「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

The voltage change (dV/dt) of the fuel cell per unit time in the voltage rising process after passing a minimum value of voltage V of the fuel cell is judged.例文帳に追加

燃料電池の電圧Ｖが極小値を通過した以降の電圧上昇過程における単位時間当たりの燃料電池の電圧変化（ｄＶ／ｄｔ）を判定する。 - 特許庁

A management means 13 holds a process space in the memory space of the storage means 12 even after programs that executed in the past are completed, and manages the priority for each program.例文帳に追加

管理手段１３は、過去に実行したプログラムを終了した後もそのプロセス空間を記憶手段１２のメモリ空間に保持し、また各プログラムの優先度を管理している。 - 特許庁

To provide a liquid processing device which can prevent the processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and can process the lower surface of the substrate efficiently.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

The green board 10 is baked while being heated in a baking process, and the residues of the constraining alumina green sheets 24 and the alumina molded body 23 are removed through a blast treatment, after baking.例文帳に追加

焼成工程で、生基板１０を加圧しながら焼成し、焼成後、拘束用アルミナグリーンシート２４とアルミナ成形体２３の残存物をブラスト処理等で除去する。 - 特許庁

This manufacturing method characteristically comprises a process in which high density is realized by adding a compressive strength to the recording medium during or after the formation of the recording medium.例文帳に追加

前記光記録媒体の成形中または成形後に、前記媒体に圧力を加えることにより高密度化を図る工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In a task application processing device 2, after a task processing means 7 processes a task, a history sending means 8 sends history information about a business process.例文帳に追加

業務アプリケーション処理装置は２、業務処理手段７により業務に関する処理を行った後、履歴送信手段８によりビジネスプロセスの履歴情報を送信する。 - 特許庁

The interval between color filter materials is set so as to eliminate any gap after fusion when patterning by considering the amount of fusion at thermal process and the characteristics of color filter material.例文帳に追加

パターンニング時に、カラーフィルタ材料間の間隔は、カラーフィルタ材料の特性や熱処理時の溶融量を考慮して、溶融後に隙間がなくなるような間隔に設定する。 - 特許庁

After that, in a polishing process, tube material is rubbed with a lapping tape of #2,000 to form the circumferential stripes on the outer circumferential surface while being rotated in one direction at a fixed speed.例文帳に追加

その後、研磨工程でチューブ材を一方向に一定速度にて回転させつつ、＃２０００のラッピングテープに摺擦させて外周面に周方向の筋目を形成する。 - 特許庁

By this setup, after a winding operation is finished but before a coating process starts, an inductor can be grasped from an optional direction if an operator does not directly touch a magnet wire wound on the winding drum 21.例文帳に追加

これにより、巻線が終了したコーティング前のインダクタは巻線部21に巻回されたマグネットワイアに直接触れなければ任意の方向から掴むことができる。 - 特許庁

The chemical solution staying in the nozzle, etc. is discarded by the pre-dispensing operation, and therefore, the degraded chemical solution is prevented from being supplied to the wafer after the process recipe control is started again.例文帳に追加

プリディスペンス動作により、ノズルなどに溜まった薬液が廃棄されるので、プロセスレシピ制御の再開後に、劣化した薬液がウエハに供給されることを防止できる。 - 特許庁

To solve a problems such as generation of wrinkles in a double surface carrying passage or a re-feeding process after switching back at a carrying roller provided with a stiffening function.例文帳に追加

腰付け機能を持たせた搬送ローラにてスイッチバックをおこなったとき、以降の両面搬送路又は再給紙過程にてシワが発生してしまう等の問題を生じる。 - 特許庁

The formed section 3 is formed in the shape of an uneven solid cross section, and after cutting process is applied to a groove or a hole 31b or the like, it is mounted to the door.例文帳に追加

この形材は、凹凸のある立体的な断面形状に形成されており、溝ないし穴３１ｂ等の切削加工を施した後、扉に取り付けられる。 - 特許庁

After the oral statement of opinions and the process of questions refugee examination counselors exchange opinions with the other refugee examination counselors 例文帳に追加

難民審査参与員は，口頭意見陳述・審尋期日の実施後，他の難民審査参与員と意見を交換した上，意見書を作成して法務大臣に提出する。 - 特許庁

In a process for crushing the waste concrete and manufacturing the roadbed material and/or the earthwork material, the slag obtained after being gradually cooled in a blast furnace is added to the concrete waste material, which is crushed together with the slag.例文帳に追加

コンクリート廃材を破砕して路盤材及び／又は土工材とする工程において、コンクリート廃材に高炉徐冷スラグを加え、該高炉徐冷スラグとともに破砕する。 - 特許庁

To provide an optical disk recording/reproducing device by which a high speed starting process is attained when the status of device after a power is supplied is the same as the case before the power is supplied.例文帳に追加

本発明は、電源投入後、投入前と装置の状態が同じである場合には高速な起動処理が可能な光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁

This process is repeated until a specified investigation period passes, and then, a mail bin allotting table is prepared based on the printing sheet number displaying table after the investigation period has passed (S120).例文帳に追加

これを所定の調査期間が経過するまで繰り返したあと、調査期間経過後の印刷枚数表示テーブルに基づいてメールビン割り当てテーブルを作成する（Ｓ１２０）。 - 特許庁

To provide a phase change type optical recording medium, which necessitates no initial crystallization process and, in addition, has the favorable storage characteristics of a recorded mark kept under an amorphous state after being recorded.例文帳に追加

初期結晶化工程を必要とせず、しかも記録後のアモルファス状態にある記録マークの保存特性が良好な相変化型光記録媒体を提供する。 - 特許庁

To prevent a spring from falling off during an assembly process of a coil spring between an upper spring bearing and a lower spring bearing and noise from being generated after assembly in the spring bearing structure for the hydraulic shock absorber.例文帳に追加

油圧緩衝器のばね受構造において、上下のばね受の間へのコイルばねの組付過程で該ばねの脱落を防止し、組付後の異音の発生を防止すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter, by which a pattern suppressed in residual film after development can be formed by a dry etching process and the color filter almost free from damage and having good surface state can be manufactured.例文帳に追加

ドライエッチング法を利用して現像残膜を抑えたパターン形成を可能とし、ダメージが抑えられ表面性状の良好なカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a removal solution recovery system which can increase a recovery rate of a removal solution after use while avoiding a reduction in the throughput of a protective film removing process.例文帳に追加

保護膜除去処理のスループットを低下させることなく、使用後の除去液の回収率を高めることが可能な保護膜除去後の除去液回収システムを提供する。 - 特許庁

If the display process of the previously-stored handling procedure instruction information is aborted, the device displays information to be displayed after the handling procedure instruction information on a display portion.例文帳に追加

そして、取扱手順説明情報の表示処理が中止となった場合に、取扱手順説明情報の次に表示する情報を表示部に表示する。 - 特許庁

Since the discriminating process for the size and color of the original is started just after the original is set, a copy paper starts to be fed earlier for shorter copying time.例文帳に追加

また、原稿がセットされた直後から原稿のサイズおよび色の判別処理が開始されるので、複写用紙の給紙開始時期が早くなり、コピー時間が短縮される。 - 特許庁

In the process, not short-time heating by lamp anneal but furnace anneal is added as heat treatment after formation of an NSG layer 16 which is an uppermost layer of the first interlayer insulation film 10.例文帳に追加

このとき第１の層間絶縁膜１０の最上層であるＮＳＧ層１６の形成後の熱処理として、ランプアニールによる短時間加熱ではなく炉アニールを加える。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of exactly obtaining an etching degree during and/or after an etching process independently of an etching method of a material.例文帳に追加

材料のエッチング方法に関係なく、エッチング工程の間および／または後にエッチングの程度を正確に求めることができる方法および装置を提供する。 - 特許庁

Also, the manufacturing method preferably includes a process for pressing and forming the heating/ pressing site surface of the wiring board for inner layers by press means, after the wiring board for inner layers has been heated and pressurized.例文帳に追加

また、内層用配線板の加熱加圧後、プレス手段によって内層用配線板の加熱加圧部位表面を押圧成形する工程を含むことが好ましい。 - 特許庁

To freely change/set the procedure and contents of a defective acceleration operation sequence in the initializing sequence and burn-in process after applying a power while decreasing the control signals.例文帳に追加

制御信号を少なくして、電源投入後の初期化シーケンスおよびバーンイン工程の不良加速動作シーケンスの手順と内容とを自由に変更・設定する。 - 特許庁

Rinse liquid adhered on the substrate surface Wf is substituted by the liquid mixture by supplying a liquid mixture (IPA+DIW) to the substrate surface Wf after a rinsing process.例文帳に追加

リンス処理後に基板表面Ｗｆに混合液（ＩＰＡ＋ＤＩＷ）を供給して基板表面Ｗｆに付着しているリンス液を混合液に置換する。 - 特許庁

This method for forming an insulating part in the shape of shallow groove on a semiconductor substrate 200 is provided with a condensation process after an insulating plug 212a is chemically/physically ground.例文帳に追加

半導体基板２００に浅い溝状の絶縁部を形成する方法は、絶縁プラグ２１２ａを化学的・物理的研磨を施した後に、濃縮化プロセスを備えている。 - 特許庁

To solve a problem wherein a film thickness control method when preparing an NBPF is different from an evaluation method after the NBPF is prepared, in a conventional NBPF manufacturing process.例文帳に追加

従来のＮＢＰＦの製造工程におけるＮＢＰＦ作成時の膜厚制御法とＮＢＰＦ作成後の評価法が異なるための問題点を解決する。 - 特許庁

The odor component is injected from an inlet 12 into the injection/discharge tub 3 when the test is started, and the gas inside the tub is discharged from an outlet 13 after the deodorization process.例文帳に追加

試験開始時には臭い成分を注入口１２から注入・排出槽３内に注入し、脱臭処理後には排出口１３から槽内の気体を抜き取る。 - 特許庁

To provide a process for production of a skin-whitening agent with an excellent whitening action exhibiting excellent hypochromic and whitening effects such as for pigmentation after sunburn, flecks, freckles and chloasma.例文帳に追加

優れた美白作用を有し、日焼け後の色素沈着・しみ・そばかす・肝斑等の淡色化、美白に優れた効果を有する美白剤の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the inspection using one of the sockets, the other of the sockets is immediately connected by a switch for initiating the next inspection for the equipment, and the process continues.例文帳に追加

ソケットのうちの１つを介した検査が終了した後、スイッチは、他のソケットを即座に接続し、スイッチは、次の装置の検査は、それらの装置について始動して継続する。 - 特許庁

After that, a silicon nitride film 19 is deposited on a substrate 1 by a plasma CVD process so that the gate electrodes 7A, 7B are not in direct contact with the silicon nitride film 19.例文帳に追加

その後、基板１上にプラズマＣＶＤ法で窒化シリコン膜１９を堆積することにより、ゲート電極７Ａ、７Ｂと窒化シリコン膜１９とが直接接しないようにする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the NO_x sensor, at least the material of an NO_x detection electrode is exposed to oxidation gas containing ozone gas, during and/or after a baking process.例文帳に追加

ＮＯ_Ｘセンサの製造方法において、焼成工程中および／または焼成工程後に、オゾンガスを含む酸化ガスに少なくともＮＯ_Ｘ検知電極の材料を曝す。 - 特許庁

It is preferable that the sludge separated from the slurry after the denitrification process is supplied to the hydrogen fermentation so as to adjust the alkalinity to 7,000-9,000 mg CaCO_3/L.例文帳に追加

アルカリ度が７０００〜９０００ｍｇＣａＣＯ_3／Ｌとなるように前記脱窒処理の工程を経たスラリーから分離したスラッジを前記水素発酵に供するとよい。 - 特許庁

After that, the processing process S114 including heating and tension impression is performed, in which tension impression is made by letting the temperature reach a second temperature not exceeding the first temperature.例文帳に追加

その後に、第１の温度を超えない第２の温度に到達させながら張力を印加する、加熱および張力印加を伴う処理工程Ｓ１１４等が行われる。 - 特許庁

In the radiation ray irradiation process, the irradiation of the radiation ray is performed to cure the prepreg at a temperature higher than the glass transition temperature Tg peculiar to the prepreg after complete curing only by heating.例文帳に追加

放射線照射工程は、加熱のみによる完全硬化後のプリプレグ固有のガラス転移温度Ｔg以上の温度で硬化すべく放射線の照射を行う。 - 特許庁

The server 1 provides the subscriber personal information to the cellular phone terminal 3 after conducting an authentication process to the acquisition request for the subscriber personal information.例文帳に追加

サーバー１は、該加入者個人情報の取得要求に対して、認証処理を行った後、該加入者個人情報を携帯電話端末３に送信し提供する。 - 特許庁

To provide a black matrix where increase of regular reflectance and diffuse reflectance is suppressed even after a high temperature process and reflectance characteristics is not rapidly changed relative to variance in film thickness.例文帳に追加

高温プロセス後でも正反射率や拡散反射率の増大を抑制し、かつ膜厚バラツキに対して反射率特性が急変しないブラックマトリックスを提供する。 - 特許庁

To perform accurate tests even when bit map data of a small value (for example, 2 bit) after halftone process is transferred from a printer controller to a print output device.例文帳に追加

プリンタコントローラからプリント出力装置に中間調処理後の小値（例えば、２ｂｉｔ）のビットマップデータが転送される場合でも、正確な検査を行うこと。 - 特許庁

The adjusting/fixing process 22 adjusts the position and the tilt of the element unit 6 for the lens unit 5 based on the two pieces of information, and both are bonded after the adjustment.例文帳に追加

調整・固定工程２２は、前記２つの情報に基づいてレンズユニット５に対する素子ユニット６の位置及び傾きを調整し、調整後に双方を接着する。 - 特許庁

After the soft magnetic layer is formed and before the lowest layer of the layers containing oxygen in the base layer is formed, a heating process is performed at least once.例文帳に追加

そして、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも１回加熱処理を施す。 - 特許庁

The information processing apparatus receives a completion notification after the completion of a process in the DSP, and stops the transmission of the clock signals to the interruption controller and the DSP.例文帳に追加

また、情報処理装置は、ＤＳＰにおける処理の終了後、終了通知を受信し、割り込みコントローラ及びＤＳＰへのクロック信号の送信を停止する。 - 特許庁

The temperature of the source-contact electrode 16 when the surface of the source-contact electrode 16 is exposed in an oxygen containing atmosphere, is brought at 100°C or lower after the heat treatment process.例文帳に追加

熱処理する工程の後、ソースコンタクト電極１６の表面を酸素含有雰囲気に曝露するときのソースコンタクト電極１６の温度を１００℃以下にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can secure the cleanness of the surface of a semiconductor wafer after a thin film process when in thinning the rear surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの裏面を薄膜化するに際し、薄膜化工程後の半導体ウェハの表面のクリーン度が確保できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁