「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method comprises a process for forming a seed metal layer 20a on a support substrate 70, a process for forming a wiring layer 10 comprising wiring 18 on the seed metal layer 20a, a process for removing the support substrate 70 after the wiring layer 10 is formed, and a process for patterning the seed metal layer 20a after the support substrate is removed so as to make wiring 20.例文帳に追加

本発明の一実施形態に係る製造方法は、支持基板７０上にシードメタル層２０ａを形成する工程と、シードメタル層２０ａ上に配線１８を含む配線層１０を形成する工程と、配線層１０を形成した後に支持基板７０を除去する工程と、支持基板を除去した後にシードメタル層２０ａをパターニングして配線２０とする工程と、を含んでいる。 - 特許庁

After this preparation process, a voltage input test of the existing remote monitoring controller is performed with a disconnecting switch on, while performing a test process of voltage input test of a new remote monitoring controller with the disconnecting switch off, and after the test process with the disconnecting switch off, an existing one removal process of removing wiring having their base end at the existing remote monitoring controller is performed.例文帳に追加

この準備工程の後、断路スイッチを入りにして、既設の遠方監視制御装置の電圧入力試験を実施する一方、断路スイッチを切りにして、新設の遠方監視制御装置の電圧入力試験を実施する試験工程と、試験工程の後、断路スイッチを切りにして、既設の遠方監視制御装置を基端とする配線を撤去する既設撤去工程とを実施する。 - 特許庁

In this simplified measuring method of dioxins, after an extraction process by an organic solvent of an actual sample collected from a specimen, a fixed volume of extraction liquid via a clean-up process (impurity removing process) is prepared, and quantitative analysis of dioxins is performed by using a gas chromatograph-mass spectrometer.例文帳に追加

被検体から採取した実試料を有機溶剤による抽出工程後、クリーンアップ工程（夾雑物除去工程）を経た抽出液を定容してガスクロマト質量分析計を用いてダイオキシン類を定量分析するダイオキシン類の簡易測定方法。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for shortening the time until start of process of the next processing work after start of process of the first processing work in the process to form a recessed area or a through-hole to the processing work, and also to provide a processing method of a processing work.例文帳に追加

被加工物に凹部又は貫通孔を形成する工程において、第１の被加工物の加工を開始してから次の被加工物の加工を開始するまでの時間を短くする事ができるドライエッチング装置及び被加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

The method of modifying a wood comprises a dipping process of dipping the wood in an aqueous alkali solution as pretreatment for impregnating the wood by the treatment, an impregnation process of pressurizing the interior of a container after the pressure reduction thereof, and a drying process of thermally drying the wood with the combined purpose of thermal treatment.例文帳に追加

処理剤を木材へ含浸させる前処理として、アルカリ水溶液に木材を浸漬する浸漬工程と、容器内を減圧後加圧する含浸工程と、熱処理も兼ねて木材を加熱乾燥させる乾燥工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a masking adhesive tape which simultaneously satisfies a masking property in a treating process for applying a treatment such as a plating treatment to lead frames and the metal plates of the lead frames and a removing property (paste-leaving property) of a masking tape-peeling process after the treating process.例文帳に追加

リードフレームおよびリードフレームの金属板に対して、メッキ等の処理を行う際の処理工程におけるマスキング性と、この工程後のマスキングテープ剥離工程の除去性（糊残り性）の両者を同時に満足させる、マスキング用粘着テープを提供。 - 特許庁

This method/device has an ozone cleaning process for decomposing the oily component or stain deposited on the inner face and the outer face of the inspected container 1 using a low concentration of ozone gas, and a leakage inspection process for inspecting the leakage of the inspected container using a high concentration of ozone gas after the ozone cleaning process.例文帳に追加

低濃度のオゾンガスを用いて被検容器１の内外面に付着する油分または汚れを分解するオゾンクリーニング工程と、オゾンクリーニング工程後に高濃度のオゾンガスを用いて被検容器の漏れを検査する漏れ検査工程とを有する。 - 特許庁

This method for preparing a model animal of urosepsis pathema comprises (1) a process for administering an immunosuppressant to a model animal with the urinary tract infectious disease, (2) a process, after the process (1), for closing the urethral opening of the animal by a physical means.例文帳に追加

ウロゼプシス病態モデル動物の作成方法であって、下記の工程：(1)尿路感染症モデル動物に対して免疫抑制剤を投与する工程；及び(2)上記工程(1)の後、該動物の尿道口を物理的手段により閉塞する工程を含む方法。 - 特許庁

The piping repairing method includes a process of attaching a hollow container 2 housing the joint part 1 and filling a sealant Q1 between an inner face of the hollow container 2 and the joint part 1, and a process of hardening the sealant Q1 after the process of filling the sealant.例文帳に追加

継手部１を収容する中空容器２を取付けるとともに中空容器２の内面と継手部１との間に硬化型の封止剤Ｑ１を充填する工程と、封止剤を充填する工程の後に封止剤Ｑ１を硬化させる工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape having a uniform expansion property suitable for a process of splitting an adhesive layer by expansion, presenting a sufficient contraction property in a thermal contraction process, and causing no failure due to slack after the thermal contraction process.例文帳に追加

エキスパンドによって接着剤層を分断する工程に適した均一拡張性を有し、且つ、加熱収縮工程において十分な収縮性を示し、加熱収縮工程の後に弛みによる不具合を引き起こすことないウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

When the server 10b receives a request message from a client to call a server function, the server executes the pre-process, transmits a completion message including an execution result of the pre-process to the client 10a, and executes the post-process after transmitting the completion message.例文帳に追加

サーバ１０ｂは、クライアントからのサーバ機能呼び出しのための要求メッセージを受信すると、前処理を実行し、前処理の実行結果を含む終了メッセージをクライアント１０ａに送信し、当該終了メッセージを送信した後に後処理を実行する。 - 特許庁

The quality control method for the shell type rolling bearing includes; a process for fixing the IC tag 5 to the shell type rolling bearing 1; a process for recording the information on the shell type rolling bearing 1 on the fixed IC tag 5; and a process for reading the IC tag 5 at any time after the shipment and utilizing the IC tag 5.例文帳に追加

シェル型ころ軸受１にＩＣタグ５を取付ける過程と、その取付けられたＩＣタグ５に、シェル型ころ軸受１についての情報を記録する過程と、出荷後の任意時にＩＣタグ５を読み取って利用する過程とを含む。 - 特許庁

To provide an image forming method and its apparatus of such a structure that if the image forming process is interrupted on the way of performing the process for a plurality of manuscript sheets one after another, resuming the process is made from the next one of that manuscript sheet on which image formation has been finished.例文帳に追加

複数枚の原稿について順次画像形成処理を行っている途中で画像形成処理が中断された場合に，画像形成処理が既に終了している原稿の次の原稿から画像形成処理を再開する画像形成装置の改良。 - 特許庁

The method for sterilizing the endoscope comprises: a sterilization process for sterilization treatment of the endoscope 1 at high temperature; and a cooling process for cooling the the endoscope 1 by feeding a cooling fluid into the inside of the endoscope 1 after the sterilization treatment in the sterilization process.例文帳に追加

本発明は、内視鏡１を高温下で滅菌処理する滅菌工程と、前記滅菌工程で滅菌処理後の内視鏡１の内部に冷却用流体を供給して内視鏡１を冷却する冷却工程とを有する内視鏡の滅菌方法である。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process for forming the sealing resin 21 on the wiring mother substrate 1 by the mold manufacturing method, a process for cutting the sealing resin along a dicing line arranged on the wiring mother substrate and a process for thermally-curing the sealing resin, after the resin is cut.例文帳に追加

配線母基板１に封止樹脂２１をモールド工法によって形成する工程と、配線母基板に設けられたダイシングラインに沿って封止樹脂を切断する工程と、切断した後に封止樹脂を加熱硬化する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

An electrification bias selection process is previously performed, and a process for applying voltage between the maximum applicable alternating current peaks is performed thereafter for the electrification bias voltage in the previous rotation, and positive polarity bias of transfer is applied after completing the electrification bias selection process.例文帳に追加

前回転中の帯電バイアス電圧は、帯電バイアス選択工程を先に、印加可能な最大の交流ピーク間電圧を印加する工程を後に行い、かつ、転写の正極性バイアスは、帯電バイアス選択工程が終了した後に印加されること。 - 特許庁

This method for creating the fish embryo has a process for creating the fish embryo by transplanting a nucleus of the fish to an unfertilized ovum, wherein the process for creating the fish embryo includes a treatment process for giving a physical and/or chemical stress to the unfertilized ovum after activation.例文帳に追加

未受精卵に魚類の細胞核を移植して魚類胚を作製する工程を備え、該魚類胚の作製工程は、前記未受精卵に対して活性化後に物理的及び／又は化学的なストレスを付与する処理工程を含む工程とする。 - 特許庁

The piezoelectric/electrostrictive element manufacturing method includes a temperature holding process to hold the temperature to the constant holding temperature which is lower than the baking temperature in the course of the cooling process for cooling the temperature in the cooling rate higher than the natural cooling rate after the baking process.例文帳に追加

当該圧電／電歪素子の製造方法において、焼成工程の後に自然冷却以上の降温速度で冷却する冷却工程の途中に、温度を前記焼成温度よりも低い一定の保持温度に保持する温度保持工程を含む。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device having a Cu wiring 12 includes a process for oxidizing the surface area of the Cu wiring 12 after forming the Cu wiring 12, and a process for removing oxide 17 formed by the oxidation process.例文帳に追加

Ｃｕ配線１２を有する半導体装置の製造方法であって、Ｃｕ配線１２を形成した後にＣｕ配線１２の表面領域に酸化処理を施す工程と、この酸化処理によって形成された酸化物１７を除去する工程とを有する。 - 特許庁

This drying method has a high-frequency-wave heating process of heating, with high-frequency waves, a wet fiber mat 1 in which fiber is impregnated with a resin as a binder, and a heater heating process of heating the mat with a heater after the high-frequency-wave heating process.例文帳に追加

繊維にバインダーとしての樹脂を含浸した湿潤状態の繊維マット１を、高周波によって加熱する高周波加熱工程と、該高周波加熱工程に次いでヒーターによって加熱するヒーター加熱工程とで乾燥することを特徴とする。 - 特許庁

A control process block 110 monitors the elapsed time after the point of time when an electronic document is sent to a certain node and automatically skips the electronic document to the transmission destination in the table 103 when the limit process time in the table 102 is reached without completing the process.例文帳に追加

制御処理ブロック１１０は、あるノードに電子化文書が送付された時点からの経過時間を監視し、処理完了がなされないまま、テーブル１０２の制限処理時間に達した場合等、テーブル１０３の送付先へ電子化文書を自動スキップする。 - 特許庁

A 1st process of charging 1st resin 5 between device chips which are adjacent in one array direction of the device chips 1 and a 2nd process of coating the entire surfaces of the device chips 1 with 2nd resin 6 from above after the 1st process are used.例文帳に追加

そして、前記デバイスチップ１の一配列方向に沿って隣接するデバイスチップの間に第一の樹脂５を充填する第一の工程と、前記第一の工程の後、デバイスチップ１の上方から全面に第二の樹脂６を塗布する第二の工程とを用いる。 - 特許庁

To provide validation and correction methods and the like for mask data for ensuring the process spec after OPC or process proximity effect correction (PPC) in a short period of time without reproducing a mask by preliminarily extracting a pattern which becomes critical in a process and correcting the pattern.例文帳に追加

プロセスにクリティカルとなるパターンを事前に抽出し、修正することにより、マスクの再作成をすることなく、短期間にＯＰＣ又はプロセス近接効果補正（ＰＰＣ）後にプロセススペックを達成できるマスクデータの検証、補正方法等を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the polarizing element has a leaving process S1 of leaving the polarizing element main body as it is under environment of ≥50% relative humidity and an adhering process S2 of adhering the polarizing element main body to the light translucent substrate after the leaving process S1.例文帳に追加

そして、偏光素子の製造方法は、偏光素子本体を相対湿度５０％以上の環境下に放置する放置工程Ｓ１と、放置工程Ｓ１の後、偏光素子本体および透光性基板を接着する接着工程Ｓ２とを備えている。 - 特許庁

After a preparation process S1, a base treatment for forming a base surface having a specific color on an inside tube surface is applied to a tube (base treatment process S2), and a lining film becoming translucent at a thickness less than the set film thickness is formed on the base surface (lining film formation process S3).例文帳に追加

準備工程Ｓ１の後、配管に対して管内面に特定色の下地面を形成する下地処理を施し（下地処理工程Ｓ２）、下地面上に、設定膜厚未満で半透明になるライニング膜を形成する（ライニング膜形成工程Ｓ３）。 - 特許庁

The method includes a process for forming the trench by adopting an oxide film and a metallic film, which are formed in order on the surface of the semiconductor substrate, as a trench mask; and a process for forming a gate oxide film on the surface of the semiconductor substrate after the process.例文帳に追加

半導体基板の表面に順に形成した酸化膜と金属膜とをトレンチマスクとしてトレンチを形成する工程と、この工程の後に半導体基板の表面にゲート酸化膜を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

If the kernel of the OS 101 detects the occurrence of an unauthorized process by a normal application executed in a user-land space 132, the kernel reports the occurrence of the unauthorized process to the exception handler 133, after which the process 151 of the normal application is forcibly terminated.例文帳に追加

ＯＳ１０１のカーネルが、ユーザランド空間１３２で実行される通常アプリケーションによる不正な処理の発生を検知した場合、カーネルからエクセプションハンドラ１３３に、不正な処理の発生を通知して、その後、通常アプリケーションのプロセス１５１を強制終了する。 - 特許庁

This prepreg manufacturing method has a first process for immersing a fiber base material in a solvent containing an ion exchanger and a second process for immersing the fiber base material in resin varnish without heating and drying the same after the first process.例文帳に追加

本発明のプリプレグの製造方法は、イオン交換体を含む溶媒に繊維基材を浸漬する第１の工程と、前記第１の工程後に繊維基材を加熱乾燥することなく樹脂ワニスに浸漬する第２の工程とを有することを特徴とするものである。 - 特許庁

Additionally, the method further has a particle size sorting process of sorting the burned ash particles by utilizing the particle size difference of the burned ash, and the specific gravity sorting process is performed to the burned ash on the side of the small particle size after the particle size sorting process.例文帳に追加

また、前記焼却灰の粒径差を利用して焼却灰粒子を選別する粒径選別工程を、さらに有し、 前記粒径選別工程の後に、粒径が小さい側の焼却灰に対して前記比重選別工程を行なうことを特徴とする。 - 特許庁

A wafer W after stealth dicing is expanded to be divided into individual chips T which are separated from one another after a protective sheet H on a surface thereof is peeled off on a peeling table 10 in an expansion process (Fig.3(b)).例文帳に追加

ステルスダイシング後のウェーハＷはエキスパンド工程において、剥離テーブル１０で表面の保護シートＨが剥離された後、エキスパンドされて個々のチップＴに分断されると共に離間される（図４（ｂ））。 - 特許庁

In the manufacturing process of the phase change memory using chalcogenide type material, after depositing chalcogenide and after processing a desired shape, the substrate is first washed by a first clearing solvent containing hydrogen fluoride, nitric acid or hydrogen fluoride and nitric acid, and an acetic acid.例文帳に追加

カルコゲナイドを成膜後及び所望の形状に加工した後に、まずフッ化水素と硝酸またはフッ化水素と硝酸と酢酸を含有した第１の洗浄液により基板を洗浄する。 - 特許庁

To provide a fluorine containing surfactant in which wetting properties and uniformly coating properties for a base in coating are compatible with after-process adaptability of re-coating properties, printability, developing properties, and the like, after coating.例文帳に追加

塗工時における基材に対する濡れ性及び均質塗工性と塗工後のリコート性、印刷性、現像性等の後工程適性を両立し得るフッ素系界面活性剤を提供する。 - 特許庁

Whether the shutter blade is opened in operation of exposing, or the shutter blade is closed after exposing is discriminated, based on the presence or absence of the reception of the infrared ray at the part 30 during/after the exposing process.例文帳に追加

露光動作中及び露光動作後の赤外受光部３０での赤外線の受光の有無により、露光動作中にシャッタ羽根が開いたか、露光後にシャッタ羽根が閉じたかを識別する。 - 特許庁

After an insulating film 8 is deposited on a semiconductor substrate 1S after a silicide process, a treatment temperature is higher than thermal treatment for forming a silicide layer 7, and the thermal treatment having a long treatment time is performed.例文帳に追加

サリサイドプロセス後の半導体基板１Ｓ上に、絶縁膜８を堆積した後に、シリサイド層７を形成するための熱処理よりも処理温度が高く処理時間の長い熱処理を施すようにした。 - 特許庁

To remotely perform maintenance through a computer and to enable a manufacturer or an after-sales service agent to automatically support and control maintenance or an after-sales service process completely on a machine computer.例文帳に追加

コンピュータを介して遠隔からメンテナンスすることができ、機械のコンピュータ上でのメーカーまたはアフターサービス業者によるメンテナンスまたはアフターサービスプロセスの完全に自動の支援および制御を可能にする。 - 特許庁

After a time not to retain heat or not to perform heating for a fixed time is set after a bread baking process, cooking for baking bread is finished.例文帳に追加

パン焼成工程の後、一定時間保温もしくは加熱しない時間を設けた後、製パン調理終了としたものであり、当該発明により、容易にパンをパン焼き型から取り出すことができる。 - 特許庁

In this case, a method is employed which performs the electric inspection on the respective substrates 400 after cutting and dividing the multiple patterning substrate 500 into the respective substrates 400 (after performing the cutting process).例文帳に追加

この場合、多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割した後（切断処理を実行した後）に各基板４００に対する電気的検査を実行する方法を採用することができる。 - 特許庁

Also, the number of core wires is increased in accordance with the desired n value, and a rolling reduction rate in a rolling process after the primary sintering is adjusted in accordance with a single phase degree after the primary sintering.例文帳に追加

また、所望のｎ値に対応して、芯線の数を増加させると共に、一次焼結後における単相度に対応して、一次焼結後の圧延工程における圧延圧下率を調整する。 - 特許庁

To provide a coated granular fertilizer which is a granular fertilizer coated with a polyurethane resin and is resistant to floating to the surface of water even after the repetition of a process including watering and drying after its application.例文帳に追加

ポリウレタン樹脂で被覆された粒状肥料で、施肥後に湛水され、さらに乾燥される工程が繰り返された後にも水面に浮上し難い被覆粒状肥料を提供すること。 - 特許庁

To provide a zinc-base plated steel sheet superior in corrosion resistance after working, corrosion resistance after heating, and galling resistance, which does not include hexavalent chromium at all, and which discharges no hexavalent chromium in the manufacturing process.例文帳に追加

６価のクロムをいっさい含まず、また製造工程においても６価クロムの排出がいっさいない、加工後耐食性、加熱後耐食性、耐カジリ性に優れた亜鉛系メッキ鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a bismuth based glass composition with crystallinity which does not reflow during the heat treatment after crystallization, for example, vacuum discharge process, and further does not increase heat expansion coefficient after crystallization.例文帳に追加

結晶化後の熱処理工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化後に熱膨張係数が不当に上昇しない結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。 - 特許庁

The manufacturing method thereof is characterized by carrying out a pore forming treatment after immersing the active material in a polymer solution followed by a pressing process after mixing the active material with the inorganic solid electrolyte.例文帳に追加

その製造方法は活物質を高分子溶液に浸漬した後に有孔化処理を行い、さらに該活物質と無機固体電解質とを混合した後プレス工程を経ることを特徴とする。 - 特許庁

Thus, such a process is actualized that damping force is increased after a time when the overshoot is determined and the output of an electric brake is gently damped after the overshoot to get close to a target value.例文帳に追加

これにより、オーバシュートが判定された時点から減衰力が増加し、オーバシュートした後からは電動ブレーキの出力が緩やかに減衰して目標値に近づくという経過をたどることができる。 - 特許庁

In a first embodiment, a first pair of lower and upper frequency limits are established as a function of the sampled power supply frequency, after a new process step begins or after the conditions of a sample control signal change.例文帳に追加

第１の態様において、第１の対の周波数の上下限が、新たなプロセスステップ開始後、又はサンプル制御信号の状態変化後、サンプリングされた電源の周波数の関数として設定される。 - 特許庁

To provide a steel sheet for a can which exhibits excellent surface properties after drawing and ironing, wherein the roughening of the surface after working is slight and the peeling or the like of a film is not caused, and to provide a process for the production thereof.例文帳に追加

加工後の鋼板表面の肌荒れが軽微でフィルムの剥離などが発生しない絞りおよびしごき加工後の表面性状に優れた缶用鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁