「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of cleaning the substrate comprises a cleaning process where the synthesized quartz glass substrate is dipped in a cleaning liquid and is irradiated with the ultrasonic wave and a rinse process where the substrate after cleaned is dipped in a pure water and rinse is performed by irradiating the substrate with the ultrasonic wave, and the cleaning process and the rinse process are performed by specifying the sound pressure and total irradiation time of the ultrasonic wave.例文帳に追加

合成石英ガラス基板を洗浄液に浸漬し超音波を照射して洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記基板を純水に浸漬して超音波を照射してすすぎを行うすすぎ工程とを含み、前記洗浄工程及びすすぎ工程を、超音波の音圧と照射総時間とを特定して行う。 - 特許庁

In the method for machining a sheet metal product composed of a plurality of parts through a plurality of machining processes including cutting process as an initial process, all the parts constituting the sheet metal product are continuously machined at once in the cutting process, and after the cutting, all the parts are successively carried as a mass to the succeeding processes to perform the machining of each process.例文帳に追加

複数の部品から構成される板金製品を、切断加工工程を初工程として含む複数の加工工程を通じて加工する方法であって、切断加工工程では、板金製品を構成する全部品を一時に連続して加工し、切断加工後、全部品を一塊として順次後工程に搬送して、各工程の加工を行う。 - 特許庁

The method for producing the capsinoid extract comprises at least a solvent extraction process for extraction-treating capsinoid-containing Chili pepper with a solvent and a concentration process for separating the solvent from the extracted solution after the solvent extraction process and concentrating capsinoid, using ethanol or hydrous ethanol as the extraction solvent and carrying out the solvent extraction process under an acidic condition.例文帳に追加

カプシノイドを含有するトウガラシから溶媒で抽出する溶媒抽出工程と、該溶媒抽出工程後の抽出液から、前記溶媒を分離してカプシノイドを濃縮する濃縮工程とを少なくとも含み、抽出溶媒としてエタノール又は含水エタノールを用い、前記溶媒抽出工程を酸性条件下で行なう。 - 特許庁

A cleaning process step after precision polishing of a glass substrate is provided with a process step of inserting the glass substrate 2 between rotating scrub pads 1a and 1b and subjecting the glass substrate 2 to scrub cleaning while rotating the glass substrate 2 by supporting rollers 3 between an ultrasonic cleaning process step by a detergent and an ultrasonic cleaning process step by pure water.例文帳に追加

ガラス基板を精密研磨した後の洗浄工程において、洗剤による超音波洗浄工程と、純水による超音波洗浄工程との間に、回転するスクラブパッド１ａ，１ｂの間に、ガラス基板２を挟み込むようにし、支持ローラ３によってガラス基板２を回転しつつスクラブ洗浄を行う工程を設けた。 - 特許庁

When an alignment layer of a liquid crystal display apparatus is formed, an alignment layer after rubbing as a primary alignment process and prior to light irradiation as a secondary alignment process is subjected to a pretreatment process, which improves the alignment process efficiency, prevents light leakage in a level difference, improves a color contrast ratio, achieves high picture quality and enhances reliability of the product.例文帳に追加

液晶表示装置で配向膜の形成時に、１次配向処理のラビングをした後、２次配向処理の光照射の前に配向膜に前処理過程を行うことによって、配向処理効率を向上させることができ、段差部での光漏れを防止し、色コントラスト比を向上させて、高画質を具現し、製品の信頼性を向上させる。 - 特許庁

A manufacturing method of the semiconductor device using an SOS (silicon on sapphire) wafer has a process for preparing a sapphire substrate, a process for forming a silicon (Si) layer on the sapphire substrate, a process for injecting silicon ions into the silicon layer, and a process for subjecting the silicon layer to an epitaxial regrowth after injection of the silicon ions.例文帳に追加

本発明は、ＳＯＳ（シリコン・オン・サファイア）ウエハを用いた半導体デバイスの製造方法において、サファイア基板を準備する工程と；前記サファイア基板上にシリコン（Ｓｉ）層を形成する工程と；前記シリコン層にシリコンイオンを注入する工程と；前記シリコンイオン注入の後に、前記シリコン層をエピタキシャル再成長させる工程とを含む。 - 特許庁

This manufacturing method of thin-film semiconductor devices should include a process for preparing a member 120 that has a semiconductor film 110 with a semiconductor device and/or a semiconductor integrated circuit 140 on a separation layer 100, a process for separating the member 120 in the separation layer by the pressure of fluid, and a process for changing the semiconductor film into a chip after the separation process.例文帳に追加

半導体素子及び／又は半導体集積回路140を備えた半導体膜110を分離層100上に有する部材120を用意する工程、該部材120を流体の圧力により該分離層で分離する分離工程、及び該分離工程後該半導体膜をチップ化するチップ化工程を有することを特徴とする薄膜半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The deposition process of the highly oriented diamond film comprises a highly oriented diamond film synthesizing process including at least two stage (001) plane selective deposition conditions, and the film deposition speed in a first stage diamond film 4 synthesizing process is ≤1/10 of the film deposition speed in the second stage diamond film 5 synthesizing process, performed after the first stage.例文帳に追加

この高配向性ダイヤモンド膜の形成工程は、少なくとも２段階の（００１）面選択成長条件による高配向性ダイヤモンド膜合成工程を有し、第１段階のダイヤモンド膜４の合成工程の成膜速度が、それ以降に行われる第２段階のダイヤモンド膜５の合成工程の成膜速度の１０分の１以下である。 - 特許庁

This probe manufacturing method comprises a process for heating a metal raw material under vacuum or inert gas atmosphere, a process for working the metal raw material into a needle body after the heating, a process for removing the impurity on the needle body surface by heating the needle body under reducing atmosphere, and a process for removing a reducing element adsorbed or diffused in the needle body after removing the impurity.例文帳に追加

金属素材を真空中又は不活性ガス雰囲気中で加熱する工程と、前記加熱後、前記金属素材を針状体に加工する工程と、前記針状体を還元性雰囲気中において加熱することにより、針状体表面の不純物を除去する工程と、前記不純物の除去後、前記針状体に吸着又は拡散している還元性元素を除去する工程とからなることを特徴とする探針製造方法である。 - 特許庁

To provide a resin sealing molding device of a semiconductor chip which improves productivity in a molding process furthermore by coupling a required number of arrangement constitutions wherein one substrate is subjected to compression molding to a pair of compressing molding dies after consistently effectively and smoothly carrying out processes before and after a molding process in a production line such as a pre (bonding) process and a post (dicing) process.例文帳に追加

生産ラインにおけるモールド工程の前後の工程、例えば、前（ボンディング）工程、後（ダイシング）工程等を一環して効率良く円滑に行うことを加味したうえで、一対の圧縮成形用金型に対して一枚の基板を圧縮成形する配置構成を所要数連結することにより、より一層モールド工程における生産性の向上を図る、半導体チップの樹脂封止成形装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To protect a contact hole against a connection failure, by a method wherein a barrier metal layer is prevented from being corroded in an after treatment process where resist is removed after a wiring layer is patterned.例文帳に追加

配線層のパターニングを行った後、レジストの除去等の後処理工程においてバリアメタル層が腐食されず、コンタクトホールの接続不良が防止された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cold-rolling oil composition for making the color tone of a stainless steel plate uniform without causing a pattern on the surface of the steel plate after the annealing and pickling after the cold rolling in a process of cold rolling of the stainless steel plate.例文帳に追加

ステンレス鋼板の冷間圧延の工程において、冷間圧延後の焼鈍、酸洗後に鋼板表面に模様を発生させないで色調が均一となるような、冷間圧延油組成物を提供する。 - 特許庁

After discharging the mixed gas from the mold cavity, the molded object is unloaded after passing through steps such as resin packing, dwell process and cooling.例文帳に追加

この工程を経て、離型時で生じるかじれやとられなどの不良を低減し、金型固定側に微細な溝や精密加工された表面形状を反転した形状を樹脂表面に限りなく同形に転写が可能となる。 - 特許庁

In addition, a train is advanced to the going-out track circuit after there is a lapse of a given time at least after the rising of the going-out track circuit so that two trains are not co-existed in the process of the delivery between stations.例文帳に追加

また、進出軌道回路へ列車を進めるときは、少なくともその進出軌道回路が「こう上」してから所定時間が経過したのちに行い、駅間受渡しの過程で２列車が混在しないようにする。 - 特許庁

After heating the raw material to a temp. near the solidus at comparatively rapid speed, this raw material is slowly heated to the suitable temp., at which the material is softened after exceeding the solidus, and successively, the pressurize-forming process is executed.例文帳に追加

前記素材を常温から固相線近くの温度に比較的急速に加熱した後、固相線を越えて材料が柔らかくなる適当な温度まで緩徐に加熱し、次いで加圧成形工程を行う。 - 特許庁

To prepare a biaxially oriented polyester film showing excellent releasability even after repeated use, use after a molding process, and use under a water atmosphere, and further exhibiting a stable performance with a small dispersion, and having excellent releasability.例文帳に追加

繰返しの使用、成形加工後の使用、水雰囲気下での使用の後にも優れた離型性を発現し、かつバラツキが小さく安定した性能を発揮する、離型性に優れた二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a photomask, which allows a process from heat treatment to drawing after resist coating to be performed without exposing a mask blank to the atmosphere, and to reduce a residual solvent after the resist coating.例文帳に追加

レジスト塗布後の熱処理から描画までの工程を、マスクブランクを大気に曝すことなく行なうことができ、かつレジスト塗布後の残留溶媒を低減することができるフォトマスクの製造装置を提供する。 - 特許庁

In the method for cooling the thick steel plate after a finish rolling in the manufacturing process of the thick steel plate, descaling is executed at one second or more before a control cooling when the control cooling is performed after the finish rolling.例文帳に追加

厚鋼板製造工程で仕上圧延後に厚鋼板を冷却する方法において、仕上圧延を行った後に制御冷却を行うに際して、制御冷却の前１秒以上おいてデスケーリングを行う。 - 特許庁

The control section 11 selects, in accordance with the original scan conditions a first processing to start the original reading process after the user authentication or a second processing to perform the user authentication after starting the original reading processing.例文帳に追加

制御部１１は、ユーザ認証後に原稿の読み取り処理を開始する第１の処理、あるいは、原稿の読み取り処理の開始後にユーザ認証する第２の処理を、原稿の読取条件に応じて選択する。 - 特許庁

In the process of the deletion, regions of the objects of subjects to be deleted are released after all processes obtaining the lock for the object group finish off, and after the pointers for the subjects to the deleted are cut off and changed.例文帳に追加

また、削除処理において、削除対象へのポインタを切り離し、あるいは付け替えた後、オブジェクトグループに対してロックを取得している全処理が完了した後に、削除対象オブジェクトの領域を解放する。 - 特許庁

The manufacturing method of the ferromagnetic metal powder includes a process which carries out wet classification of a minute particle which exists at least in either suspensions of after goethite generation reaction or after surface treatment to the goethite.例文帳に追加

ゲータイト生成反応後、及びゲータイトへの表面処理後の少なくとも何れかの懸濁液内に存在する微細な粒子を湿式分級する工程を含む、上記強磁性金属粉末を製造する方法。 - 特許庁

This dry etching method is designed to cause a mass spectrometer to detect AlFx, which is a reaction product, one minute after the start of a dry etching process of an Al2O3 film, the processing of which comes after an SiO2 film has been completely dry-etched.例文帳に追加

ＳｉＯ_2 膜がドライエッチングにより完全に堀り抜かれ、Ａ１_2Ｏ_3 膜のドライエッチングが開始されて１分が経過した後に、質量分析計において反応生成物であるＡ１Ｆｘが検出される。 - 特許庁

Subsequently, the concrete is placed in the hole H; directly after that, the high-frequency vibrators 12 are started so as to vibrate the concrete of the pile head part; and after that, the high-frequency vibrators 12 are pulled upward so that a hardening process can be performed.例文帳に追加

次に、コンクリートが孔Ｈに打設され、この直後に高周波バイブレータ１２を起動し、杭頭部のコンクリートを振動させ、その後、各高周波バイブレータ１２を上方に引き上げ、硬化工程を行なう。 - 特許庁

By the torque limiting device, after the start (t1) of the pressure holding process, in a prescribed section T after the start (t2) of a screw to retreat [a screw velocity shown in (a) is negative], as shown in (b), the output torque of a servomotor for injection is limited.例文帳に追加

該トルク制限器によって、保圧工程開始（ｔ１）後、スクリュが後退（（ａ）に示すスクリュ速度が負）開始（ｔ２）してから所定区間Ｔ、（ｂ）に示すように、射出用サーボモータの出力トルクを制限する。 - 特許庁

The method of generating cracks after heating a polycrystalline silicon rod R by carrying out quenching includes: a local cooling process which injects a cooling fluid spottedly on a part of a surface of the polycrystalline silicon rod R; and a whole cooling process of causing the cooling fluid to contact to the whole outer surface of the polycrystalline silicon rod R after the local cooling process.例文帳に追加

多結晶シリコンロッドＲを加熱した後に急冷することによりクラックを発生させる方法であって、冷却流体を多結晶シリコンロッドＲの表面の一部にスポット状となるように噴射する局部冷却工程、局部冷却工程の後に、多結晶シリコンロッドＲの外表面の全体に冷却流体を接触させる全体冷却工程を有する。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of etching the first and second surfaces of a semiconductor board oppositely disposed to each other using an acid solution, a process of forming a protective film on the first surface of the semiconductor board after the etching with the acid solution, and a process of etching the second surface of the semiconductor board with an alkaline solution after the formation of the protective film.例文帳に追加

半導体基板の第１の面および第１の面の反対側にある第２の面を酸溶液を用いてエッチングする工程と、酸溶液を用いたエッチング後に半導体基板の第１の面上に保護膜を形成する工程と、保護膜の形成後に半導体基板の第２の面をアルカリ溶液を用いてエッチングする工程とを含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

Otherwise, this method comprises a process of preparing a layer coating solution having a dispersed matter dispersed in a solvent, a process of retaining the layer coating solution for 30 minutes to 200 hours after the preparation of the layer coating solution with stirring, and a process of forming the layer coating solution after retaining on a support.例文帳に追加

また、溶剤中に分散物が分散してなる層塗布液を調製する工程と、該層塗布液を、少なくとも一部において攪拌を加えながら、層塗布液調製後３０分以上２００時間以内保持する工程と、保持後の層塗布液からなる層を、支持体上に形成する工程と、を有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。 - 特許庁

Such a printable layer forming process is included in this method that a cooling process is executed from the face side opposite to a face of the substrate 22 whereon the printable layer 24 is formed, and simultaneously or after this process, a drying process is performed for applying the heating process from the face side whereon the printable layer 24 is formed.例文帳に追加

基板２２上に、インク受容層を少なくとも含むプリンタブル層２４を有するディスク状情報媒体の製造方法であって、基板２２の前記プリンタブル層２４が形成される面とは反対の面側から冷却処理を施し、同時に、または、その後に、前記プリンタブル層２４が形成される面側から加温処理を施す乾燥処理を行うプリンタブル層形成工程を含むディスク状情報媒体の製造方法である。 - 特許庁

In the online patch processing method of an application process to be performed by a server, a management process 1 is characterized to decide whether or not the status of a target process is being performed, and when it is being performed, to temporarily stop the target process, and then to perform the exchange of an object executable file, and to start the object process again after its completion.例文帳に追加

本発明のオンラインパッチ処理方法は、サーバにて実行されているアプリケーションプロセスのオンラインパッチ処理方法において、管理プロセス１が対象プロセスの状態が実行中であるか否かの判定を行い、実行中であれば、一旦、対象プロセスを停止させた後に、対象実行ファイルの入れ替えを実施し、完了後に再び対象プロセスを起動する過程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a defective wiring detection device which is capable of electrically evaluating whether the wiring is open or short-circuit both in an in-line manner or after a final process.例文帳に追加

インライン中及び最終工程後の両方においてオープン／ショートの電気的評価を行うことのできる配線不良検出素子を提供する。 - 特許庁

Especially, in a malted rice production process on and after a best condition, when the steamed rice sprinkled with seed malt is irradiated with a red light, malted rice having a high CA/ACP value is obtained.例文帳に追加

特に、盛以降の製麹工程において、種麹をふった蒸米に赤色光を照射すると、ＧＡ／ＡＣＰ値の高い麹が得られる。 - 特許庁

To reduce a burden on a radiologist as a user by removing an extra operation which has been required after a medical image is displayed to proceed to an image reading process.例文帳に追加

医用画像の表示後、読影作業に移行する前に必要であった無駄な操作をなくすことで、ユーザである読影医の負担を低減する。 - 特許庁

To provide a grinding machine and a grinding method, capable of carrying out accurate machining without the need of an examination process after the grinding.例文帳に追加

研削加工終了後の検査工程を不要としつつ、高精度な加工を行うことができる研削盤および研削加工方法を提供する。 - 特許庁

To position a work with high accuracy on the basis of a reference shape part such as a hole, eliminate a finishing process after end face turning to simplify the machining processes.例文帳に追加

孔等の基準形状部を基準にワークを高精度に位置決めし、端面旋削後の仕上工程を省略し、加工プロセスを簡略化する。 - 特許庁

To provide a clear preview picture similar to a non-miniaturized picture at the time of preview-displaying an image after subtractive color proc ess and miniaturizing process.例文帳に追加

減色処理した画像を縮小化処理してプレビュー表示するときに、縮小前の画像と同様な鮮明なプレビュー画像を提供すること。 - 特許庁

To accurately estimate the amount of changes in threshold after the preset life time of products, and at the same time, to feed an evaluated result back to a manufacturing process.例文帳に追加

予め設定した製品寿命時間が経過した後の閾値変動量を正確に予測すると共に評価結果を製造プロセスにフィードバックする。 - 特許庁

To provide a digital camera for recording an image in a memory or the like that enhances the visibility of display at image confirmation after photographing and simplifies a process of image management.例文帳に追加

画像をメモリ等に記録するデジタルカメラにおいて、撮影後の画像確認時の表示の視認性向上、および、画像管理過程を簡略化する。 - 特許庁

After the welding, a tip end side of the flange 45 is removed to perform a residual stress reducing process for reducing the tensile residual stress at the tip end side of the flange 45.例文帳に追加

この溶接後、フランジ４５の先端側を除去し、フランジ４５の先端側の引張残留応力を低減させる残留応力低減工程を行う。 - 特許庁

Moreover, when a command of confirming a difference of images is generated, data stored in the frame buffer are discarded and the process is terminated after receiving data is finished.例文帳に追加

さらに、画像の差異を確認する旨の指示があったならば、フレームバッファに保存されるデータを破棄し、データの受信が終了したならば、処理は終了する。 - 特許庁

A source space image including the previously determined half-tone texture is reconstructed by an inverse transformation which is executed successively after compression release process.例文帳に追加

圧縮解除プロセスの後、引き続いて実行される逆変換によって、あらかじめ決定されたハーフトーン・テクスチャを含むソース空間画像が再構築される。 - 特許庁

In the growth process, the pulling speed after the pass of the seeding part 17a through the encapsulant 16 is set at 5 to 15 mm/h or lower.例文帳に追加

また、成長過程において前記種付け部１７ａが前記液体封止剤１６中を通過した後の引上速度は、５mm／ｈ以上、１５mm／ｈ以下とする。 - 特許庁

To prevent a large load put on the parent unit at the correction process of the illumination information before correction, by controlling by each child unit the local illumination information after correction.例文帳に追加

各子機でローカルな補正後の照度情報を管理し、補正前照度情報の補正処理で親機の負荷が著しく重くなることがないようにする。 - 特許庁

To reduce or completely prevent a bounce of a valve needle and post injection accompanied by the bounce after completion of fuel injection process, by using a simple means.例文帳に追加

燃料噴射過程の終了後の弁ニードルの跳ね返りとこれに伴う後噴射を、単純な手段で減少するか完全に防止する。 - 特許庁

To easily crush a can by concentrating a load from an axial direction of the can after drinking without deforming at the time of manufacturing process of the can and transportation thereof.例文帳に追加

缶の製造工程及び運搬の際に変形することなく、飲料後に缶の軸方向からの荷重を集中させて容易に押し潰す。 - 特許庁