「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

To enhance the quality and productivity of a molded product by reducing the molding failure caused by fluctuations in the resin pressure in a screw after a metering (plasticizing) process.例文帳に追加

計量（可塑化）工程後のスクリュ内の樹脂圧力の変動に起因する成形不良を削減して、成形品の品質、生産性を向上する。 - 特許庁

The runner 21 left under the surface of the position of the extraction opening Q1 is removed after the removal of the mold at the same time of the opening process of the extraction opening Q1.例文帳に追加

前記金型離脱後に抽出口Ｑ１の位置下面に残されたランナー２１を、抽出口Ｑ１の開口工程と共に除去する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a diamond sintered compact capable of improving mass productivity by reducing manufacturing time because of a needless process for cutting after sintering.例文帳に追加

焼結後の切断加工が不要であり、製造時間を短縮して量産性を向上することが可能なダイヤモンド焼結体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem where a pattern of photolithography is constricted or a part is left un-etched when a gate electrode is etched in an after process where a gate electrode is formed.例文帳に追加

後工程のゲート電極形成において、フォトリソグラフィでのパターンのくびれやゲート電極エッチング時のエッチング残りなどの問題が生じる。 - 特許庁

After parameters associated with the ARQ/H-ARQ processes are configured, the WTRU assigns an ARQ/H-ARQ process for selected data.例文帳に追加

ＡＲＱ／Ｈ−ＡＲＱプロセスに関連したパラメータが構成された後、ＷＴＲＵが選択されたデータについてＡＲＱ／Ｈ−ＡＲＱプロセスを割当てる。 - 特許庁

In particular, the marking step 2 is provided, after a step 1 of peeling the photosensitive layer and prior to a cleaning step 3 in the regeneration process.例文帳に追加

特に、再生工程における感光層の剥離工程１の後であって、洗浄工程３の前にマーキング工程２を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a laminated sheet for molding which has metallic tone design characteristics and a malleability required during molding and is almost free from a luster change after a malleating process.例文帳に追加

金属調の意匠性および、成型時に必要な展延性を有し、展延加工後に光沢の変化の少ない成型用積層シートを提供する。 - 特許庁

To provide electrophotographic recording paper capable of suppressing curl which occurs after fixing when an image is formed by an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真方式により画像を形成する場合に、定着後に発生するカールを抑制することができる電子写真用記録用紙を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for treating a rice plant or rice propagation material against harmful insects with a view to obtaining sustained and effective protection of the plant after the sowing.例文帳に追加

播種後に植物を持続的に且つ有効に保護するためにイネまたはイネ繁殖体を害虫に対して処理する方法を提供する。 - 特許庁

The heat treatment process comprises: a step wherein at least the tip part of the base material tube is heated at ≥200 to <450°C; and a step wherein cooling is performed after the heating.例文帳に追加

前記熱処理工程は、少なくとも母材管の先端部を200℃以上450℃未満に加熱する工程と、加熱後に冷却する工程とを具える。 - 特許庁

Even if an update process is suspended by power shutdown, it can be restored if updates are performed after a flag indicating an updated state and the key information are disabled.例文帳に追加

更新状態を示すフラグと、鍵情報を無効化してから更新することで、電源遮断により更新処理が中断しても、回復することができる。 - 特許庁

In a mask pattern preparation step, a mask pattern of each cell is prepared by extracting a cell after the OPC from the pattern subjected to the OPC process.例文帳に追加

マスクパターン作成ステップは、前記ＯＰＣ処理が行われたパターンから前記ＯＰＣ後のセルを抽出することによって前記セル毎のマスクパターンを作成する。 - 特許庁

After an output process of the image data stored on the hard disc 12 ends to result in unwanted image data, the unwanted image data are processed into ineffective data.例文帳に追加

ハードディスク１２に記憶された画像データの出力処理が終了して不要となった段階で、不要な画像データを加工して無効化する。 - 特許庁

To provide an electrode substrate having a low specific resistance, capable of being patterned and converted into a transparent conductive film having the low specific resistance with heat treatment after an etching process.例文帳に追加

パターニングが容易で、エッチング工程後の熱処理にて低比抵抗の透明導電膜に転化でき、比抵抗の小さい電極基板を提供する。 - 特許庁

In the temperature-reducing process after growing a p-type GaAs cap layer 508, the substrate is exposed to AsH3 atmosphere to prevent introduction of group-V defect into the active layer.例文帳に追加

p型GaAsキャップ層５０８成膜後の降温過程において、基板をAsH_3雰囲気に曝し、活性層にＶ族欠陥が導入されることを防止する。 - 特許庁

After setting the conditions for recognition, the processing part executes a process of recognition (S1203), and outputs the result of recognition to the presentation control part (S1204).例文帳に追加

処理部は、認識条件の設定を行った後には、認識処理の実行を行い（Ｓ１２０３）、認識結果を演出制御部に出力する（Ｓ１２０４）。 - 特許庁

The principal surface of the glass substrate is subjected to a dry wipe treatment by using a tape after being subjected to a grinding process where texture is formed in the main surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の主表面上にテクスチャーを付与する研磨加工を行った後に、ガラス基板の主表面をテープを用いて乾式でワイプ処理する。 - 特許庁

To provide a solenoid valve not using a body formed of brass and eliminating a treatment process for flux after brazing, improving working environment, and improving productivity.例文帳に追加

黄銅製の本体を使用せず、ろう付け後のフラックスの処理工程を無くし、作業環境の改善、生産性の向上が図れる電磁弁を提供する。 - 特許庁

After hardening, a reference mark 10 to be a reference for matching the position of the feed hole 12 with the slit groove 13 formed in a post-process is formed.例文帳に追加

焼入れ後、供給穴１２と後工程で形成するスリット溝１３との位置を一致させるための基準となる基準印１０を形成する。 - 特許庁

To provide a charging member capable of maintaining excellent wear resistance even after repeated use, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the charging member.例文帳に追加

繰り返し使用しても優れた耐磨耗性を維持し得る帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

A press ram 4 is directly reciprocated by a ball screw mechanism 17 operated by a servo motor 13, and the moving speed before and after a pressing process is increased.例文帳に追加

サーボモータ１３で作動するボールねじ機構１７によって加圧ラム４を直接往復動させる構成とし、加圧工程の前後の移動速度を高速とする。 - 特許庁

To provide a connection device and manufacturing method of connection structure capable of removing an organic film and moving to a mounting process of an electronic component right after exposing a clean electrode surface with a simple configuration.例文帳に追加

簡易な構成で有機膜の除去を行い、清浄な電極表面を露出させた後、直ちに電子部品の実装工程に移る。 - 特許庁

Further, it is estimated that the exhaust of graphite in the process of the welding is efficiently performed as well, and the induction of the improvement of strength after the welding is sufficiently expected.例文帳に追加

さらに圧接中の黒鉛の排出も効率的に行なわれると推定できるし、圧接後の強度の向上を誘起することも十分期待できる。 - 特許庁

After the retaining surface 17 is carburized, the bearing support body 12 is divided into two by a natural split process, thereby forming a bearing stand 14 and a journal cap 16.例文帳に追加

次に保持面１７を浸炭処理した後、軸受支持体１２を自然割り加工で２分割し、軸受台１４とジャーナルキャップ１６とを形成する。 - 特許庁

The united plate having the metal wires 11 planted on the glass 13 is disassembled into respective tools during a disassembly process C after slow cooling, to have the united plate 17 separated.例文帳に追加

金属線材１１がガラス１３に植設した合体合板は、徐冷後に分解工程Ｃで各治具が分解されて合体合板１７が分離される。 - 特許庁

The printer can carry out the both-side printing operation including a process for printing the other faces of M sheets (M≤N), after printing one-faces of the paper sheets of N sheets.例文帳に追加

また，プリンタは，Ｎ枚の用紙の片面を印刷した後に，他面をＭ（Ｍ≦Ｎ）枚印刷する工程を含む両面印刷を行うことが可能である。 - 特許庁

To provide a method for forming a business form which can find any business form separated at a scoring part by checking the scoring part immediately after performing a scoring process.例文帳に追加

筋押しが行われた直後に、筋押し部の検査を行い、筋押し部で分断された帳票を発見できるようにすることを目的とするものである。 - 特許庁

The rotor 40 releases the holding of the envelope E in another position after the transfer of the envelope E, thereby discharging the envelope E toward a subsequent process.例文帳に追加

また回転体４０は、封筒Ｅを移送した後に別の位置で封筒Ｅの保持を解除し、後工程に向けて封筒Ｅを排出することができる。 - 特許庁

To provide a golf ball in which, in the process of grinding the entire ball surface after molding, the size of the dimples is maintained and the designed surface occupation ratio thereof is achieved.例文帳に追加

成形後の球面研磨工程において、ディンプルの大きさを維持でき、設計した表面占有率を実現できるゴルフボールを提供する。 - 特許庁

To predict whether a slip occurs in a process during maintenance, and to cope with slippages during the maintenance, rather not through opening of furnace opening, after the maintenance.例文帳に追加

メンテナンス中にプロセス時のスリップ発生の有無を予測し、メンテナンス後の炉内開放ではなく、メンテナンス中にスリップ発生に対する対応を行う。 - 特許庁

In a manufacturing process of this light irradiation block accommodated in a switch, after a lead plate is insert-molded in a resin, it is divided into individual lead plate parts 3.例文帳に追加

スイッチの内部に収納される照光ブロックの製造過程において、樹脂にリード板がインサート成形された後に個々のリード板部位３に分断される。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a unevenness, that is, nonuniformity of polishing on a polishing surface of a glass substrate after polishing in a single-side polishing process for polishing a surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の表面を研磨する片面研磨工程において、研磨後のガラス基板の研磨面に凹凸、即ち研磨ムラが発生することを防止する。 - 特許庁

To provide a charging member capable of maintaining superior wear resistance even after repeated use, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus each having the charging member.例文帳に追加

繰り返し使用しても優れた耐摩耗性を維持し得る帯電部材、並びに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

A composite machine 1, after completion of the process of printing a print history, creates a log file made of character codes "A", "B" and "C" and transmits the file to a personal computer 2.例文帳に追加

複合機１は、印刷履歴の印刷処理が完了した後、文字コード「Ａ」，「Ｂ」，「Ｃ」にて作成したＬｏｇファイルを作成してＰＣ２に送信する。 - 特許庁

To reliably complete a series of shut-down process after the supply of external power is stopped, in an information processor equipped with a UPS.例文帳に追加

ＵＰＳを備えた情報処理装置において、外部電源の供給が停止した後における一連のシャットダウン処理を確実に完了させること - 特許庁

Thus, after the face is no longer recognized in the face recognition process, the lens barrel 3 rotates at a predetermined original speed.例文帳に追加

したがって、それ以降の、つまり、顔認識処理において顔を認識されなくたった後の回転移動では、元の所定の速度で鏡筒３が回転移動する。 - 特許庁

The gradation is made proper in the entire conversion range and no uneven gradation is caused in data after the conversion in the image processing process to keep the image quality excellent.例文帳に追加

変換範囲全体で階調の適正化が図れ、変換後のデータに対する画像処理過程で階調ムラが発生せず、画質を良好に保つ。 - 特許庁

To suppress entering of an oxidant gas into a fuel cell during stopping process or after stop of the fuel cell with a simple structure.例文帳に追加

単純な構成で、燃料電池の停止処理中または燃料電池の停止後に燃料電池へ酸化剤ガスが進入することを抑制する。 - 特許庁

A controller 302 performs a printing process after correcting image data so as to offset the amount of displacement of the main scanning line stored in the color shift amount storage sections.例文帳に追加

コントローラ３０２において、色ずれ量記憶部に記憶された主走査線のずれ量を相殺するように画像データを補正して印刷処理を行う。 - 特許庁

Even with a CVD process at low temperature, the growth of a nitride thin film 24 can be started at once after cleaning, and a barrier film 33 of good quality can be also formed.例文帳に追加

低温のＣＶＤプロセスでも、クリーニング後、直ちに窒化物薄膜２４の成長が開始でき、品質のよいバリア膜３３を形成することができる。 - 特許庁

To suitably protect a photoreceptor not only in transport of an image forming apparatus but also in maintenance of a process cartridge after the image forming apparatus operates.例文帳に追加

画像形成装置の輸送時だけでなく、画像形成装置の稼動後におけるプロセスカートリッジのメンテナンス時において、好適に、感光体を保護する。 - 特許庁

After the mold 8 is separated, oxygen is radiated onto a surface of the fine pattern 2a (HSQ film 2) without a heating process for the HSQ film 2.例文帳に追加

モールド８を剥離したのち、ＨＳＱ膜２の加熱過程をはさむことなく、微細パターン２ａ（ＨＳＱ膜２）の表面に酸素照射を行う。 - 特許庁

After the last cleaning process 17 using hydrofluoric acid, processes 18 and 19 where polysilicon is cleaned with pure water and then is dried are preferably added.例文帳に追加

最後のフッ酸による洗浄工程１７の後で、上記ポリシリコンを純水で洗浄した後、乾燥する工程１８，１９を含むことが好ましい。 - 特許庁

The process may include one or more additional processing steps such as adding a coating agent after the moderate speed mixer/densifier to facilitate and control agglomeration.例文帳に追加

中速ミキサー／圧縮装置の後にコーティング剤を加えるなどの１以上の追加の加工段階を含み、凝集を促進しかつ制御することができる。 - 特許庁

To accurately correct a detection error of a zero-phase current transformer in a process after part assembly, and easily eliminate variation of tracking determination levels on each product.例文帳に追加

部品組立後の工程で零相変流器の検出誤差を正確に補正し、製品毎のトラッキング判定レベルのばらつきを簡単に解消する。 - 特許庁