「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

After a blanket radiation process has selectively melted the amorphous silicon layer, a cooling condition is selected in such a way that a single- crystal silicon film is formed during a solidification process due to its contact with a single-crystal silicon substrate acting as a seed layer.例文帳に追加

ブランケット放射プロセスがアモルファス・シリコン層を選択的に溶融した後、シード層として働く単結晶シリコン基板への接触によって固化プロセス中に単結晶シリコン被膜が形成されるように冷却条件が選択される。 - 特許庁

To provide a polyimide film capable of being reduced in dimensional change and stabilized in its dimensional change ratio over the whole width thereof after a process for laminating a metal to the polyimide film or a process for etching a metal layer to form wiring.例文帳に追加

ポリイミドフィルムに金属を積層する工程や、金属層をエッチングして配線を形成する工程を経た場合の寸法変化が少なく、全幅において寸法変化率を安定化させることが可能なポリイミドフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a second insulation film on the wiring layer formed on the first insulation film after the defect is irradiated with the converged ion beam when irradiation of the converged ion beam is selected in the selection process.例文帳に追加

そして、選択工程において集束イオンビームを照射すると選択された場合には、欠陥に集束イオンビームを照射した後、第１の絶縁膜上に形成された配線層上に第２の絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

In this method of manufacturing the interior trim material coated with the photocatalyst, a coating material after a coating process of coating the coating material containing the photocatalyst is irradiated with light including ultraviolet ray before or during a drying process for drying.例文帳に追加

光触媒を塗布した内装材の製造方法であって、光触媒を含有するコーティング材を塗装する塗装工程後のコーティング材を乾燥させる乾燥工程前、もしくは乾燥工程において紫外線を含む光を照射する。 - 特許庁

The separation and non-cellularization method of the skin includes a process to separate the cuticle and the dermis by processing the sampled skin with a hypertonic salt solution after freezing and thawing, and a process to wash the separated dermis with an isotonic buffer solution.例文帳に追加

採取した皮膚を凍結融解した後、高張食塩水で処理することにより表皮と真皮とに分離する工程、及び、分離した真皮を等張緩衝液で洗浄する工程を含むことを特徴とする皮膚の分離無細胞化方法。 - 特許庁

To provide a method capable of easily treating a hydroxyl amine- containing waste liquid used for cleaning electronic parts and reusing each component contained in the waste liquid after a purification process to use in a production process in an electronics industry world.例文帳に追加

エレクトロニクス工業界において電子部品の洗浄に使用されたヒドロキシルアミン含有廃液の処分を容易にし、さらに精製工程後、廃液中に含有された個々の成分を、製造工程に循環使用する方法を提供する。 - 特許庁

By performing the pretreatment and post treatment of the optical element before or after the coating process by using the lock chamber, the controllability of the coating process is enhanced and the element of the highest quality can be fabricated within the minimum net working time.例文帳に追加

ロック室を用いて被覆工程の前または後に光学素子の前処理および後処理を行なうことにより、被覆工程の制御性を高め、かつ最小限の総加工処理時間で最高品質の素子を製造することができる。 - 特許庁

The management computer 5 is allowed to inspect the state of the printer 3 about authority via the machine computer 9 and executes a corresponding maintenance process or after-sales service process in dependence upon the authority of the printer 3 recognized by the management computer 5.例文帳に追加

管理コンピュータ５は印刷機３の状態を、許容されて権限に関して機械コンピュータ９を経て検査し、管理コンピュータ５によって認識された、印刷機３の権限に依存して、相応のメンテナンスプロセスまたはアフターサービスプロセスを実施する。 - 特許庁

Voltage having a polarity reverse to an electrifying polarity is applied to the peripheral surface of the photoreceptor drum 1 through the contact member (fixed brush) 8 after the transfer process and also before an electrifying process, so that the occurrence of an optical memory is suppressed without causing remarkable dark decay.例文帳に追加

転写行程後かつ帯電行程前、接触部材（固定ブラシ）８を通じて、感光ドラム１周面に帯電極性とは反対の電圧を印加することにより、顕著な暗減衰を生じさせることなく光メモリの発生を抑制する。 - 特許庁

Immediately after the pressurizing process, the pressure of the capacity chamber 214 becomes comparatively high due to an inflow of the fuel to the capacity chamber 214, so that the fuel is easy to flow from the capacity chamber 214 to the pressurizing chamber becoming negative pressure, in the sucking process.例文帳に追加

加圧行程の直後は容積室２１４への燃料の流入によって容積室２１４の圧力は比較的高圧となっているため、吸入行程では、負圧となった加圧室へ容積室２１４から燃料が流入し易い。 - 特許庁

Boring process, using the first pin fastening hole 51 as position reference, is carried out, after the completion of lamination wiring parts 31, 32, a through-hole formation process for forming a through-hole 30 through in a product formation region 15 is carried out, and a multilayer wiring substrate 10 is completed.例文帳に追加

積層配線部３１，３２の完成後に第１ピン止め用孔５１を位置基準とする穴明け加工を行い、製品形成領域１５に貫通孔３０を透設する貫通孔形成工程を行い、多層配線基板１０を完成させる。 - 特許庁

The air bleeding judgement method is composed of a process for continuously carrying out the coating action for the glue, a process for carrying out 2 shots of coating action after the coating action of the glue is stopped and comparing the coating area of the glue between 2 shots.例文帳に追加

さらに、連続してグルーの塗布動作を行う工程と、一旦グルーの塗布動作を停止した後に塗布動作を２点連続して実施し、前記２点のグルーの塗布面積を比較する工程などからなるエアー抜き判定方法などとする。 - 特許庁

To minimize a scratch of float glass which can be generated in a polishing process by transferring a carrier to a subsequent process using a conveyer or the like after separating the carrier for supporting the float glass from a lower unit in the lower unit for a float glass polishing system.例文帳に追加

フロートガラス研磨システム用下部ユニットに関し、フロートガラスが支持されたキャリアを下部ユニットから分離した後、コンベアーなどを用いてキャリアを後工程に移送することで、研磨工程で発生し得るフロートガラスのスクラッチを最小化する。 - 特許庁

Centering by a diamond grindstone 12 shown in (b) of Fig. 1 is taken place after a curve generator process by a cup type diamond grindstone 2 shown in (a), then a coating process indicated in (c) is performed to form a coating film D1 on a side circumferential face T1 of a workpiece W1.例文帳に追加

図１の（ａ）に示すカップ型ダイヤモンド砥石２によるカーブジェネレータ工程の次に、（ｂ）に示すダイヤモンド砥石１２によるセンタリングを行ない、続いて、（ｃ）に示す塗り工程を行ないワークＷ_1 の側周面Ｔ_1 に塗装膜Ｄ_1 を形成する。 - 特許庁

After that, the container bottom surface is sucked from the container conveyance surface with negative pressure, and the containers in the plurality of rows are made to be in the single row by repeating a deceleration process and an acceleration process of the containers on a conveyor connected with the inlet acceleration conveyor at least one time.例文帳に追加

事後、容器搬送面から容器底面を負圧で吸引しながら前記入口加速コンベヤに接続するコンベヤ上で容器の減速工程と加速工程を少なくとも1回以上繰返して複数列の容器を単列化する。 - 特許庁

Firstly, after a filter 72 is placed on a diaphragm 31 to cover an ink supply port 18 (inflow aperture covering process), the filter 72, the diaphragm 31 and 7 sheets of plates 41-47 are stacked and joined through metal diffusion bonding (joining process).例文帳に追加

まず、インク供給口１８を覆うように振動板３１上にフィルタ７２を載置した後（流入孔覆設工程）、フィルタ７２と、振動板３１と、７枚のプレート４１〜４７を積層して金属拡散接合により接合する（接合工程）。 - 特許庁

This treatment method of shredder dust comprises a process of removing the material of small grain size and urethane from shredder dust by fractionation and a process of separating organic material and inorganic material by means of a hot medium bath method from the shredder dust after fractionation of the material of small grain size and urethane.例文帳に追加

シュレッダーダストから小径物およびウレタンを分別して取り除く工程と、小径物およびウレタンが分別されたシュレッダーダストから、熱媒浴法によって有機物と無機物とを分離する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

With this structure, a new process and device development for forming a penetration electrode by dry-etching method after thinning the wafer becomes unnecessary and introduction of special design makes it possible to produce a penetration electrode which is largely decreased in each process difficulty.例文帳に追加

これにより、ウェハを薄型化した後にドライエッチングによって貫通電極を形成する新規のプロセス、装置開発が不要となり、さらに専用設計の導入によって各プロセス難易度を大幅に低減した貫通電極の形成が可能となる。 - 特許庁

To provide an image processing device capable of making an output image to be well enhanced one whose edge is effective, and capable of saving recording materials to be used for a printing process when an input image is to be printed out after being performed an edge enhancing process.例文帳に追加

入力画像をエッジ強調処理して印字出力する際に、出力画像をエッジの効いためりはりのあるものとすることができ、且つ、印字処理に使用する記録材を節約することができる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

When a process cartridge is mounted in an apparatus body, a first force imparting member on the body side works to cause the developing and separating rib on the process cartridge side to protrude, after which a second force imparting member on the body side works to separate a drum from a developing roller.例文帳に追加

プロセスカートリッジを装置本体に装着した際に、本体側の第１力付与部材が作用してプロセスカートリッジ側の現像離間リブを突出させた後、本体側の第２力付与部材が作用してドラムと現像ローラの離間を行う。 - 特許庁

To provide a process for producing an anodized aluminum film which enables a rapid treatment after an anodizing treatment, facilitates the setting of an integral line and is capable of forming the anodized aluminum film having wear resistance and self-lubricity equal or above to those of the film formed by a conventional process.例文帳に追加

アルマイト処理後、迅速に処理が可能で、一貫ラインの設定が容易であり、しかも従来法と同等以上の耐摩耗性及び自己潤滑性を有するアルマイト皮膜の形成が可能なアルマイト皮膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A control means for controlling the processes such as washing, rinsing, dehydrating and drying alternately repeats the rotation of the internal tub 4 and that of the rotary blade 6 in the air blow process after completing a drying process and collects dust and lint, etc., with the filter 25.例文帳に追加

洗い、すすぎ、脱水、乾燥などの行程を制御する制御手段は、乾燥行程終了後の送風行程にて、内槽４の回転と回転翼６の回転とを交互に繰り返し、ほこり、糸くずなどをフィルター２５で回収する。 - 特許庁

Furthermore, the processing station further includes a transfer section 10, which discharges the substrate P held by one holding table 14a out of the plurality of holding tables, after a mounting process is finished by the head section 24 and then supplies it to a processing station 5 for the next process.例文帳に追加

更に、複数の保持台のうち一の保持台１４ａに保持された基板Ｐを、ヘッド部２４による実装処理が終了した後に排出して、次の処理を行う処理ステーション５に供給する搬送部１０と、を設けている。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus which contains an in-line monitor, interposed between a certain substrate treatment process and the following substrate treating process in an in-line manner, and is capable of returning a processed substrate to a semiconductor production line, after the processed substrate has been subjected to a partially destructive test.例文帳に追加

一の基板処理工程と次段の基板処理工程との間にインラインに挿入可能で、部分的に破壊検査を行った後で被処理基板を半導体製造ラインに戻せるインラインモニタを含んだ半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A process of pasting metal lithium, and a process of carrying out the first time charge of the secondary battery are included in a state that the electric potential E_1 (vs. Li^+/Li) of the negative electrode is held in the range of 2.5 V<E_1<3.2 V after injecting a nonaqueous electrolytic solution into the battery case 8.例文帳に追加

負極板３に、金属リチウムを貼付する工程と、電池ケース８に非水電解液を注入後、負極の電位Ｅ_1（vs．Ｌｉ^+／Ｌｉ）を２．５V＜Ｅ_1＜３．２Vの範囲に保持した状態で、二次電池の初回充電を行う工程とを含む。 - 特許庁

After carrying out a laminating process of constituting a cell laminated body 3 by laminating a plurality of unit cells 2, the inside of the cell laminated body 3 is depressurized, whereby, a compression process of compressing the cell laminated body 3 is to be carried out in a cell lamination direction.例文帳に追加

複数の単セル２を積層してセル積層体３を構成する積層工程を行った後、セル積層体３内部を減圧することにより、セル積層方向にセル積層体３を圧縮する圧縮工程を行うようにしたものである。 - 特許庁

To provide a production process of a solar cell element in which cost reduction is realized by protecting a solar cell element substrate against damage when etching residue is removed after micro protrusions/recesses are formed by dry etching thereby preventing the yield of process from lowering.例文帳に追加

ドライエッチングにより微細な凹凸を形成したときのエッチング残渣を除去するときに、太陽電池素子基板にダメージが入ることを防止し、工程の歩留まりの低下を防いで低コスト化を実現した太陽電池素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The third process is started after the adhesive has burst control viscosity of not causing a burst of an adhesive area by air expansion due to the temperature rise in the third process of a remaining void in the adhesive area by filling the adhesive.例文帳に追加

接着剤の充填による接着エリア内の残存空隙が、第３工程での温度上昇による空気膨張によって前記接着エリアに破裂が発生しない破裂抑制粘度に接着剤がなってから、第３工程を開始する。 - 特許庁

When the weight detecting result Wo is below the reference value of 350 g, a second heating course wherein after the heating process by the heater is executed, a heating process to drive the magnetron 1 is executed is selected and executed at S9-S11.例文帳に追加

重量検出結果Ｗｏが基準値「３５０ｇ」未満であると、ヒータ１１，１２による加熱行程を実行した後，マグネトロン１４を駆動する加熱行程を実行する第２の加熱コースを選択して実行する（ステップＳ９〜Ｓ１１）。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing apparatus and a diagnostic method for the semiconductor processing apparatus capable of diagnosing a defect of reassembling of a process chamber after wet cleaning or a state of the process chamber such as deposition of reaction products and shaved components.例文帳に追加

ウエットクリーニング後の処理室再組み立ての不都合、あるいは反応生成物の堆積、部品の削れ等の処理室の状況を診断することのできる半導体処理装置及び半導体処理装置の診断方法を提供する。 - 特許庁

After a formation process of a piezoelectric element 73, at least one portion of an oscillation plate 53 between extracting electrodes 90 formed later is etched in an etching process under the conditions that etching residue of an upper electrode film 83 is removed without removing the oscillation plate 53.例文帳に追加

圧電素子７３の形成工程後、エッチング工程において、後に形成される引出電極９０間の振動板５３の少なくとも一部を、エッチング残り上電極膜８３が除去され、振動板５３が除去されない条件でエッチングする。 - 特許庁

Disjoining and sorting process or cutting process is applied to the tempered glass tube 3 of the cathode ray tube 2 by adding a mechanical stress and a heat shock after releasing the hardness of the tempered glass by annealing with a temperature of not less than 500°C which is the temperature applied when tempering the glass.例文帳に追加

陰極線管２の強化されたガラス管体３を強化時の５００℃以上のアニール処理により強化ガラスの強化を解除した後に機械的歪付与及び熱衝撃を加えて分解分別或はカット加工処理を行なう。 - 特許庁

Immediately after the sucking process, the pressure of the capacity chamber 214 becomes comparatively low due to an outflow of the fuel from the capacity chamber 214, so that the fuel is easy to flow from the pressurizing chamber becoming high pressure into the capacity chamber 214, in the pressurizing process.例文帳に追加

また、吸入行程の直後は容積室２１４からの燃料の流出によって容積室２１４の圧力は比較的低圧となっているため、加圧行程では、高圧となった加圧室から容積室２１４へ燃料が流入し易い。 - 特許庁

As for a copying machine for forming a full color image in order of Bk, Y, C and M, in the case of developing with three colors, Bk, C and M, the intermediate transfer belt is idly rotated ready for a C developing process after finishing a Bk-developing process.例文帳に追加

Ｂｋ、Ｙ、Ｃ、Ｍの順でフルカラー画像形成を行う複写機において、Ｂｋ、Ｃ、Ｍの３色を用いて現像を行う場合、Ｂｋの現像を終了した後に、Ｃ現像の準備のため中間転写ベルトを空回転させる。 - 特許庁

In order to control the process of an acquired image or document after acquiring the image or document by the user, a user speaks to a voice pickup component in the device and then a voice process command is given.例文帳に追加

本発明の一実施例によれば、装置によりイメージまたはドキュメントを捕捉した後、捕捉されたイメージまたはドキュメントの処置を制御するためユーザが装置内の音声ピックアップコンポーネントに話し掛けることによって、音声処置コマンドがなされる。 - 特許庁

After performing this ground refining process, a regular pumping process is performed for pumping the underground water by making the underground water flow in the casing pipe 3 from the water feeding part 2 via the cleaved water feeding passage formed in the surrounding ground 1 by the pumping means 4.例文帳に追加

この地盤改質工程を実施した後で、揚水手段４により周辺の地盤１に形成した割裂通水路を介して地下水を通水部２からケーシング管３内に流入させて揚水する本揚水工程を実施する。 - 特許庁

After this operation process is performed at least one time, a disturbance preventing process in which a voltage is applied in the electric field direction in which storage data of respective ferroelectric memory cells are not reversed is performed to each of a plurality of ferroelectric memory cells.例文帳に追加

この動作工程が少なくとも１回実施された後に、複数の強誘電体メモリセルの各々に、各々の強誘電体メモリセルの記憶データを反転させない電界方向に電圧を印加するディスターブ防止工程を実施する。 - 特許庁

To provide a gate forming method of a flash memory element for preventing excessive oxidation and restricting ONO (Oxide-Nitride-Oxide) smiling, by carrying out nitrogen thermal process and RTO process, and reducing sheet resistance of a tungsten silicide film after a gate is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にゲートを形成した後、窒素熱処理とＲＴＯ工程を行ってタングステンシリサイド膜のシート抵抗を減少させ、過度な酸化を防止するうえ、ＯＮＯ（Oxide-Nitride-Oxide）スマイリングを抑えるフラッシュメモリ素子のゲート形成方法を提供する。 - 特許庁

When judgement by the vacuum sensor and judgement by the substrate sensor do not coincide with each other, a hand low speed retreating process (S25) to retreat the hand at low speed in a state where adsorptive force is continuously given to the hand is carried out after the hand raising process.例文帳に追加

真空センサによる判断と基板センサによる判断とが一致しないとき、ハンド上昇工程後、該ハンドに吸着力を継続して与えた状態で該ハンドを低速度で後退させるハンド低速後退工程（Ｓ２５）を実施する。 - 特許庁

In the cutting/machining of the track width regulating grooves 9, 10, the grinding stone 50 is used for which a shaping process is performed on the side face 52 after another shaping process is performed on the outer circumferential face by supplying an abrasive grain liquid 55 in which powder abrasive grain is dissolved.例文帳に追加

トラック幅規制溝９，１０の研削加工には、外周面の整形処理を施した後に、粉末砥粒を溶解した砥粒溶液５５が供給されて側面５２の整形処理を施した加工砥石５０が用いられる。 - 特許庁

Before the desorbing process after the adsorption process, a non-adsorption gas purge system 31 supplies a purge gas such as pressurized dry air or nitrogen to the adsorption cylinder 4 to discharge the gas.例文帳に追加

吸着過程と脱着（再生）過程の繰返し中における、吸着過程後の脱着（再生）過程の前に、非吸着ガスパージ系統３１により乾燥圧縮空気や窒素ガスなどのパージガスを注入して吸着筒４内のガスを追い出す。 - 特許庁

To provide a production process for hydrophilic particles that can stably hydrophilizing hydrophobic substance in excellent reproducibility and a production process for hydrophilic particles from pigment without occurrence of color change before and after the hydrophilization treatment.例文帳に追加

疎水性物質に対し、安定的かつ再現性良く親水化処理を行うことができる親水性粒子の製造方法、および、親水化付与処理前後で変色を起こすことなく、顔料より親水性粒子を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for eluting phosphorus in sludge and an apparatus therefor, phosphorus in sludge is eluted into an alkali solution by a pretreatment process for damaging microorganisms in sludge and a process for bringing sludge after pretreatment into contact with the alkali solution.例文帳に追加

汚泥中の微生物に損傷を与える前処理工程、および前処理後の汚泥をアルカリ溶液に接触させる工程によって、汚泥中のリンをアルカリ溶液中に溶出させる汚泥中リンの溶出方法および溶出装置。 - 特許庁

The method for producing a mollusc processed product comprises a pressure-reduced heating process of heating raw or preprocessed mollusc with steam under reduced pressure, and a pressurized heating process of heating the mollusc after being subjected to pressure-reduced heating.例文帳に追加

生又は前処理した軟体動物を減圧下で水蒸気により加熱する減圧加熱工程と、減圧加熱工程後の軟体動物を加圧下で加熱する加圧加熱工程とを備える軟体動物加工品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Otherwise the refresh process is executed without replenishing fresh toner into the developing device 11, under a prescribed condition, and the refresh process is executed after replenishing fresh toner into the developing device 11, under a specific condition other than the prescribed condition.例文帳に追加

または、所定条件下では、現像器１１内に未使用トナーを補給せずに、リフレッシュ工程を実行し、上記所定条件とは異なる特定条件下では、現像器１１内に未使用トナーが補給されてから、リフレッシュ工程を実行する。 - 特許庁