「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a calibration control apparatus and a calibration control method that can reduce processing time for applicability to practical use by carrying out a simple calibration using the result of a previous calibration process in response to a request for a re-calibration process after a calibration process.例文帳に追加

この発明は、キャリブレーション処理後の再キャリブレーション処理要求に対して、前の処理結果を利用した簡易キャリブレーション処理を行なって処理時間の短縮を図り、実用に適するようにしたキャリブレーション処理制御装置及びキャリブレーション処理制御方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

This method for producing fumaric acid by reacting a production raw material containing glycerol with carbon dioxide and/or a carbonate salt in a fermentation process of microbial cells under an anaerobic condition is provided by performing the fermentation process after performing a microbial cell-culturing process by an aerobic cultivation.例文帳に追加

グルコースと二酸化炭素及び／又は炭酸塩とを含む製造原料を嫌気性条件下での菌体の発酵工程により反応させてフマル酸を製造する方法であって、該フマル酸の製造方法は、好気培養による菌体培養工程の後に発酵工程を行うフマル酸の製造方法。 - 特許庁

This method for processing a kale comprises an adding process where kojic acid (2-hydroxymethyl-5-hydroxy-γ-pyrrone) and a calcium compound are added to the kale, and a crushing process where the kale is ground either simultaneously with or after the adding process.例文帳に追加

本発明は、ケールの加工方法であって、ケールに、コウジ酸（Ｋｏｊｉｃ ａｃｉｄ；２−ヒドロキシメチル−５−ヒドロキシ−γ−ピロン）およびカルシウム化合物を添加する添加工程と、この添加工程と同時およびこの添加工程の後のうち少なくともいずれかの時期に、ケールを粉砕する粉砕工程と、を包含する。 - 特許庁

This method for producing succinic acid by reacting a production raw material containing glycerol with carbon dioxide and/or a carbonate salt in a fermentation process of microbial cells under an anaerobic condition is provided by performing the fermentation process after performing a microbial cell-culturing process by an aerobic cultivation.例文帳に追加

グリセリンと二酸化炭素及び／又は炭酸塩とを含む製造原料を嫌気性条件下での菌体の発酵工程により反応させてコハク酸を製造する方法であって、該コハク酸の製造方法は、好気培養による菌体培養工程の後に発酵工程を行うコハク酸の製造方法。 - 特許庁

The method for anti-corrosion treatment of the surface of aluminum or an aluminum alloy includes a chemical polishing process for performing a chemical polishing treatment of the surface of the aluminum or the aluminum alloy and an anodization process for applying a barrier type anodization treatment to the surface of the aluminum or the aluminum alloy after the chemical polishing process.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金の表面の耐食処理方法において、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面の化学研磨処理を行う化学研磨工程と、化学研磨工程の後でアルミニウム又はアルミニウム合金の表面にバリア型陽極酸化処理を行う陽極酸化工程とを行う。 - 特許庁

The method for manufacturing reformed coal comprises an extraction process of mixing coal particles and a non hydrogen-donating solvent and of extracting a soluble component in the coal particles into the non hydrogen-donating solvent and a solvent removal process of removing the solvent from a mixture of a part of the extraction residue after the extraction process and of an extract.例文帳に追加

石炭粒子と非水素供与性溶剤とを混合し、石炭粒子の可溶成分を非水素供与性溶剤中に抽出する抽出工程と、この抽出工程後の抽出残分の一部と抽出液との混合物から溶剤を除去する溶剤除去工程と、を有する改質石炭の製造方法。 - 特許庁

This method of operation of this reciprocating internal combustion engine adopts a method, having a heat exchange process performing a heat exchange between the exhaust gas E and the high pressure water W and a high-pressure water supply process supplying the high-pressure water W after this heat exchange process into the cylinder, without having to previously mix fuel F.例文帳に追加

また、この往復動内燃機関１の運転方法においては、排気ガスＥと高圧水Ｗとの間で熱交換を行う熱交換行程と、該熱交換行程後の高圧水Ｗを燃料Ｆと予め混合せずにシリンダ内に供給する高圧水供給行程とを有する方法を採用した。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method is provided with a process (a) for heating the bevel part of the semiconductor substrate 10 held by a holding chuck 31 by using a ring heater 30 and a process (b) for washing the bevel part of the semiconductor substrate 10 by a washing solution 33 jetted from a jet nozzle 32 after the process (a).例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、保持チャック３１に保持された半導体基板１０のベベル部をリングヒーター３０を用いて加熱する工程（ａ）と、工程（ａ）の後、吐出ノズル３２から噴出された洗浄液３３により、半導体基板１０のベベル部を洗浄する工程（ｂ）とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal display device includes: a back case assembling process of installing a liquid crystal display panel 7 to each of the plurality of back case sections 2 which are joined to each other with back case junctions 4; and a case parting process for respectively parting the back case junctions 4 after the back case assembling process.例文帳に追加

液晶表示装置の製造方法は、裏ケース接合部４を介して互いに接合された状態である複数の裏ケース部２の各々に対して液晶表示パネル７を設置する裏ケース組付け工程と、裏ケース組付け工程より後で裏ケース接合部４をそれぞれ分断するケース分断工程とを含む。 - 特許庁

To provide a liquid chemical recycling method capable of simply adjusting components in a liquid chemical required in a process of treating a silicon wafer surface in an used liquid chemical used in the process and obtaining a process performance equal to that of an unused liquid chemical even with the liquid chemical after recycle processing, and a device used in the method.例文帳に追加

シリコンウェーハ表面を処理するプロセスで使用した使用済み薬液において、前記プロセスに必要な薬液中の成分を簡易に調整し、リサイクル処理後の薬液でも未使用薬液と同等のプロセス性能を得ることが可能な薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置を提供する。 - 特許庁

When move is restarted after the move of the encrypted content is interrupted, the move part 212 determines whether the encrypted content in process exists or not by referring to the move state management data, and when it is determined that the encrypted content in process exists, the encrypted content in process is moved.例文帳に追加

ムーブ処理部２１２は、暗号化コンテンツのムーブ処理が中断された後、ムーブ処理を再開する場合に、ムーブ状態管理データを参照してムーブ中の暗号化コンテンツが存在するか否かを判別し、ムーブ中の暗号化コンテンツが存在すると判別された場合に、ムーブ中の暗号化コンテンツについてムーブ処理を実行する。 - 特許庁

The metal member method for manufacturing includes a deburring process for removing burrs on the corners and edges of the metal member 10, and a blasting process in which particles with an average particle size of 10-400 μm are blasted onto the surface of the metal member so that chamfering need not be applied after the deburring process.例文帳に追加

金属部材１０の角部及び縁部のバリを除去するバリ取り工程と、該バリ取り工程の後に面取り処理を施すことなく、平均粒径が１０μｍ以上４００μｍ以下の粒子を、前記金属部材の表面に投射する投射工程とを有する金属部材の製造方法。 - 特許庁

To obtain a chip-in-glass fluorescent display tube in which the IC chip and wiring of fluorescent display tube is securely connected even in the high temperature process of 300-500°C that is a manufacturing process of fluorescent display tube after mounting the semiconductor element, and which has a high reliability of connection, reduced sizes and can shorten the process time.例文帳に追加

半導体素子搭載後の蛍光表示管の製造工程である摂氏３００〜５００度の高温工程においても、ＩＣチップと蛍光表示管の配線を確実に接続し、かつ接続信頼性の高い、小型化可能な、工程時間を短縮化できるチップイングラス蛍光表示管を得る。 - 特許庁

The manufacturing method for the harness includes a branching process for forming a branched portion of the harness by branching some electric wires from the main line of the harness consisting of a bundle of plural electric wires, and a winding process for winding transparent tapes with center lines crosswise around two crotches which are formed between the main line and the branched lines after the branching process.例文帳に追加

ハーネス製造方法は、複数の電線の束からなるハーネスの本線から一部の電線を分岐させてハーネスの分岐部を形成する分岐工程と、分岐工程後、本線と分岐させた線との間に形成される２ヶ所の股部に、中心線の入った透明テープをたすき掛けに巻き付ける巻付工程とを含む。 - 特許庁

To provide glass for forming a resistor which adequately controls phase splitability, the glass satisfying the following requirements: (1) closely packed sintering in a hot press process, (2) easy deformation in the hot press process, and (3) prevention of occurrence of defective conditions after the hot press process, that is, inconsistency in resistance values among resistors.例文帳に追加

分相性を適正に制御し得る抵抗体形成用ガラスを創案することにより、（１）ホットプレス工程で、緻密に焼結すること、（２）ホットプレス工程で、容易に変形すること、（３）ホットプレス工程後に、抵抗体の抵抗値がばらつく不具合を防止できること等の要求特性を満たすこと。 - 特許庁

To provide a processor capable of carrying out a series of processes including a resist application and a development process after exposed for a processing substrate at a high throughput including the pre-process and the post-process, and to provide another processor capable of additionally reducing a foot-print as much as possible.例文帳に追加

被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像処理を含む一連の処理を、その前工程および後工程を含めて高スループットで行うことができる処理装置を提供すること、およびこれに加えて、フットプリントを極力小さくすることができる処理装置を提供すること。 - 特許庁

The one-chip microcomputer 10 is provided with a first process recognizing that the graphic controller 12 finishes production of lithographic data of one screen of the DISP based on the action parameter and a second process in which an action starts after the recognition by the first process and the action parameter is written on the graphic controller 12.例文帳に追加

グラフィックコントローラ１２が、動作パラメータに基づいて液晶ディスプレイＤＩＳＰの一画面分の描画データを生成し終えたことを認識する第１処理と、第１処理による認識後に動作を開始し、グラフィックコントローラ１２に対して動作パラメータを書き込む第２処理とがワンチップマイコン１０に設けられている。 - 特許庁

The anode forming process includes a process of forming an insulating film 15 on the anode A after patterning the anode A in a predetermined shape, and further providing the insulating film 15 with an opening to expose the metal, and in the organic layer forming process, the organic layer 10 is formed to come into contact with the metal in the opening.例文帳に追加

又陽極形成工程は、陽極Ａを所定の形状にパターニングした後、陽極Ａ上に絶縁膜１５を形成し、更に絶縁膜１５に開口を設けて金属を露出させる処理を含み、有機層形成工程は、開口にて金属と接するように有機層１０を形成する。 - 特許庁

A thermally contact-bonding process for pressuring to stick the electrode sheet 21 where a thermoplastic resin 20 is superimposed on the upper surface to the glass substrate 12 by a thermal contact-bonding, and an eliminating process for the thermoplastic resin for eliminating the thermoplastic resin 20 from the surface of the electrode sheet 21 after the thermal contact- bonding process.例文帳に追加

上面に熱可塑性樹脂２０が重ね合わされている電極シート２１を、熱圧着により基板ガラス１２に押圧貼り付けする熱圧着工程と、該熱圧着工程後の熱可塑性樹脂２０を、電極シート２１上から除去する熱可塑性樹脂除去工程とを有する方法を採用した。 - 特許庁

The method of manufacturing the battery module 10 equipped with a laminated body laminating battery cells 33 and battery holders 15 made of resin contains a charge impression process of impressing a charge on the laminated body in a lamination direction, and a fixing process of arresting the laminated body in a lamination direction with an arrester band 42 after the charge impression process.例文帳に追加

電池セル３３と樹脂で形成された電池ホルダ１５とが積層された積層体を備える電池モジュール１０の製造方法であって、積層体の積層方向に荷重を印加する荷重印加工程と、荷重印加工程の後に、積層方向に積層体を拘束バンド４２で拘束する固定工程とを含む。 - 特許庁

To provide a dicing tape such that a semiconductor wafer having a through-electrode formed is sufficiently held in a dicing process of cutting and separating the wafer into small element pieces, a small element piece can be easily peeled in a pickup process, and an adhesive hardly sticks on a wafer reverse surface or an electrode on the wafer reverse surface after the pickup process.例文帳に追加

貫通電極が形成された半導体ウエハを、素子小片に切断分離するダイシング工程の際はウエハを十分に保持し、素子小片をピックアップ工程の際には容易に剥離でき、且つピックアップ工程後にウエハ裏面およびウエハ裏面の電極に粘着剤が付着しにくいダイシングテープを提供する。 - 特許庁

This method for producing the dried persimmon pickles comprises a pickling working process of sprinkling every given amount of common salt and piling up during arranging dried persimmons in a plurality of stages in a pickle container, and a pickling process of pickling the dried persimmons through putting a cover and a weight stone on and pressing for a few days after the pickling working process.例文帳に追加

本発明は干し柿を漬物容器の中に複数段に並べる間に塩を所定量づつ振りかけて積み重ねて漬け込み作業工程と、この漬け込み作業工程後に蓋を乗せて重石を乗せて数日間押圧して漬け込む漬け込み工程とで干し柿漬物の製造方法を構成している。 - 特許庁

After performing a reference potential difference measuring process (process S2) for measuring a reference potential difference on a potential difference measuring position near the repaired welding crack when sending a current into a structure by applying a voltage to a voltage application position near the repaired welding crack, a plant using the structure is operated (process S3).例文帳に追加

補修溶接き裂の近傍の電圧印加位置に電圧を印加して構造物に電流を流したときの補修溶接き裂の近傍の電位差測定位置における基準電位差を測定する基準電位差測定工程（工程Ｓ２）を行った後にその構造物を用いたプラントを運転する（工程Ｓ３）。 - 特許庁

A method for finishing surface of concrete containing lightweight aggregate has a process wherein a surface of the concrete after placing is pressed by a reticulate body such as a wire net and the like, a process for detaching the reticulate body, and a process wherein poly-N-vinylacetoamide series aqueous high polymeric solution is sprayed onto the surface of the concrete.例文帳に追加

軽量骨材を含むコンクリートの表面仕上げ方法であって、打設後のコンクリートの表面を金網等の網目体にて押圧する工程と、前記網目体を取り外す工程と、前記コンクリートの表面にポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド系の水溶性高分子溶液を散布する工程とを含むコンクリートの表面仕上げ方法。 - 特許庁

When the spheroidal-annealing composed of respective process of a heating, a cooling before transforming, a control-cooling and a control after transforming, is applied to a bearing steel, the high temperature holding time in the high temperature holding process and the control-cooling time in the control-cooling process, are controlled in the range of satisfying a prescribed relation.例文帳に追加

軸受鋼に、加熱、変態前冷却、管理冷却および変態後冷却の各工程からなる球状化焼鈍を施すに際し、前記高温保持工程における高温保持時間と、前記管理冷却工程における管理冷却時間とを、所定の関係を満足する範囲に制御する。 - 特許庁

The waterproof treatment method adopts a first molding process in which positioning portions 91, 92 are formed at the prescribed position from the joint portion j, and a second molding process in which, after the first molding process, a joint portion j is positioned based on the position criteria of the positioning portion 91, 92 and further the surrounding of the joint portion j is coated by resin p.例文帳に追加

ジョイント部ｊから所定の位置に位置決め部９１，９２を形成する第１のモールド工程と、該第１のモールド工程の後、位置決め部９１，９２を基準としてジョイント部ｊを位置決めし、該ジョイント部ｊの周囲をさらに樹脂ｐで被覆する第２のモールド工程とを有する方法を採用した。 - 特許庁

Setting in at least one setting process is half setting and complete setting is performed during the transfer process or after the transfer process.例文帳に追加

なお、上記転写工程の前に、基板の凹部のみに充填したコア材あるいはコア材とクラッド材を硬化する工程と、別の基板に塗布したクラッド材を硬化する工程を含み、少なくとも一方の硬化する工程における硬化が半硬化であり、上記転写工程中あるいは転写工程後に完全硬化させることも含まれる。 - 特許庁

The nonaqueous electrolyte secondary battery can be manufactured via a first process of assembling the battery provided with the porous polymer layer between the positive electrode and negative electrode, a second process of filling an electrolyte in the battery, and a third process of heating the battery at 100°C or higher after sealing the battery.例文帳に追加

正極−負極間に有孔性ポリマー層を備えた電池を組み立てる第１の工程と、前記電池に電解液を注液する第２の工程と、前記電池を封口した後、１００℃以上の温度で加熱する第３の工程を経ることにより本発明の非水電解質二次電池を製造することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the fully-depleted SOI transistor, especially the NMOS transistor, there is a process for implanting impurities into an insulating film by an ion implantation method before or after a well formation process, thus restraining the diffusion of the impurities to an embedded insulating film owing to a variation in a thermal history in a manufacturing process.例文帳に追加

完全空乏型ＳＯＩトランジスタ、特にＮＭＯＳトランジスタの製造方法においてウエル形成工程前あるいは後に追加でイオン注入法を用いて絶縁膜に不純物注入を行う工程を有することで、製造過程における熱履歴のばらつきによる埋め込み絶縁膜への不純物の拡散を抑える。 - 特許庁

The rice cooker executes the initial process A in which the convection of water in the pot 11 begins gradually and the main process B in which the heating power is increased after the end of the initial process A and the cooking up level reached in the pot 11 is detected based on the temperature information with a temperature sensor 18 to make a shift to steaming sequentially.例文帳に追加

鍋１１内の水の対流が除々に始まる初期工程Ａと、初期工程Ａの終了後に火力を増し、温度センサ１８による温度情報に基づき鍋１１内が炊き上がり状態となったことを検出して蒸らしへ移行する本工程Ｂとが順次実行される。 - 特許庁

By the addition of the second process (S2), the quantity of a shift caused after adjustment to an ideal position, such as an error relating to the movement of the hologram lens 2 caused in the first process, an error caused by the contraction due to the curing of the adhesive in the third process (S3) and so on, is corrected to perform a position adjustment for highly precise production.例文帳に追加

２番目の工程（Ｓ２）追加により、従来の１番目の工程で生じたホログラムレンズ２の移動に係る誤差、および３番目の工程（Ｓ３）で生じた接着剤硬化時の収縮による誤差等の理想位置への調整後に生じるずれ量を補正して高精度な製造を行うための位置調整をする。 - 特許庁

The rice cooker executes the initial process A in which the convection of water in the pot 11 starts gradually and the main process B in which the heating power is increased after the end of the initial process A and the cooking up level is reached in the pot 11 is detected based on the temperature information with a temperature sensor 18 to make a shift to steaming sequentially.例文帳に追加

鍋１１内の水の対流が除々に始まる初期工程Ａと、初期工程Ａの終了後に火力を増し、温度センサ１８による温度情報に基づき鍋１１内が炊き上がり状態となったことを検出して蒸らしへ移行する本工程Ｂとが順次実行される。 - 特許庁

In the rotation process of an electrophotographic photoreceptor comprising a conductive support and a photosensitive layer formed on the support, when an electrophotographic process including electrostatic charge, exposure, development, and transfer is repeatedly carried out, surface potential of the photosensitive layer by electrostatic charge is lowered after the electrophotographic process is repeated for a prescribed number of times.例文帳に追加

導電性支持体及び該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体の回転過程において、帯電、露光、現像及び転写を含む電子写真プロセスが繰り返し行われる際に、電子写真プロセスが所定回数繰り返されたときに前記感光層表面の帯電電位を低下させる。 - 特許庁

More precisely, the method comprises a process for approximating the blade 26 to a coil 28 for induction heating with an alternating current passing therethrough, a process for pressing the blade 26 on the backside of the member, and a process for separating the blade 26 from the backside of the member after stopping passing of the current to the coil 28.例文帳に追加

より具体的には、交流電流を通電させた誘導加熱用のコイル２８に向かって刃２６を接近させる工程と、刃２６を前記部材の裏面に押し当てる工程と、コイル２８への通電を停止した後に、刃２６を前記部材の裏面から離間させる工程と、を有することを特徴とする溝２２の形成方法。 - 特許庁

This manufacturing method has a process to form a group of organic EL elements corresponding to an organic EL panel in each of two regions 1-1 and 1-2 on a glass base, and a process to obtain two organic EL panels by dividing the glass base 1 into two without providing an airtight case to physically separate them after the aforementioned process.例文帳に追加

ガラス基板１上の２つの領域１−１および１−２の各々に有機ＥＬパネルに相当する有機ＥＬ素子群をそれぞれ形成する工程と、この工程の後に気密ケースを設けないでガラス基板１を分断して物理的に切り離し、２つの有機ＥＬパネルを得る工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

When a changing process for changing the port number for receiving the status notification is performed (S109), a PC having functions as the status notification receiving device performs control that enables the status notification to be received whether the port number before the changing process or the port number after the changing process is used (S110, S101).例文帳に追加

状態通知受信装置としての機能を有するＰＣは、状態通知を受信するためのポート番号を変更する変更処理が行われた場合（Ｓ１０９）、変更処理前のポート番号および変更処理後のポート番号のいずれを用いても状態通知を受信可能とする制御を行う（Ｓ１１０、Ｓ１０１）。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor laser element 1 is provided with a photonic crystal structure process for forming a photonic crystal structure 8 having an epitaxial layer 15 and a dielectric film 16 and a process for forming a GaN layer 9 on the dielectric film 16 and the epitaxial layer 15 after the photonic crystal structure process.例文帳に追加

半導体レーザ素子１の製造方法は、エピタキシャル層１５と誘電体膜１６とを有するフォトニック結晶構造８を形成するフォトニック結晶構造工程と、フォトニック結晶構造工程後に、誘電体膜１６上およびエピタキシャル層１５上にＧａＮ層９を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

In the dishwasher comprising a washing tub, a hot air heater for heating dishes, a blowing fan 10 for discharging steam inside the washing tub to the outside of the dishwasher and a controller, a rinsing process 31 for rinsing the dishes and a drying process 33 for drying the dishes after the rinsing process are performed.例文帳に追加

洗浄槽と、食器類を加熱する温風ヒータと、洗浄槽内の蒸気を機外に排出する送風ファン１０と、制御装置とを備えた食器洗浄機では、食器類のすすぎを行うすすぎ工程３１と、すすぎ工程の後に食器類を乾燥させる乾燥工程３３とが行われる。 - 特許庁

The method includes the process of placing the molded material 3 on the surface of the mat material 2 and pressin an object to be molded onto the surface of the patterning material 3 to mold the object, the process of hardening the molded material 3 after molded and the process of removing the hardened molded material 3 from the mat material 2.例文帳に追加

マット材２の表面に型取り材３を載置し、この型取り材３の表面に型取り対象を押し当てて、型取り対象の型を取る工程と、型を取った型取り材３を硬化させる工程と、硬化させた型取り材３をマット材２から取り外す工程とを含む型取り方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing image display elements having the resin substrate for holding a display function section for the purpose of displaying images has inorganic film forming process steps (S2 and S6) of forming inorganic films on both surfaces of the resin substrate and dewatering process steps (S5 and S6) of dewatering the resin plate before or after the inorganic film forming process steps.例文帳に追加

画像を表示するための表示機能部を保持する樹脂基板を備えた画像表示素子の製造方法において、樹脂基板の両面に無機膜を形成する無機膜形成工程（Ｓ２、Ｓ６）と、無機膜形成工程の前又は後に樹脂基板を脱水する脱水工程（Ｓ２、Ｓ６）とを有する。 - 特許庁

By using solutions S1 to Sm (wherein, m is ≥2 integer) containing the monomers but having different monomer compositions with each other, a main process of feeding each of the solutions S1 to S(m-1) into the reaction vessel and a post process of feeding the solution Sm into the reaction vessel after completing the main process are performed.例文帳に追加

単量体を含有し単量体の組成が互いに異なる溶液Ｓ１〜Ｓｍ（ｍは２以上の整数）を用い、溶液Ｓ１〜Ｓ（ｍ−１）をそれぞれ反応器内へ供給する主工程と、該主工程が終了した後に溶液Ｓｍを反応器内に供給する後工程とを行う。 - 特許庁

The manufacturing method for a semiconductor device of thin thickness by cutting a semiconductor substrate 1 comprises a film formation process for forming a film 2 in a side surface 1a of a semiconductor substrate which intersects one principal surface 1b of the semiconductor substrate 1, and a cutting process for cutting the semiconductor substrate 1 thinly after the film formation process.例文帳に追加

半導体基板１を削ることによって薄厚の半導体装置を製造する方法であって、 前記半導体基板１の一つの主面１ｂに対して交差する半導体基板の側面１ａに膜２を設ける成膜工程と、 前記成膜工程の後で半導体基板１を薄く削る削工程とを具備する。 - 特許庁

Embossing processing is performed after a process (S2) forming a scalar field, a process (S3) forming mask images by binarizing the formed scalar field at every threshold values by using a plurality of threshold values and a process (S4) performing etching stepwise by using a plurality of the formed mask images to make an embossed sheet.例文帳に追加

スカラー場を生成する工程（Ｓ２）と、生成されたスカラー場を複数の閾値を用いて各閾値毎に２値化したマスク画像を生成する工程（Ｓ３）と、生成された複数のマスク画像を用いて段階的にエッチングを行う工程（Ｓ４）の後、エンボス加工を行うことにより、エンボスシートを作成する。 - 特許庁

This manufacturing method of the sintered body containing Mg and B is provided with a disposition process to dispose Mg powder 3a, 3b and B powder 2 without mixing them each other, and a heat treatment process to apply heat treatment to Mg powder 3a, 3b and B powder 2 after the disposition process.例文帳に追加

本発明の焼結体の製造方法は、ＭｇとＢとを含む焼結体の製造方法であって、Ｍｇ粉末３ａ，３ｂとＢ粉末２とを互いに混合せずに配置する配置工程と、配置工程の後、Ｍｇ粉末３ａ，３ｂおよびＢ粉末２を熱処理する熱処理工程とを備えている。 - 特許庁

In the method, the coating film can be formed by dipping in the powder fluidized bed, passing through heating process to form a coating film by heating and after the heating process, applying the powder paint by the electrostatic powder coating or the attraction of the powder paint and utilizing the residual heat of the three dimensional structure by the heating process.例文帳に追加

また、この方法において、粉体流動層に浸漬し、加熱して被膜を形成する加熱工程と、この加熱工程の後、静電粉体塗装又は粉体塗料の吸引により粉体塗料を適用し、前記加熱工程による三次元構造物の余熱を利用して、被膜を形成してもよい。 - 特許庁