| 意味 | 例文 |
After processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8071件
The connection process further includes a rearrangement process for rearranging a measuring order of battery cells CL, etc., in a next measuring series in the order of largeness of each voltage value measured this time, after finish of the measuring series.例文帳に追加
接続工程は、測定シリーズを終えた後に、次回の測定シリーズにおける電池セルCL,CL,…の測定順序を、今回測定された電圧値の大きさの順に並べ替える並べ替え工程とをさらに含む。 - 特許庁
The manufacturing method of the power storage element has a degassing process in which the gas in a housing case 110 is exhausted to the outside after applying a prescribed treating process to a temporary sealed battery 102 (temporary sealed storage element).例文帳に追加
本発明の蓄電素子の製造方法は、仮封止電池102(仮封止蓄電素子)に所定の処理工程を施した後、収容ケース110内のガスを外部に排出するガス抜き工程を備えている。 - 特許庁
The process release paper is constituted so that after giving an embossing process on the emboss-processing layer 4 by heat embossing, the first thermoplastic resin layer is peeled off and the second thermoplastic resin layer 3 can be exposed.例文帳に追加
工程離型紙用基材は、エンボス加工層4に熱エンボスによるエンボス加工を施した後、第1熱可塑性樹脂層を剥離し、第2熱可塑性樹脂層3を露出させることができるように構成されている。 - 特許庁
When the ferrule 22 used in the second process has a female shape, the first process further includes a terminal processing such as grinding after the metal sleeve 23 is fixed to the end of the multicore optical fiber 21.例文帳に追加
第二工程で用いられるフェルール22を雌型の形状のものとすると、第一工程は、金属スリーブ23をマルチコア光ファイバ21の端末に固定した後に、研磨等の端面処理を施す工程を更に含む。 - 特許庁
To provide a box cleaner having a structure which reduces loading generated when raising a tray, after the washing process of a wafer shipping box is completed, and prevents the occurrence of secondary contamination when performing a drying process.例文帳に追加
ウェハーシッピングボックスの洗浄工程が終了した後、トレーを上昇するときに発生する負荷を減らし、乾燥工程を行うときの2次汚染の発生を防止する構造を持つボックスクリーナーを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for producing the subject thermal insulation material, favorable in foam fluidity during molding process, excellent in demoldability after the molding process, and capable of giving the polyurethane foam with high compressive strength and thermal conductivity retention.例文帳に追加
成形時のフォームの流動性が良好であり、成形後の脱型性に優れ、圧縮強度が高く、熱伝導率を維持したポリウレタンフォームを与えるポリウレタンフォーム断熱材の製造法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing semiconductor device, in which the resistance value of a polycrystalline silicon layer after a wiring process in the manufacturing process of semiconductor device can be adjusted to a predetermined resistance value.例文帳に追加
半導体デバイスの製造工程の配線加工処理後における多結晶シリコン層の抵抗値を所望の抵抗値に調整することができる半導体デバイスの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
The CPU 113 continuously preserves the printing data in the hard disk 115 after the printing process if the printing data related to the printing process is printing data for service whose output result should be repeatedly provided to a customer.例文帳に追加
CPU113は、印刷処理に係る印刷データが、出力結果を顧客に繰り返し提供すべきサービス用印刷データである場合には、その印刷データを印刷処理後にハードディスク115に継続して保存する。 - 特許庁
The CPU 113 deletes the printing data from the hard disk 115 after the printing process if the printing data related to the printing process is printing data for business affairs whose output result should be provided only once to a clerk.例文帳に追加
CPU113は、印刷処理に係る印刷データが、出力結果を店員に1回のみ提供すべき業務用印刷データである場合には、その印刷データを印刷処理後にハードディスク115から消去する。 - 特許庁
Such a steel wire can be obtained through a process for drawing a steel wire using, for example, a sodium lubricant, and a process for wiping away the lubricant remaining on the steel wire surface with alcohol after this wire drawing.例文帳に追加
このような鋼線は、例えばNa系潤滑剤を用いて鋼線を伸線する工程と、この伸線後にアルコールにて鋼線表面に残存する潤滑剤を払拭する工程とを経ることで得ることができる。 - 特許庁
In this case, the POS terminal performs a shift alternation process after performing a stock registering process when a worker in charge of the prize exchange operates a stock registering button for a shift alternation (S106: Yes).例文帳に追加
ここで、POS端末は、景品交換の担当従業員がシフト交替するために在庫登録ボタンを操作したときは(S106:YES)、在庫登録処理を実行してから、シフト交替処理を実行する。 - 特許庁
Charging process is conducted after m electrodes (m: an integer of n≥m≥2) are selected from n electrodes (n: an integer equal to or larger than 2) and discharging process is then conducted for the predetermined period in parallel to the capacitances connected to m electrodes.例文帳に追加
n個(nは2以上の整数)の電極からm個(mはn≧m≧2である整数)の電極を選択し、m個の電極につながる容量に対して平行に、所定の期間放電を行った後、充電を行う。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method and a reinforcing plate, which can reinforce a semiconductor substrate in a thinning process of the semiconductor substrate or a process after thinning and acquire device characteristics while reinforcing the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の薄化工程および薄化後の工程において半導体基板を補強し、且つ補強したまま素子特性が取得できる半導体装置の製造方法および補強板を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which can be manufactured without adding a process where a defect part does not occur in an insulation protection film and the manufacturing cost is raised after an etching process for opening a bonding pad, and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加
ボンディングパッドを開口するためのエッチング工程後、絶縁保護膜に欠損部が発生せず、製造コスト上昇となる工程の追加無しに製造できる半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁
In a manufacturing method of the stamper for the nano imprint, the stamper for the nano imprint is manufactured after the process where a catalyst layer made of a metal is formed on a substrate and the process where the catalyst layer is etched to form an uneven pattern are carried out.例文帳に追加
ナノインプリント用スタンパの製造方法では,基板上への金属から成る触媒層の形成工程,及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て,ナノインプリント用スタンパが製造される。 - 特許庁
Thus, the display area managing means 4 informs the process units R1 to Rn whether the areas can be used after making the process units R1 to Rn send the requests to acquire the display areas.例文帳に追加
このように、各処理単位R1〜Rnから、一旦、表示領域の獲得要求を出させた上で、表示領域管理手段4から各処理単位R1〜Rnに対して使用許可の有無を通知するようにしている。 - 特許庁
Thus, the display area managing means 4 informs the process units R1 to Rn whether the areas can be used after making the process units R1 to Rn send the requests to acquire the display areas.例文帳に追加
このように、各処理単位R1〜Rnから、一旦、表示領域の獲得要求を出させた上で、表示領域管理手段4から各処理単位R1〜Rnに対して使用許可の有無を通知するようにしている。 - 特許庁
The impurity gas, which is hard to remove after becoming panel, is effectively eliminated by establishing the impurity gas elimination process 11, in which a simple substrate is exposed to heating or electric discharging in advance of a sealing process 12.例文帳に追加
封着工程12に先立って、基板単体で加熱あるいは放電にさらす不純物ガス脱離工程11を設けることにより、パネル化後では除去しにくい不純物ガスを有効に排除するものである。 - 特許庁
Since this method does not need to process the auxiliary grounding electrode 70 after jointing, spark discharge gaps are generated with high precision, even when a small-sized spark plug is manufactured, where it is difficult to process the auxiliary ground electrode 70.例文帳に追加
このため、補助接地電極70の接合後の加工が不要で、小型のスパークプラグを作成する場合など補助接地電極70を加工し難い場合でも、火花放電ギャップを精度よく形成できる。 - 特許庁
This system has a process chamber 2 to be loaded with a wafer 1, a heater 3 heating the loaded wafer 1 and a shower head 4 introducing film deposition gas and cleaning gas for etching in the process chamber 2 after film deposition treatment.例文帳に追加
ウエハ1がロードされるプロセスチャンバー2と、ロードされたウエハ1を加熱するヒーター3と、成膜ガス及び成膜処理後のプロセスチャンバー2内のエッチング用クリーニングガスを導入するシャワーヘッド4とを有している。 - 特許庁
The process (B) adds the specimen to a liquid culture medium after the process (A), and measures the number of the heat-resistant bacteria by using an oxygen electrode and measuring a change in a concentration of oxygen dissolved in the liquid culture medium.例文帳に追加
また工程(B)は、前記工程(A)の後に、検体を液体培地に添加し、酸素電極を用いて液体培地の溶存酸素濃度の変化を測定することにより、耐熱性菌数を測定する工程である。 - 特許庁
To solve the problem, wherein an adhesive overflows to the outer peripheral surface of a magnet roller and both-end surfaces of the magnet roller in the axial direction and a process of removing the adhesive, having overflowed after a bonding process becomes necessary which would cause cost increase.例文帳に追加
マグネットローラ外周面や、マグネットローラ軸方向両端面への接着剤溢れが発生し、接着工程後に溢れた接着剤を除去する工程が必要となり、コストアップの原因のひとつとなっている。 - 特許庁
To provide a visual inspection system for a semiconductor capable of specifying the flaw having increased or disappeared before and after a predetermined process of a semiconductor manufacturing process; a visual inspection method; and a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加
半導体製造工程の所定の工程の前後で増加又は消失した欠陥を特定することが可能な半導体外観検査装置、外観検査方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a plane display panel capable of implementing a sealing process in a steady temporary fixing state, without causing position shifting at transfer to the sealing process, after superimposing the front substrate and the rear substrate.例文帳に追加
前面基板と背面基板とを重ね合わせた後、封着工程へ搬送時にも位置ずれを起こすことなく確実な仮固定状態で封着工程を実施できる平面ディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The examination method of the equol producing bacteria is constituted so as to examine whether the equol producing bacteria are present in the intestines using blood or urine which ingests isoflavonoid and is sampled after a definite time and includes a process for analyzing the specimen originating from the blood or urine in the analyzing process.例文帳に追加
エクオール産生菌の検査方法は、イソフラボノイドを摂取し、一定時間後に採取される血液又は尿を用いて、腸内にエクオール産生菌が存在するか否かを検査する方法である。 - 特許庁
A random-number addition control part 280 controls a selector 260 according to an image process (image data) and selects and outputs either the image data after the random-number adding process or the input image data.例文帳に追加
乱数加算制御部280は画像処理(画像データ)応じてセレクタ260を制御して画像データによりは乱数加算処理を行った画像データと入力画像データの一方を選択して出力する。 - 特許庁
At the time of the temperature elevation of a cooking completing process after a pre-cooking process is ended, a second temperature change calculating means calculates temperature change and a temperature elevation rice amount and water amount judging means 13 outputs the rice amount and the water amount.例文帳に追加
前炊き工程終了後の炊き上げ工程の昇温時に第二の温度変化算出手段が温度変化を算出し、昇温米量水量判定手段13が米量と水量を出力する。 - 特許庁
The welding faces 2aa, prior to the assembly and welding process of the pair of frame side members 2, 2, are cut so as to have same twisting amount in absolute value as the twisting amount, after, the assembly and welding process and to be in a reverse-directed twisting.例文帳に追加
前記一対の枠辺部材2,2における組立/溶接工程前の溶接面2aaは、組立/溶接工程後のねじれ量と絶対値が等しく、逆向きのねじれとなるように切削される。 - 特許庁
To form a resist pattern which allows a projection part of a resist pattern after a process of etching a remaining film to have a desired width equal to or larger than a width of the projection part of the resist pattern before the process of etching the remaining film.例文帳に追加
レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。 - 特許庁
Further, by irradiating the work W with laser beam L after the work W is preheated, a heat input process is eliminated or the time required for the heat input process is shortened, and the working time of the laser beam machining is shortened.例文帳に追加
また、ワークWをあらかじめ加熱してからレーザ光Lを照射することにより、入熱過程を省略、あるいは、入熱過程に要する時間を短縮し、レーザ加工時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁
After a search process at current search temperature ends, a temperature update means 107 lowers the search temperature and the search process is repeated until the time when the cost for the arrangement data does not show variation.例文帳に追加
現在の探索温度における探索プロセスを終了後温度更新手段107で、探索温度を減少させて探索プロセスを繰り返し、配置データのコストに変動がなくなったときに探索プロセスを終了する。 - 特許庁
Therefore, a second sealing treatment process is carried out after the assembling process, and a sealing treatment agent is coated and sealing-treated at the portion where plating is exposed by scratches and the cut-out face where the copper material is exposed.例文帳に追加
そこで、組立工程の後に第2の封孔処理工程を行い、傷によってめっきが露出している部位や銅素材が露出している切断面に封孔処理剤を塗布して封孔処理を施す。 - 特許庁
(e): After the press fitting process, a finishing tool 31c is mounted on the main spindle 11 of the machine tool used for the press fitting process by means of the automatic tool changer, and the inside diameters of the fitting members B, C are finished by the finishing tool 31c.例文帳に追加
(e)圧入工程の後に、この圧入工程に用いた工作機械の主軸11にツール自動交換装置により仕上ツール31cを挿着して、嵌合部材B、Cの内径仕上げをする。 - 特許庁
A CPU interrupts a transfer process by disabling data during transfer when receiving the transfer interruption signal SS1, and makes in a standby state after a process in execution is completed when receiving the suspend signal SUS1.例文帳に追加
CPUは、転送中断信号SS1を受けると転送中のデータを無効として転送処理を中断し、サスペンド信号SUS1を受けた際には、実行中の処理が終了した後、待機状態にする。 - 特許庁
Fluorine and the like can be insolubilized by carrying out the landfill process and the water spraying process alternately after mixing calcium oxide so that the insolubilization treatment can be carried out at the excavating site, which can be landfilled again with the treated material as it is.例文帳に追加
酸化カルシウムを混合した後、埋立工程及び散水工程を交互に行うことによりフッ素等を不溶化できるため、掘削現場で不溶化処理をすることができ、そのまま再度埋め立てることができる。 - 特許庁
A development process (d) is carried out to a photosensitive paste layer 12 of a height of about 13 μm under a condition that exposure is repeated twice, a baking process (e) is finished after that, and a circuit pattern 20 is formed.例文帳に追加
露光を2回繰り返した状態にて、図1(d)において、高さ13μm程度の感光性ペーストの層12に対して現像工程を実施し、その後焼成工程を終え、配線パターン20を形成する。 - 特許庁
It is configured to perform a slit cutting process for forming slits 14e on the outside circumferential surface of the commutator 14 fixed to the armature 8 after a coating process of coating a molding material M for fixing an armature coil 13.例文帳に追加
アマチュア8に固定されたコミュテータ14の外周面にスリット14eを形成するスリット切削工程を、アマチュアコイル13を固定するためのモールド材Mをコーティングするコーティング工程より後に行うようにする。 - 特許庁
A nondestructive inspection process of a butt welding part of the pipe to be performed after a welding process for welding the pipe which is attempted to be newly connected to the end of the already connected pipe by butting is performed while moving the facility ship forward.例文帳に追加
既に接続した管の端部に新たに接続しようとする管を突き合わせて溶接する溶接工程の後に行う、管の突き合わせ溶接部の非破壊検査工程を、敷設船を前進させながら行う。 - 特許庁
Also, the radiation imaging apparatus creates data for remaining compressed images, creates difference data in the direction of the signal line for each image data making up data for remaining images after the thinning process, and performs a compression process on the difference data.例文帳に追加
また、圧縮残り画像用データを作成する、間引き処理後の残り画像用データを構成する各画像データについて信号線方向の差分データを作成し、当該差分データに対して圧縮処理を行う。 - 特許庁
In a method for forming a chip from wafer, a die 30 containing an integrated circuit removes a substrate material 32 damaged in a cutting process through selective etching, after the material 32 is separated (cut off) from a wafer with a CO2 laser beam in the cutting process.例文帳に追加
本発明の一実施例によれば、集積回路を含むダイがCO_2レーザによりウェハから分離(切断)された後、この切断プロセスの間に損傷を受けた基板材料を、選択性エッチングプロセスで除去する。 - 特許庁
To provide a forming machine capable of forming a low-cost and high quality cylindrical filter by continuously performing all processes such as a forming process and a press process after a cylindrical internal layer body is arranged by operators.例文帳に追加
作業者が円筒状内層体を設置した後は、成形工程、プレス工程等のすべての工程を連続的に行い、安価に品質のよい円筒状フィルターを作製することができる成形機を提供すること - 特許庁
Furthermore, the semiconductor device is obtained through a wire-bonding process and a sealing process, after the semiconductor element has been mounted on the supporting member, to which adhesive is applied and the semiconductor element and the support member are bonded by heat curing.例文帳に追加
また、支持部材に前記接着剤を塗布し、これに半導体素子を載置し、加熱硬化により半導体素子と支持部材とを接着させた後、ワイヤボンディング工程、封止工程を経て得られる半導体装置。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a process for the ultrasonic connection of the conductor strap 6 onto the semiconductor element 5, and a process for mounting the semiconductor element on the bed 7 after connecting the conductor strap 6 to the semiconductor element 5.例文帳に追加
導電体ストラップ6を半導体素子5上に超音波接続する工程と、導電体ストラップ6を半導体素子5に接続した後、ベッド7上に半導体素子をマウントする工程とを備えている。 - 特許庁
The controller does not display the work procedures of the next process even if there is an instruction input, until the standard work time elapses after the display of the work procedure of one process.例文帳に追加
ここで、制御装置は、一の工程の作業手順を表示してからその工程の標準作業時間が経過するまでは指示入力があっても次の工程の作業手順に表示を切り替えないことを特徴とする。 - 特許庁
By performing the pore making process for the carbon nanotube sample after an acid treatment process, voids are formed in the aggregated carbon nanotube sample to improve the purification efficiency of oxidation treatment or the like to be performed afterward.例文帳に追加
多孔化処理工程は、酸処理工程後のカーボンナノチューブ試料に多孔化処理工程を行うことで、凝集したカーボンナノチューブ試料中に隙間を形成し、後に行う酸化処理等の精製効率を向上させる。 - 特許庁
A method for manufacturing polymerizable toner includes a process of separating the colored polymer particles from an aqueous medium after a polymerizing process in the aqueous medium and then drying the colored polymer particles in a wet state.例文帳に追加
水系媒体中での重合工程後、水系媒体から着色重合体粒子を分離し、そして、湿潤状態の着色重合体粒子を乾燥する工程を含む重合トナーの製造方法である。 - 特許庁
To provide a method for operating a thermal treatment apparatus which restricts germanium contamination in a subsequent deposition process when, after a germanium-containing thin film is deposited, a thin film deposition process where germanium could be a contaminant follows.例文帳に追加
ゲルマニウムを含む薄膜の成膜処理をした後に、ゲルマニウムが汚染物質となる薄膜を成膜処理する場合に、後の成膜処理におけるゲルマニウム汚染を抑える熱処理装置の運転方法を提供する。 - 特許庁
In the image forming apparatus having a refresh process of discharging residual toner in a developing device 11 out of the developing device 11, the refresh process is executed after fresh toner is replenished into the developing device 11.例文帳に追加
現像器11内の残留トナーが現像器11から排出されるリフレッシュ工程を有する画像形成装置において、リフレッシュ工程を、現像器11内に未使用トナーが補給されてから実行する。 - 特許庁
Later that process was considered very troublesome, so the technique of 'itahiki' was introduced (craftsmen put a lot of paste on the material, stick it to a lacquered board to dry it, and when it hardened like a board, peel it off; after the whole process finished, craftsmen cut the material to make clothes). 例文帳に追加
その後、この作業が手間がかかると言うことで「板引き」(生地に硬めに糊をして漆を塗った厚板に貼り付け、板のように固まったところではがす加工)をした生地から作られるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
After the copper coating process (S1) and zinc coating process (S2), a multi-layer wire having three layers, namely the steel wire, the copper coating layer, and the zinc coating layer is extended at least until the cross-sectional diameter becomes 0.1 mm or shorter (S4, S5).例文帳に追加
銅被覆工程(S1)及び亜鉛被覆工程(S2)の後、鋼線、銅被覆層、及び亜鉛被覆層の3層を有する多層線を少なくとも断面直径が0.1mm以下になるまで伸線する(S4、S5)。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
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