「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, assembly of the boom 11 is achieved through a simple welding process, and maintenance etc. thereof after the assembly are easily performed from outside the boom 11.例文帳に追加

また、簡単な溶接手順によってブーム１１を組立てることができ、組立後のメンテナンス等もブーム１１の外側から容易に行うことができる。 - 特許庁

After discharging the chemical liquid by the rotation of the substrate, a first rinse process is carried out by charging up pure water on the substrate from a pure water nozzle 6.例文帳に追加

基板の回転によって薬液を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして１回目のリンス工程が行われる。 - 特許庁

To improve the formation accuracy of a recess for a bulk wave measure after sufficiently dissolving a fault due to bulk waves in the manufacture process of a surface acoustic wave substrate.例文帳に追加

弾性表面波基板の製造工程において、バルク波による障害を十分に解消した上で、バルク波対策用凹部の形成精度を高める。 - 特許庁

When the answer is YES, the acid is injected to the circulation water (S4) after the lapse of a first prescribed period of time N1 (for example, one day), and a process is returned to S2.例文帳に追加

その答が肯定（Ｙｅｓ）のときは第１の所定期間Ｎ１（例えば、１日）経過後に次亜を循環水に注入し（Ｓ４）、Ｓ２に戻る。 - 特許庁

After exposure, a treatment process is used to neutralize the effect of undesirable elements that are diffused into the resist layer 14 during immersion exposure.例文帳に追加

露光の後で、液浸露光中にレジスト層１４中に拡散した望ましくない成分による影響を中和するのに、処理ステップが使用される。 - 特許庁

A draining process is performed for discharging washing water remaining in the container W, after spraying water in the container W.例文帳に追加

容器Ｗの内部に洗浄水を噴射して洗浄した後、容器Ｗの内部に残留した洗浄水を排出させる水切り工程を行なう。 - 特許庁

To provide a new method for producing a fluorine-containing ether compound capable of obtaining the same in a relatively short time in a high selectivity and having simple after treatment process.例文帳に追加

含フッ素エーテル化合物を比較的短時間で高選択的に得ることができ、後処理工程が簡便な新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

After startup of the computer, BIOS access prohibition parts 101A, 104A, 107A perform a process to forbid access to the flash BIOS-ROM 105.例文帳に追加

本コンピュータが起動された後、ＢＩＯＳアクセス禁止部１０１Ａ，１０４Ａ，１０７Ａは、フラッシュＢＩＯＳ−ＲＯＭ１０５へのアクセスを禁止する処理を実行する。 - 特許庁

To provide a dreg-lowering treatment apparatus which facilitates dreg-lowering agent-charging works in a process for producing Sake and also facilitates dreg-draining works and supernatant-draining works after the dregs are lowered.例文帳に追加

清酒の製造過程におけるおり下げ剤の投入作業を容易にするとともに、おり下げ後のおり及び上澄み液の排出を容易にする。 - 特許庁

To provide a device for measuring substrate potential capable of measuring substrate potential as quickly as possible in a process of treatment or after treatment, with simple structure.例文帳に追加

処理中または処理後に可及的速やかに基板電位を測定できるようにした簡単な構成の基板電位測定装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the picture quality of the peripheral portion of an image after subtraction process from decreasing when using a method and device for acquiring radiograph data.例文帳に追加

放射線画像データ取得方法および装置において、サブトラクション処理後の画像の周辺部の画質の低下を防止することができるようにする。 - 特許庁

To provide a motor and a method for manufacturing the same where the insulation of an end not insulated is assured in a simple process after welding a coil module.例文帳に追加

簡素な工程で、コイルモジュールの溶接後の絶縁未処理端部についての絶縁を確保できるモータおよびモータの製造方法を提供することである。 - 特許庁

After the assembly of the seat 1 is completed, a pressing process for applying an external force to the seat 1 is carried out in each of the processes, 'conditioning', 'calibration', and 'product test'.例文帳に追加

シート１の組み立てを終了した後、「慣らし」、「キャリブレーション」、「製品検査」の各工程において、シート１へ外力を加える加圧工程が実施される。 - 特許庁

To provide a panel bender control apparatus that improves processing efficiency by shortening the time for determining the next processing side after processing of a workpiece on a predetermined process side is completed.例文帳に追加

ワークの所定の加工辺の加工が終了した後から次の加工辺を割り出すまでの時間を短縮して加工効率を向上させることにある。 - 特許庁

To provide a cooler which can prevent the trouble in an after process by cooling enough sintered ore even in the case that the quantity of produced sintered ore increases.例文帳に追加

焼結鉱の生産量が増加した場合でも焼結鉱を十分に冷却して、後工程のトラブルを防止できる冷却機を提供する。 - 特許庁

To achieve a double patterning process for printing dense lines by which adverse effects after first pattering and before second patterning are mitigated.例文帳に追加

第１のパターニングの後の、および第２のパターニングの前のエッチングプロセスの悪影響が緩和される、密ラインを印刷するためのダブルパターニングプロセスを実現する。 - 特許庁

To shorten the time required for the entire wafer process performed on a semiconductor storage device and the time required, until the product shipment of the device after data writing, and at the same time, to make the device produceable at a low cost.例文帳に追加

ウエハプロセス全般およびデータの書き込みから製品出荷までに要する時間を短くするとともに、低コストで生産可能にする。 - 特許庁

After one sheet of paper P is fed from the paper feeding section 11, a resetting process to disable feeding of a next sheet of paper is started by the paper feeding section 11.例文帳に追加

給紙部１１から１枚の用紙Ｐが給紙された後、給紙部１１にて次の用紙を給紙不能にするリセット処理が開始される。 - 特許庁

For example, a cache capacity with respect to a log outputted by the DBMS is adjusted in consideration of a rerun time of a process after an abnormal termination of the DBMS.例文帳に追加

例えば、ＤＢＭＳの異常終了後の処理の再実行時間を考慮して、ＤＢＭＳが書き出すログに対するキャッシュ量を調整する。 - 特許庁

The wafer after the wet cleaning process is passed to the bypass conveying mechanism 2406 and passed to the first subpassage A as shown by a movement line L12.例文帳に追加

湿式洗浄処理がなされたウェハは、バイパス搬送機構２４０６に受け渡され、動線Ｌ１２に示すように、第１のサブ通路Ａに受け渡される。 - 特許庁

After feeding a prescribed amount of the white rice 1 into an accommodation container 6, a rice polishing blade 31 is driven by a driving means 33 to start a rice polishing process.例文帳に追加

所定量の白米１を収納容器６内に投入した後、米とぎ羽根３１を駆動手段３３により駆動して米とぎ工程を開始する。 - 特許庁

An area setting part sets an area which is intended to be seen from outside or an area intended to be hidden in a state after the folding process of the form paper.例文帳に追加

領域設定部は、用紙を折り処理した後の状態において外部から見えるようにしたい領域または隠したい領域を設定する。 - 特許庁

Offset electric fields corresponding to the nonvolatile polarizations after being preserved for at least two different periods are obtained in a process P106.例文帳に追加

工程Ｐ１０６において、所定の温度で少なくとも２種類以上の時間だけ保存した不揮発性分極に対応するオフセット電界を求める。 - 特許庁

After a wafer is subjected to a sintering processing, it is cooled down and taken out from the thermal treatment device, by which the wafer is capable of recovering from its damage on a MOS interface level in a preceding process.例文帳に追加

シンター処理後、いったん冷却してから取り出すことにより、ＭＯＳ界面準位などの前工程のダメージを短時間で回復させうる。 - 特許庁

To provide a thermal developing device capable of improving an image life by suppressing the deterioration of an image on a heat developable photosensitive film due to light and heat after a thermal developing process.例文帳に追加

熱現像後における光、熱による熱現像感光フィルムの画像の変質を抑え、画像保存性を向上できる熱現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sample-measuring apparatus having high accuracy, at low cost, which is simple, compact and suitable for transportation and readily performs the concentration computing process after carrying out measurements.例文帳に追加

簡素かつ小型で運搬に適するとともに、計測後の濃度算出処理も簡易な精度のよい試料測定装置を安価に提供すること。 - 特許庁

Afterward, the heating furnace is stopped, an electric discharge gas is introduced if the temperature in the heating furnace reaches the level of room temperature, and a manufacturing process is finished after making an air pipe chipped off (SA11 to 14).例文帳に追加

その後、加熱炉を停止させ、室温程度に達したなら放電ガスを導入し、通気管をチップオフして終了する（ＳＡ１１〜１４）。 - 特許庁

After an angular velocity detection mechanism that resonates within the gyroscope stabilizes, the standby state is canceled and the process is allowed to proceed to the regular detection of an angular velocity.例文帳に追加

そして、ジャイロ内で共振する角速度検知メカニズムが安定するのを待って、スタンバイ状態を解除し通常の角速度検出状態に移行させる。 - 特許庁

As the result, the adhesive composition forming the adhesive layer having an excellent dissolution property after progress of the high temperature process can be obtained.例文帳に追加

これにより、高温プロセス経過後における溶解性が優れている接着剤層を形成できる、接着剤組成物を提供することができる。 - 特許庁

To provide a sharps container which is to prevent generation of jam by freely falling a needle after cut off into a box, a process of manufacturing thereof, and a method of storing needles.例文帳に追加

切り取られた後の針を箱内に自由に落下させて、ジャムの発生を防止するシャープコンテナ、その製造方法、および針の格納方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-treatment agent for metal drying, which prevents irregular appearance or stain after a drying process in a field of water-based metal surface treatment or water-based metal cleaning.例文帳に追加

水系金属表面処理や水系金属洗浄分野において、乾燥ムラ、シミを防止するための金属の乾燥前処理剤を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal transfer image receiving sheet which has excellent sensitivity/light fastness, and can produce a void-free printed object with a successful appearance after printing process.例文帳に追加

感度及び耐光性に優れ、印画しても白抜けがなく、外観が良好な印画物を得ることができる熱転写受像シートを提供する。 - 特許庁

To suppress influence due to environment change, deterioration, variation of disks, or the like after assembling process by reducing jitters of a signal adopting a wobble recording system.例文帳に追加

ウォブル記録方式が採用されている信号のジッタを低減し、組立工程後の環境変化や劣化、ディスクのばらつき等による影響を抑える。 - 特許庁

After a thinning process is finished, it is preferable that the adhesive force of the surface of the double-faced adhesive sheet stuck to the semiconductor wafer be lowered.例文帳に追加

また、前記薄型加工処理後において、前記両面粘着シートの半導体ウエハ貼付面の接着力を低下させることが好適である。 - 特許庁

When the temperature of the washing water is high, bleaching is performed after the temperature of the washing water is decreased by a heat radiation process for the washing water.例文帳に追加

また洗浄水が高温の場合には、洗浄水の放熱工程によって洗浄水の温度が低下してから漂白を行うようにした。 - 特許庁

To easily inspect a degree of vacuum in an image forming device even after a making process of the image forming device and sealing of an exhaust pipe.例文帳に追加

画像形成装置の作成工程や、排気管を封止した後においても、容易に画像形成装置内の真空度を検査することを可能とする。 - 特許庁

In a post-analysis process, the hazardous material content is analyzed by the fluorescence X-ray analysis method using a solid component after the liquid-solid separation as the sample.例文帳に追加

後分析工程として、固液分離されたうちの固体成分を試料として蛍光Ｘ線分析法により有害物質の含有量を分析する。 - 特許庁

The exhaust gas containing HF and SOx is brought into contact with solid Ca(OH)_2 after removing SOx in advance in a SOx removing process.例文帳に追加

ＨＦ及びＳＯｘを含む排ガスを、ＳＯｘ除去工程にて予めＳＯｘを除去してから、固体のＣａ(ＯＨ)_2と接触させる。 - 特許庁

On the other hand, the half tone process is to be performed while referencing a matrix called an order value matrix after once reducing the resolution to half about the other portion.例文帳に追加

一方、その他の部分については、一旦、解像度を半分に落として順序値マトリクスと呼ばれるマトリクスを参照しつつハーフトーン処理を行う。 - 特許庁

If a transferred image does not reach the threshold 22J after inspecting the OPC, process parameters in the region are corrected to create the OPC model again.例文帳に追加

ＯＰＣ検証を実施して、転写像が閾値２２Ｊ内となっていない場合には、その領域におけるプロセスパラメータを修正し、ＯＰＣモデルを再作成する。 - 特許庁

To obtain a process for producing an SOI wafer by smart cut method in which the surface is planarized after stripping and the thickness of a thin film SOI layer is made uniform.例文帳に追加

スマートカット法によるＳＯＩウェーハの作製で、剥離後の表面を平坦化し、ＳＯＩ層を薄膜化して、ＳＯＩ層の膜厚を均一化する。 - 特許庁

The first operating system 152 can be booted by a wake-up process after the second operating system 151 is shut down.例文帳に追加

また、第２オペレーティングシステム１５１終了後に第１オペレーティングシステム１５２を起動する際、スリープ解除の処理を用いて起動処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide an image forming device by which discharge after a transfer process is surely performed and also necessary and sufficient potential at a developing time is easily secured.例文帳に追加

転写行程後の除電を確実に行って且つ、現像時における必要十分な電位の確保を容易にする画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit which includes a fundamental aggregate element wherein a gate pattern (shape of a gate) can be always finished uniform after a wafer process.例文帳に追加

ウェハプロセス後にゲートパターン（ゲート形状）の仕上がりが均一の値を保つことができる基本集合素子を備える半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

To easily and quickly remove a stamper from a substrate after a transfer process, and clean an atmosphere in a transfer device.例文帳に追加

転写工程後、スタンパを容易に、かつ、迅速に基板から取り外すことができ、しかも、インプリント装置内の雰囲気の清浄化を図ることができること。 - 特許庁