「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electronic apparatus wherein a cover member can be fitted to an outer package member after the end of final inspection in the manufacturing process, and the cover member does not easily fall off after the fitting.例文帳に追加

製造工程上、最終検査が終わってからカバー部材を外装部材に取り付けることができ、かつ取り付けた後にカバー部材が簡単に抜けることがない電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a Chinese dumpling causing slight change in the palate feeling and sustained in the excellent palate feeling of the just-made covering part and ingredients thereof, after cooked, even after the lapse of long time or subjected to e.g. a defrosting process.例文帳に追加

加熱調理後、長時間経過しても、また解凍工程などによっても食感変化の小さい、外皮部と中具が作りたての優れた食感が維持された中華点心類を提供すること。 - 特許庁

Mechanical problems in the portion-cut process can be avoided by adding the flavor substance during a primary maturing period and portion-cutting after the maturing period of at least one day after adding the flavor substance.例文帳に追加

一次熟成期間中に風味物質を添加した後、ポーションカットを風味物質添加後少なくとも１日の熟成期間を経た後に行うことにより、ポーションカット時の機械的な問題は回避される。 - 特許庁

This remote management method for treated water purification includes a purifying process for decomposing foul components in treated water with available chlorine, a chlorine gas volatilizing process for volatilizing the available chlorine that remains after purification, as chlorine gas, and a chlorine gas recovery process for recovering the volatilized chlorine gas, wherein pH (hydrogen ion concentration) in the chlorine gas volatilizing process and chlorine gas recovery process is remotely monitored through an Internet line.例文帳に追加

被処理水中の汚れ成分を有効塩素により分解する浄化工程と、浄化後に残留した有効塩素を塩素ガスとして揮発させる塩素ガス揮発工程と、揮発した塩素ガスを回収する塩素ガス回収工程とを有し、前記塩素ガス揮発工程と塩素ガス回収工程のｐＨ（水素イオン濃度）をインターネット回線を介して遠隔監視するようにした。 - 特許庁

To extensively shorten time needed to fix a spinous process spacer for maintaining an expanded place by pinching a spinous process with an expanded spinous process after dividing vertically the spinous process, when processing vertebral arch plastic surgery in a vertical division method for cervical vertebra spinous process used for medical care of cervical vertebra inflammatory osteomyelitis, cervical vertebra disk herniation, neck stenochoria spinal canal stenosis or ligament ossifying inflammation, etc.例文帳に追加

本発明は、頚椎症性脊髄症、頚椎椎間板ヘルニア、頚部脊柱管狭窄症又は後縦靭帯骨化症等を治療する際に用いる頚椎棘突起縦割法椎弓形成術の際、棘突起を縦割後拡大した棘突起の間に挟み込み、拡大位を保持する棘突起スペーサーに関するものであって、固定に要する時間を大幅に短縮することにある。 - 特許庁

The method includes the first process in which crude barium nitrate, an oxidizing agent, and an alkali are dissolved in water, the second process in which insoluble components are removed from a crude barim nitrate aqueous solution obtained in the first process, and the third process in which nitric acid is added to the aqueous solution after the removal of the insoluble components obtained in the second process to deposit barium nitrate to obtain high purity barium nitrate.例文帳に追加

粗製硝酸バリウム、酸化剤及びアルカリを水に溶解する第一工程、第一工程で得られる粗製硝酸バリウム水溶液から不溶分を除去する第二工程、第二工程で得られる不溶分除去後の水溶液に硝酸を添加し硝酸バリウムを析出させて高純度硝酸バリウムを得る第三工程、を含む高純度硝酸バリウムの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the lens array comprises: a lens forming process in which a plurality of lenses are formed of a light transmissive gel material on a predetermined arrangement; a lens deforming process in which the shapes of at least some of lenses are deformed by applying an electric field upon the lenses formed in the lens forming process; and a lens solidifying process in which the plurality of lenses are solidified after deforming process.例文帳に追加

光透過性を有するゲル材料で複数のレンズを所定配置に形成するレンズ形成過程と、レンズ形成過程で形成されたレンズに電場を印加することによって、複数のレンズのうち少なくとも一部のレンズについて形状を変形させるレンズ変形過程と、複数のレンズを、レンズ変形過程の後で固化するレンズ固化過程とを有する。 - 特許庁

The inspection method is constituted so as to inspect the wafer on the way of a processing process and has an analyzing process (step S101) for analyzing the material of foreign matter in the vicinity of the peripheral edge part of the wafer and a judging process (step S102) for judging whether the foreign matter exerts an effect on the processing process on and after the analyzing process.例文帳に追加

本発明に係る検査方法は、加工工程の途中でウェハに対して行う検査方法であって、ウェハの周縁部近傍で異物の材質を分析する分析工程（ステップＳ１０１）と、分析工程における分析の結果に基づいて、異物が分析工程以降の加工工程に影響を与えるか否かを判断する判断工程（ステップＳ１０２）とを有している。 - 特許庁

In a second method characterized by a second injection molding pattern, the first filling process to a first cavity group and the second filling process to a second cavity group are performed and all of the gates are closed after the completion of the first filling process while all of the gates are opened before the completion of the second filling process to perform the dwelling process of all of the cavities.例文帳に追加

第２の射出成形パターンで特徴付けられる第２の方法は、第一のキャビティ群に対する第一回目の充填工程と第二のキャビティ群に対する第二回目の充填工程とを行うとともに、第一回目の充填工程の終了後に全ゲートを閉鎖し、第二回目の充填工程の終了前に全ゲートを開口させて全キャビティに対する保圧工程を行う。 - 特許庁

To provide an image recording device which can perform a proper exposure process corresponding to secular changes of characteristics of a photosensitive material by adjusting the exposure quantity of the device, the temperature of a developing process tank, the replenishment amount of developing process liquid to the process tank, and further a developing process time according to the elapsed time after the photosensitive material is loaded in the device.例文帳に追加

感光材料の当該装置への装填からの経過期間に応じて、当該装置の露光量の調整、現像処理槽の温度調整、現像処理槽への現像処理液の補充量の調整、さらには、現像処理時間の調整を行うことで、感光材料の特性の経時変化に応じた適切な露光処理を行うことが可能な画像記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface-treated cold-rolled steel plate, by which a cleaning process before an annealing process and/or a cleaning process after the annealing process and before a surface treatment process can be stably performed by immersion cleaning without causing excess foam formation so that a surface treatment failure is not caused on an obtained cold-rolled steel plate.例文帳に追加

焼鈍工程の前の洗浄工程、及び／又は、前記焼鈍工程の後で表面処理工程の前の洗浄工程を、過剰な発泡を伴うことなく安定に、かつ、得られる冷間圧延鋼板に表面処理不良が生じないように、浸漬洗浄により行うことができる、表面処理された冷間圧延鋼板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for forming the radiation shield includes the air injection process for injecting air into the bag body made of an elastic material, the liquid injection process for injecting a radiation shielding liquid into the bag body after inflating it by the air injection process, and the air exhaust process for exhausting the air in the bag body during the liquid injection process.例文帳に追加

放射線遮蔽体の形成方法は、弾性材料からなる袋体に空気を注入する空気注入工程と、前記空気注入工程により前記袋体を膨らませた後に前記袋体に放射線を遮蔽する液体を注入する液体注入工程と、前記液体注入工程中に前記袋体内の空気を排出する空気排出工程とを備える。 - 特許庁

After performing preferably a hydrogenating process, a grating forming process where the grating part is formed by the irradiation of ultraviolet rays at a specified period and preferably a dehydrogenating process, optical characteristics are adjusted by suitably combining a ultraviolet ray uniform irradiation process where all the grating parts are uniformly irradiated with the ultraviolet rays with a heat trimming process, and finally heat aging is performed.例文帳に追加

好ましくは水素添加工程、所定の周期で紫外光を照射してグレーティング部を形成するグレーティング形成工程工程および好ましくは脱水素工程後に、グレーティング部全体に対して一様に紫外光を照射する紫外光一様照射処理および加熱トリミング処理とを適宜組み合わせて光学特性を調整し、最後に加熱エージングを行う。 - 特許庁

This sheet conveying method comprises a conveying process of conveying the sheet-like material in a predetermined direction, a correcting process of conveying the sheet-like material while being tilted on the guide member side in parallel with the conveying direction, and a reverse titling process of tilting the sheet-like material on the reverse side of the guide member after the conveying process and before the correcting process.例文帳に追加

所定方向にシート状物を搬送する搬送工程と、その搬送方向に対して平行に設けられるガイド部材側にシート状物を斜行させて搬送する補正工程とを備えるシート搬送方法において、当該搬送工程の後かつ補正工程の前に当該シート状物をガイド部材とは逆側に斜行させる逆斜行工程を有する - 特許庁

To enhance ejection workability capable of performing the ejection of an edge material skin simultaneously with the ejection of a laminated molded product after molding using a process of a type for performing the terminal treatment of a skin by the same mold after molding, in a molding method of the laminated molded product due to an insert injection process and the mold.例文帳に追加

インサートインジェクション工法による積層成形品の成形方法並びに成形金型であって、成形後に同一金型で表皮の端末処理を行なうタイプのもので、成形後の製品の取り出し時に端材表皮の取り出しを同時に行なうことで取り出し作業性を高める。 - 特許庁

The second well 109 is formed after a process for effecting wet etching of the surface of the semiconductor substrate 101 including the first well 104 or divided into before and after the etching process whereby a condition that the first well 104 is electrically conducted with the semiconductor substrate 101 upon the wet etching is obtained.例文帳に追加

第１ウェル１０４を含む半導体基板１０１の表面をウェットエッチングする工程の後に、または、その前後に分けて、第２ウェル１０９を形成することにより、ウェットエッチング時において、第１ウェル１０４と半導体基板１０１が電気的に導通している状態にする。 - 特許庁

In these treatments, LDD width WD11, WD13 are each set separately, by setting a source region/drain region implantation process of the Tr 33 after the formation of the first sidewall, and a source region/drain region implantation process of the Tr 35 after the formation of the second sidewall, respectively.例文帳に追加

これらの処理において、第１のサイドウォール形成後にＴｒ３３のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、第２のサイドウォール形成後にＴｒ３５のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各ＬＤＤ幅ＷＤ１１，ＷＤ１３を別個に設定する。 - 特許庁

After a part or the whole of an electron generation part of the electron gun is replaced or maintained, a high voltage is applied to the electron gun in an evacuated state to execute a knocking process for enhancing withstand voltage performance; and, after completion of the process, normal usage for emitting an electron beam is carried out.例文帳に追加

電子銃の電子ビーム発生部の一部又は全部を、交換もしくはメンテナンスした後に、真空排気した状態で電子銃に高電圧を印加して、耐電圧性能を高めるためのノッキング処理を行い、処理の終了後に、電子ビームを出力させる通常の使用を行う。 - 特許庁

Since the TiN film 102 can be readily removed after anisotropic etching, it is possible to eliminate the need for additional process for removal of an etching mask which remains in eaves shape after anisotropic etching, thus realizing micromirror formation of high quality without increasing manufacturing process.例文帳に追加

ＴｉＮ膜１０２は、異方性エッチング後の除去を容易に行うことが可能なため、異方性エッチング後にひさし状に残るエッチングマスク除去のための工程を追加する必要がなく、製造工程の増加を招くことなく高品位のマイクロミラー形成が実現可能となる。 - 特許庁

In the synthetic resin made blow container manufactured by performing an axial stretching blow molding at one time before and after heating and shrinking process for removing residual stress, and the container has a density change rate of -0.03% or more in relation to a blow intermediate body 2 after a heating process.例文帳に追加

残留応力を除去する加熱、収縮処理の前後でそれぞれ一回の軸延伸ブロー成形を行うことによって製造された合成樹脂製ブロー容器において、前記ブロー容器は、加熱処理を終えたのちにおけるブロー中間体２に対する密度の増減率を-0．03％以上とする。 - 特許庁

To establish a winding method and device for coated paper after being subjected to a super-calender process capable of winding up the coated paper having a thickness after super-calender process of below 80 μm and a Bekk smoothness of over 1500 sec in good condition into a coil of 2-4 m in diameter in a paper mill.例文帳に追加

製紙工場においてスーパーカレンダー処理後の厚さが８０μｍ以下でベック平滑度が１５００秒以上の塗工紙を直径が２〜４ｍのコイルに良好に巻き取ることができるスーパーカレンダー処理後の塗工紙の巻取方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In order to locate the recess on the side of the metal wiring layer, after the current density of an intermediate process is made lower than a current density of before/after process to form a plating layer of a fine metal crystal when depositing the metal wiring layer by plating, the recess can be obtained by carrying out an etching treatment.例文帳に追加

金属配線層の側面に窪みを設けるには、金属配線層をメッキにより析出させるに際して、中間工程の電流密度を前後の工程の電流密度よりも低くして微細金属結晶のメッキ層とした後、エッチング処理を行うことにより得られる。 - 特許庁

Concretely when a magnification or unmagnification process is required, the number of pixels is converted after the frequency conversion is performed, and when a reduction process is required, after the number of pixels is converted, the frequency is converted by means of switching signal paths.例文帳に追加

具体的には、拡大処理又は等倍処理が必要である場合は、周波数変換が行われた後に画素数変換が行われ、縮小処理が必要である場合は、画素数変換が行われた後に周波数変換が行われるように、信号パスが切り換えられる。 - 特許庁

The controller is configured to determine that an initialization process has completed after the charging device has experienced a loss of power and enable the power delivery system to deliver power to the power storage device at a defined start time and after the initialization process has completed.例文帳に追加

コントローラは、チャージ装置が電源喪失に見舞われた後に、初期化プロセスが完了したことを決定するように構成され、電力供給システムが、定められた開始時間におよび初期化プロセスが完了した後に電力貯蔵装置に電力を供給することを可能にする。 - 特許庁

To provide a fluoropolymer capable of producing a coating composition having excellent properties in adhesiveness of a coating solution to a substrate and homogeneous coatability upon a coating process, recoating ability, developing ability and other after-coating characteristics of a film after a coating process, and foaming ability of a coating composition.例文帳に追加

塗工時における塗布液の基材に対する濡れ性及び均質塗工性、塗工後の被膜のリコート性、現像性等の後工程適性、塗布液の起泡性においていずれも優れた性質を示すコーティング組成物を与えるフッ素系ポリマーを提供すること。 - 特許庁

The quality control support server 1, when receiving information about the details of inspection from a print checker 5, specifies information about a corresponding state after the printing process, determines whether the product after the printing process corresponds to a non-defective product, based on the information, and calculates a defective fraction.例文帳に追加

品質管理支援サーバ１は、印刷検査機５から検査内容に関する情報を受信すると、これに対応する印刷工程後の状態に関する情報を特定し、これらの基づいて、印刷工程後の製品が良品に該当するか否かを判別し、不良率を算出する。 - 特許庁

In an early stage after the operation is started, the gas to be processed is hated by a burner 8 (a starting time heater) to process a component to be processed, and after heat storage layers 2a to 2c are heated with heat exchange, the gas to be processed with heat generated by the mixed fuel to process the component.例文帳に追加

運転開始当初は、バーナ（始動時用加熱手段）８により被処理気体を加熱して被処理成分を処理し、蓄熱層２ａ〜２ｃが熱交換により加熱された後は、混合した燃料の発熱により被処理気体を加熱して被処理成分を処理する。 - 特許庁

When a base film is rolled around a winding core and formed in a shape of a roll after coating and calendar processing and rewound and cut into a plurality of magnetic tapes after heat treatment in a roll state, the elapsed time from completion of heat treatment process to cutting process is made 80 hours or shorter.例文帳に追加

塗布、カレンダ処理後、ベースフィルムを巻芯に巻き取ってロール状に形成し、ロール状態のまま熱処理した後、巻戻して複数本の磁気テープに裁断する場合において、熱処理の工程が完了してから裁断の工程までの経過時間を８０時間以内とする。 - 特許庁

A combustion heat and carbon dioxide gas generated by combustion are capable of being recovered, impurities contained in fused salt after use in a combustion process are capable of being removed, and a fresh oxidant catalyst in capable of being manufacture from an oxidant catalyst after use in the combustion process.例文帳に追加

燃焼熱や燃焼によって発生した二酸化炭素ガスを回収したり、燃焼工程で使用した後の溶融塩の中に含まれている不純物を除去したり、燃焼工程で使用した後の酸化剤触媒から新たな酸化剤触媒を製造することもできる。 - 特許庁

A light-shielding film having oxidation resistance properties is further provided after forming an active layer pattern in a manufacturing process of a bottom gate top contact type field effect transistor and after forming source/drain electrode patterns in a manufacturing process of a bottom gate bottom contact type field effect transistor.例文帳に追加

ボトムゲート型トップコンタクト型の電界効果トランジスタの製造工程においては活性層パターン形成後に、またボトムゲート型ボトムコンタクト型の電界効果トランジスタの製造工程においてはソース／ドレイン電極パターン形成後に、耐酸性を有する遮光膜を一層設ける。 - 特許庁

An intervening operation of a busy signal indicating that the stencil type platemaking printer is busy from an external computer system is limited by responding to the computer system via a controller for a predetermined period after a predetermined period after platemaking process and printing process.例文帳に追加

孔版式製版印刷装置がビジー状態であることを示すビジー信号を、製版処理後の所定の期間及び印刷処理後の所定の期間、コントローラを介して外部コンピュータシステムに応答することで、外部コンピュータシステムからの介入操作を制限することによる。 - 特許庁

When transferring of the toner to the paper after the flag is raised to the memory is not discriminated to be a both sides recording mode (NO in step 5), the refreshing control part activates the refreshing process executing mechanism during a non transferring period after termination of transferring of the toner to the paper and the refreshing process is executed (step S6).例文帳に追加

メモリーにフラッグが立てられた後の用紙へのトナーの転写が、両面記録モードと判別されなかった場合（ステップＳ５でＮＯ）、リフレッシュ制御部は、用紙へのトナーの転写の終了後の非転写期間に、リフレッシュ工程実行機構を動作させて、リフレッシュ工程を実行させる（ステップＳ６）。 - 特許庁

In the producing method of the extra-low carbon steel with an RH degassing treatment, after completing decarburizing treatment with the RH degassing treatment, and in the case of executing heat-up process after executing decarburizing treatment, after completing the heat-up process, the fine powdery flux consisting essentially of CaO is blown onto the surface of the molten steel.例文帳に追加

ＲＨ脱ガス処理にて極低炭素鋼を溶製する方法であって、前記ＲＨ脱ガス処理で脱炭処理を終了した後、または脱炭処理後に昇熱工程が入る場合には昇熱工程を終了した後にCaOを主体とする微粉体のフラックスを溶鋼表面に吹き付けることを特徴とする高清浄度鋼の溶製方法である。 - 特許庁

The recombination life time of the epitaxial layer or the SOI layer is obtained by employing a first recombination life time measured after applying a first surface non-activation process with respect to the wafer, and a second recombination life time measured after applying a second surface non-activation process with respect to the wafer after measuring the first recombination life time.例文帳に追加

エピタキシャル層またはSOI層の再結合ライフタイムを、前記ウェーハに対して第一の表面不活性化処理を行った後に測定される第一の再結合ライフタイムと、前記第一の再結合ライフタイム測定後のウェーハに対して第二の表面不活性化処理を行った後に測定される第二の再結合ライフタイムを用いて求める。 - 特許庁

After the maintenance process to maintain flaws examined by an automatic examination, a magnetic particle examination device to perform reexaminations of the maintenance portion, irradiating with a black light 3a from above and a billet grinder with magnetic particle examination device provided with the billet grinder to maintain flaws in series after the reexamination are provided so that the maintenance process after the automatic examination is combined into a line.例文帳に追加

自動検査で探傷した疵を手入れする手入れ工程の後に、前記手入れ部分の再検査を上方からブラックライト３ａで照射して行なう磁粉探傷装置と、再検査後の疵手入れを連続して行うビレットグラインダーを備えた磁粉探傷装置付ビレットグラインダーを配置して自動検査後の手入れ工程とライン化する。 - 特許庁

This method comprises detecting the foreign matter in the glass preform manufactured by undergoing a sintering process step for forming a glass particulate deposit made by an OVD process or VAD process into transparent glass and a stretching process step of stretching a sintered preform after sintering to a desired external diameter, in which the foreign matter is detected while the glass preform is kept heated during the sintering process step and the stretching process step.例文帳に追加

ＯＶＤ法又はＶＡＤ法により作製したガラス微粒子堆積体を透明ガラス化する焼結工程、焼結後の焼結母材を所望の外径に延伸する延伸工程を経て作製されるガラス母材中の異物を検出する方法において、前記焼結工程及び延伸工程中のガラス母材が加熱されている状態で異物を検出することを特徴とするガラス母材中の異物検出方法。 - 特許庁

For a process simulator 510 to support the design of a semiconductor by simulating the production process of a semiconductor device based on prescribed production process conditions, this process simulator has an arithmetic means 512 for simulating the process for forming the structure of the semiconductor device self-matchingly in the production process and an input means 511 for inputting information, after the formation of a section formed self-matchingly in the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

プロセスシミュレーター５１０は、所定の製造プロセス条件に基づいて半導体素子の製造工程をシミュレーションして半導体の設計を支援するものであって、製造工程のうち自己整合的に前記半導体素子の構造を形成する工程についてシミュレーションする演算手段５１２と、半導体素子の構造のうち、自己整合的に形成される部分の形成後の情報を入力する入力手段５１１とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of a metallic material layer has a process for forming a resist layer on a substrate, a process for forming a resist pattern by patterning the resist layer, a process for disposing an organic metallic solution on the substrate and on the resist pattern, a solvent removal process for removing solvent of the organic metallic solution, and a lift-off process for removing the resist pattern after the solvent removal process.例文帳に追加

本発明の一つの側面は、基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層をパターニングすることによってレジストパターンを形成する工程と、前記基板上及び前記レジストパターン上に有機金属溶液を配置する工程と、前記有機金属溶液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを有する金属材料層の製造方法にある。 - 特許庁

After the arc discharge is continued for a while, the solid is withdrawn from the solution and subjected to e.g. a chemical process to extract the sodium-atom-including cluster therefrom.例文帳に追加

しばらくアーク放電した後、溶液から固形物を取り出して化学的方法などを用いてナトリウム原子内包クラスタを抽出する。 - 特許庁

To simplify a process of chamfering an active-side wafer and forming a stepped shape thereof, and to improve quality of the wafer after the chamfering.例文帳に追加

活性側ウェーハの面取りと段付き形状を形成する工程を簡単化するとともに、面取り後のウェーハの品質を向上させること。 - 特許庁

The object hierarchies on the server side are in a terminated state until the following request is received from the client after the processing and generating process.例文帳に追加

処理および生成工程後、サーバ側制御オブジェクト階層はクライアントから後続のリクエストを受信するまでは終了状態である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device that can prevent wafer breakage in a grinding process for the rear side of the semiconductor wafer after the inspection of the properties.例文帳に追加

特性検査後の半導体ウェーハ裏面研削工程でのウェーハ割れを防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for surely and efficiently performing an etching process that is made after a film has been formed, and to provide a device suited for the method.例文帳に追加

成膜終了後に行なわれるエッチングの工程を確実かつ効率的に行なう方法およびそれに適した装置を提供する。 - 特許庁

After the ferroelectric capacitors are formed at the manufacturing process, prescribed data are written into the ferroelectrfic capacitors in the ROM area.例文帳に追加

製造工程において強誘電体キャパシタが形成された後、ＲＯＭ領域の強誘電体キャパシタ対に所定のデータが書き込まれる。 - 特許庁

The flows 1 and 2 of the free matters combine after passing through the cells and are further treated by a post-combustion process to produce a flow 3 of exhaust gas C.例文帳に追加

遊離物の流れ１，２はセルを通過後合流し、かつ後燃焼プロセスによってさらに処理され、排気ガスＣの流れ３を発生する。 - 特許庁