moving house.例文帳に追加

電子番組表配信チャネルの検索方法が実施される映像機器（デジタルＴＶ、ＤＶＤレコーダ等）の販売または頒布のあと、長期停電のあと、あるいは引っ越し移動のあとの外部給電開始により、受信可能な放送チャネルの検索処理（図２のＳＴ２０〜ＳＴ２６）を開始する。 - 特許庁

The treating method of the solid residual pesticide after use to render the solid residual pesticide after use containing the organic halogen compound harmless, comprises a dehalogenation process to dispose the residual pesticide after use by the solvent and an alkali metal without solvent extraction.例文帳に追加

本発明の課題は、有機ハロゲン化合物を含む固体の使用残農薬を無害化する、使用残農薬の処理方法であって、前記使用残農薬を、溶媒抽出処理を行わずに、溶媒およびアルカリ金属によって処理する脱ハロゲン化工程を含んでなることを特徴とする処理方法によって解決される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a raw material for fertilizer, which can reutilize a large quantity of generated slag in a molten pig-iron pretreatment process, for the raw material of fertilizer such as a raw material for fertilizer of phosphoric acid base obtained from slag after dephosphorization, and a raw material for a potash fertilizer of silicic acid base which is obtained from slag after desiliconization, without adding a special process.例文帳に追加

特別な工程を付加することなく脱燐スラグから燐酸質肥料用原料を得ることができ且つ脱珪スラグからも珪酸質カリ肥料用原料を得るなど、溶銑予備処理工程で発生する大量のスラグを肥料用原料として利材化することができる肥料用原料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of preventing the occurrence of resist pattern collapse caused in accordance with miniaturization of the size of a pattern upon development processing of a resist film after exposure, which is formed on the surface of a substrate and having no risk of bringing bad affection to an after process, while eliminating the deterioration of liquid heaping property of a developer on the resist film in a development process.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配が無く、現像プロセスにおいてレジスト膜上への現像液の液盛り性が悪くなることもない方法を提供する。 - 特許庁

In the cured coating film forming method for curing the coating film formed after predetermined coating is applied to an article to be coated, two or more cured coating film forming processes 203 and 209 for curing the coating film are provided, and at least one process of the cured coating film forming processes 203 and 209 is provided after a coating quality inspection process 208.例文帳に追加

被塗装物に所定の塗料を塗布した後に、塗膜を硬化させる硬化塗膜形成方法であって、塗膜を硬化させるための硬化塗膜形成工程２０３・２０９を、二工程以上設け、前記硬化塗膜形成工程２０３・２０９のうち、少なくとも一工程は、塗装品質検査工程２０８後に設けられる。 - 特許庁

Here, even when a process for heat treatment is not specially performed additionally after the CeZrO film 125 is formed on the side face of the capacitor having been processed, heating is performed in a CVD process of forming an interlayer insulating film after the CeZrO film 125 is formed to supply oxygen to the PZT film 120 and the electrode of the capacitor.例文帳に追加

但し、加工後のキャパシタ側面にＣｅＺｒＯ膜１２５を形成した後に、熱処理の工程をあえて追加して行わない場合であっても、ＣｅＺｒＯ膜１２５の形成後に層間絶縁膜を形成するＣＶＤ工程において加熱が行われ、ＰＺＴ膜１２０およびキャパシタの電極に酸素供給が行われることとなる。 - 特許庁

To provide a method protecting a wafer surface from contamination by the adhesion of dust or the like such as cutting chips by sticking a surface protective sheet for dicing on the wafer surface and collectively cutting the protective sheet for dicing together with a wafer in a process conducting pickup after dicing and picking up chips without forming cracks and breakings in a chip after a dicing process.例文帳に追加

ダイシングを行い、その後にピックアップする工程において、ダイシング用表面保護シートをウエハ表面に貼り付け、ウエハと一括して切断することにより、ウエハ表面を切削クズ等のダスト等の付着による汚染から保護し、且つ、ダイシング工程後に、チップに割れや欠けを生じることなくピックアップする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for treating a polyol recovered after decomposition, and to obtain a reusable polyol obtained by this process, by a method wherein the polyol recovered after decomposition is made into a polyol reusable as an excellent polyurethane resin raw material by reducing the activity of amines in the polyol in a simplified way not requiring the removal of the amines.例文帳に追加

分解回収ポリオールを、そのポリオール中に含まれるアミン類を除去せずとも、簡易な処理によりアミン類の活性を低減することによって、ウレタン樹脂の原料として良好に再使用に供し得る、分解回収ポリオールの処理法、およびその処理法で処理することによって得られる分解回収ポリオールを提供すること。 - 特許庁

To provide a process for treating a polyol recovered after decomposition, and to provide a reusable polyol obtained by this process, by a method wherein the polyol recovered after decomposition is made into a polyol reusable as an excellent polyurethane resin raw material by inactivating the activity of amines in the polyol in a simplified way not requiring the removal of the amines.例文帳に追加

分解回収ポリオールを、そのポリオール中に含まれるアミン類を除去せずとも、簡易な処理により不活性化することによって、ウレタン樹脂の原料として良好に再使用に供し得る分解回収ポリオールの処理方法、およびその処理方法で処理することによって得られる分解回収ポリオールを提供すること。 - 特許庁

Before shifting to a production process of a substrate in apparatus startup or in resuming operation after maintenance, a substrate processing chamber is exhausted while supplying a gas containing at least gaseous nitrogen therein; plasma discharge is carried out by setting power higher than high-frequency power in plasma discharge after shifting to the production process; and thereafter the substrate is processed by placing the substrate on a substrate mounting base.例文帳に追加

装置立ち上げ時又はメンテナンス後の再稼働時の基板の生産処理に移行する前に、前記基板処理室に少なくとも窒素ガスを含むガスを供給しつつ排気して、生産処理移行後のプラズマ放電時の高周波電力よりも高くしてプラズマ放電し、その後、前記基板載置台に基板を載置して、該基板を処理する。 - 特許庁

To provide an evaluation method for a silicon single-crystal wafer allowing the prediction of a breakdown voltage defect caused by the wafer quality after the completion of device manufacturing process by obtaining in advance in the stage of the wafer the evaluation result of a GOI characteristic which is close to the GOI characteristic obtained after the completion of the device manufacturing process (device product).例文帳に追加

本発明は、デバイス製造工程終了後（デバイス製品）のＧＯＩ特性の評価結果と近いＧＯＩ特性の評価結果を、ウェーハ段階で事前に得ることができ、デバイス製造工程終了後のウェーハ品質に起因する耐圧不良を予測することが可能となるシリコン単結晶ウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁

After the bonding surface of the disk substrate is coated with a cation polymerization type UV curing resin composition to a toric form, the surface is not irradiated with the UV rays during the standby time c after the start of the required process step time a set in a UV irradiation process step and thereafter the cation polymerization type UV curing resin composition is irradiated with the UV rays for the required processing time b.例文帳に追加

ディスク基板の貼合わせ面にカチオン重合型紫外線硬化性組成物を円環状に塗布した後、紫外線照射工程で設定した工程所要時間ａの開始後、待機時間ｃの間だけ紫外線照射せず、その後にカチオン重合型紫外線硬化性組成物に要処理時間ｂだけ紫外線照射する。 - 特許庁

This sample analysis method includes a first analysis method for subjecting the sample to first analysis in a first analyzing medium, a recovery process for recovering the sample component after the first analysis in a sample recovery part and a second analyzing process for subjecting the sample component, after recovery to second analysis.例文帳に追加

本発明のサンプル分析方法は、複数の成分を含むサンプルを複数回分析するために、第１分析媒体中にてサンプルを第１分析に供する第１分析工程；第１分析後のサンプル成分をサンプル回収部に回収する回収工程；および回収後のサンプル成分を第２分析に供する第２分析工程を包含する。 - 特許庁

In the method for successively manufacturing the biaxially stretched polyester film by which the transverse stretching process is performed by a flat transverse stretching machine after longitudinal stretching, a detector for detecting the break of the film is set in the transverse stretching machine and the film is nipped by a roll-type nipping device installed after the longitudinal stretching process during actuating the detector.例文帳に追加

縦延伸後にフラット式横延伸機により横延伸する逐次二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法において、横延伸機内でフィルムが破断したことを検知する検知器を備え、検知器作動時に縦延伸工程の後に設置されたロール式ニップ装置でフィルムをニップすることを特徴とする逐次二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し３倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁

In a work setting process part 11, a worker 17 feeds an inner panel Wi on an outer panel Wo of the work Wa after the worker 17 feeds the outer panel Wo of the work Wa and after an adhesive is applied by a mastic robot 15 for sealing, and the work Wa is transferred to the press working process part 9a by the handling robot 1.例文帳に追加

ワークセット工程部１１には、作業者１７がワークＷａのアウタパネルＷｏを投入後、シーリング・マスチック用ロボット１５により接着剤の塗布を行った後、作業者１７がインナパネルＷｉをアウタパネルＷｏ上に投入し、このワークＷａは、ハンドリングロボット１によりプレス加工工程部９ａに移送される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus wherein a defective image caused by defective cleaning, etc., is prevented by effectively cleaning residual toner on a photoreceptor after a transfer process even when using spherical toner, in the image forming apparatus having a cleaning process of removing the residual toner on the photoreceptor after transferring the toner image by using the spherical toner.例文帳に追加

球形化したトナーを使用して、トナー像を転写した後、感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程を有する画像形成装置において、球形トナーを用いた場合でも、転写工程後の感光体上の残留トナーを効率よくクリーニングし、クリーニング不良等の画像不良が生じない画像形成装置を提供することである。 - 特許庁