「One pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

If the liquid crystal is arranged in one cell 101, the plane shape of the liquid crystal getting wet and spreading within each cell 101 previously arranged with the liquid crystal therebetween has the same shape as that of the arrangement pattern of the liquid crystal arranged in the latest cell 101.例文帳に追加

そして、一つのセル１０１に液晶を配置すると、その間に、先に液晶を配置した各セル１０１内を濡れ広がっている液晶の平面形状は、その最新のセル１０１に配置した液晶の配置パターンと同じ形状となる。 - 特許庁

In a first punching process, at least each one punched hole 14 is formed collectively on a conductive section including an external side 12a opposed to the sections 11 of each pattern 12 by sandwiching the central section of the target 10.例文帳に追加

１回目の打ち抜き工程では、ターゲット１０の中央部を挟んで、それぞれの導電パターン１２の前記非導電部１１とは反対の外側の辺１２ａを含む導電部分に、少なくとも１つずつの抜き穴１４を一括して形成する。 - 特許庁

Hence, even when the same seat cannot be secured throughout the utilization interval, it becomes possible to specify a candidate for a combination pattern of securable seats if at least one unoccupied seat is present in each of the unit intervals constituting the utilization interval.例文帳に追加

これにより、利用区間を通して同一の座席を確保できない場合においても、利用区間を構成する各単位区間に少なくとも１つの空席が存在すれば、確保可能な座席の組み合わせパターンの候補を特定することが可能となる。 - 特許庁

Also the liquid crystal element is constructed by disposing a surface layer with a critical surface tension pattern of regions with mutually different critical surface tension values on an electrode-equipped substrate surface of at least one out the pair of electrode-equipped substrates in contact with the dimmer layer.例文帳に追加

また、一対の電極付基板と調光層とが接する少なくとも一方の電極付基板面に臨界表面張力が異なる領域の臨界表面張力パターンを有する表面層を設けた構成の液晶素子とする。 - 特許庁

In this color cathode-ray tube, a stress relaxation pattern 59 formed on the skirt portion 51 of a shadow mask is etched together with electron beam passing holes in the main face at one etching treatment so as to have the same aperture opening that electron beam passing holes have.例文帳に追加

シャドウマスクのスカート部５１に形成する応力緩和パターン５９を当該シャドウマスクの主面５０の電子ビーム通過孔と同様の開口として１段エッチング処理で電子ビーム通過孔と同時に応力緩和パターン５９を形成する。 - 特許庁

The fluid heat regulation module determines an actuator command for aberration correction of the optical element in the liquid immersion lithography system, based on the one or a plurality of change or changes in the amount of the fluid of a liquid immersion liquid, an exposure dose, and a reticule pattern image.例文帳に追加

流体加熱調整モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。 - 特許庁

In a watermark pattern forming portion 104, mutually different 2^n sorts of coefficient value arrays are set by a pseudo-random and any one of the coefficient value arrays is selected based on the digital watermark information with n bits to be embedded.例文帳に追加

この際、透かしパターン生成部１０４において、互いに異なる２^n通りの係数値配列が疑似乱数によって設定され、埋め込むべきｎビットの電子透かし情報に基づいて、係数値配列のいずれか１つが選択される。 - 特許庁

The heating device provided with a heating plate 23 and the protecting layer 34 formed at least at one face of the heating plate 23, is further provided with a film thickness measurement pattern 35 for measuring the film thickness of the protecting film 34.例文帳に追加

加熱板２３と、該加熱板２３の少なくとも一面に形成された保護層３４を有する加熱装置において、前記保護層３４の膜厚を測定する為の膜厚測定用パターン３５を有していることを特徴とする加熱装置。 - 特許庁

The concentration of silicon tetrachloride in the liquid chlorinated silane to be supplied to the distillation column 10 is kept to be ≥30% by operating a plurality of reduction furnaces 1 connected to the column 10 for common use in such a pattern that the initial reactions in the furnaces 1 are not superimposed on one another.例文帳に追加

蒸留塔１０を共用する複数の還元炉１を、反応初期が重ならないパターンで稼働させることにより、蒸留塔１０に供給されるクロルシラン液中の四塩化珪素濃度を３０％以上に維持する。 - 特許庁

In a conventional solar cell, since the number of laminated films or materials thereof are different from each other in an opening associated with integration processing and between parts of an electrode pattern when viewed from a light incident side, colors on appearance become different from one another in respective regions.例文帳に追加

太陽電池において、集積化加工に伴う開孔、電極パターンの部分間では光入射側から見ると積層された膜の数或いはその材料がことなるので、それぞれの領域で外観上の色が異なってくる。 - 特許庁

The production method of the sheet with the magnetic pattern includes the step of applying the magnetic ink produced by the magnetic ink by the production method of the magnetic ink including the step of mixing the magnetic colloid with the silver colloid to one surface of the white sheet substrate.例文帳に追加

磁性体コロイドと銀コロイドを混合する工程を有する磁気インクの製造方法によって製造された磁気インクを、白色系のシート基材の一方の面に塗布する工程を有する磁気パターンを有するシートの製造方法。 - 特許庁

To provide a self adhesive tile set simple to peel the tile and capable of sufficiently displaying adhesion force even when the method for forming one opposite tile and an applying face different in the other adhesive pattern is adopted.例文帳に追加

対向するタイルの一方と他方の粘着剤パターンが異なった塗布面を形成するという方法を採らなくても、自己粘着性タイルセットを剥がすのが簡単で、かつ粘着力を充分発揮することのできる自己粘着性タイルセットの提供。 - 特許庁

To improve the receiving quality of a retransmission packet by performing the control to change at least one parameter among the puncturing pattern, diffusion ratio, frequency bandwidth, frequency allocation position and transmitting power of the retransmission packet from a parameter of a transmission packet.例文帳に追加

再送パケットのパンクチャリングパターン、拡散率、周波数帯域幅、周波数割り当て位置、及び送信電力のうち少なくとも１つのパラメータを送信パケットのパラメータから変更する制御を行い、再送パケットの受信品質を向上させる。 - 特許庁

Among the pixels which is just thinned out, a pixel color (X) that one pixel is converted later is obtained from an image pattern of the maximum of 6 pixels including pixels to be thinned out, suppressing missing of the original image due to an influence of collapsed white pixels.例文帳に追加

間引きされる画素の直前の画素から、間引きされる画素を含めて最大６画素の画像パターンから１画素変換後の画素色（Ｘ）を求めることにより、白画素つぶれの影響による、元画像イメージの欠落を極力押さえる。 - 特許庁

At the time of both side image formation after transfer to one side, a toner consumption pattern is formed on a part having oil deposited on an intermediate transfer drum 102 at intervals of a fixed image formation period, and toner and oil are simultaneously removed by a cleaning means.例文帳に追加

片面転写済みの両面画像形成時に中間転写ドラム１０２上に付着するオイル付着部分に、一定作像周期毎に、トナー消費パターンを重ねて画像形成し、クリーニング手段によりトナーとオイルを同時に除去する。 - 特許庁

To calculate the maximum value Tjmax of junction temperature of a semiconductor device in a short time when the inverter output frequency changes in the one cycle of operation pattern of a variable speed PWM inverter apparatus from start to stop.例文帳に追加

可変速PWMインバータ装置の運転を開始してから停止するまでの１サイクルの運転パターンにおける、インバータ出力周波数が変化するときの半導体素子のジャンクション温度の最大値Tjmaxを少ない演算時間で正確に算出する。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

At least one gas of a group configured of gas containing reducing fluoride gas, halogen gas, and oxygen is used, and the substrate is heated at 70°C to 450°C, and the amorphous carbon film in an area which is not covered with any resist pattern is removed by dry etching.例文帳に追加

還元性フッ化物ガス、ハロゲンガス及び酸素を含むガスからなる群のうち少なくとも一つのガスを使用し、基板を７０℃〜４５０℃の加熱して、レジストパターンで覆われていない領域のアモルファスカーボン膜を、ドライエッチングで除去する。 - 特許庁

A sheet of film-carrier wiring tape 2 having a wiring layer formed in a predetermined pattern is applied on upper, bottom and one side surfaces of a semiconductor chip 1, external connection parts 36 are provided on these surfaces to form a semiconductor device 71.例文帳に追加

所定のパターンに形成された配線層を有する一枚のフィルムキャリア状配線テープ２を半導体チップ１の上面、底面及び一側面に貼付し、これらの面に外部接続部３６を配設した半導体装置７１を構成する。 - 特許庁

In a variable display device having two liquid crystal panels disposed in layer on the front and back and a backlight disposed on the back thereof, an object image is read out from a storage means according to a selected variable pattern and displayed on one of the liquid crystal panels.例文帳に追加

前後に積層状に配置した２つの液晶パネルと、その背面側にバックライトを配置した可変表示装置の一方の液晶パネルに、選択された変動パターンに基づき記憶手段よりオブジェクト画像を読み出して表示する。 - 特許庁

This micro-opto-electromechanical apparatus comprises: a silicon wafer comprising a plurality of layers; the reflector formed in one of the plurality of layers; and a pattern on the reflector to focus or collimate an incident beam of radiation into a reflected beam.例文帳に追加

本出願は、複数の層を備えるシリコン・ウェハと、複数の層の１つの中に形成される反射器と、放射線の入射ビームを反射ビームに合焦またはコリメートするための反射器上のパターンとを備えるマイクロオプトエレクトロメカニカル装置を開示する。 - 特許庁

To provide a hot stamping plate for obtaining a hot stamping, in which one pattern between two patterns can be clearly visually recognized by means of the direction of illumination and viewing angle even in the case that two patterns are present under the state being overlapped with each other, and its plate-making.例文帳に追加

２つの絵柄が重なって存在するような場合においても、照明の方向や見る角度によって２つの絵柄の内の１つを明瞭に視認できる箔押しを得るための箔押し用版およびその製版システムを提供する。 - 特許庁

An opening part OP1 as a dummy pattern is provided for the photoresist PR4 in a free area other than patterns of elements and circuits in one chip, 1 i.e., in a dummy area DM1 and while the opening part of the photoresist PR4 is made larger, the ion injection is carried out.例文帳に追加

１チップ内の素子および回路のパターン以外の空き領域、すなわち、ダミー領域ＤＭ１においてフォトレジストＰＲ４にダミーパターンたる開口部ＯＰ１を設け、フォトレジストＰＲ４の開口部を増やしてイオン注入を行う。 - 特許庁

To form a transfer pattern having a uniform color tone by giving a uniform pressing force also to an acutely arising inside surface even under the condition that a matter to be transferred is a tray-like one having accutely arising edges like those of a lunch box.例文帳に追加

被転写物が弁当箱状に端部が鋭角に立ち上がったトレイ状の形状を有するものであっても、鋭角に立ち上がった内側面にも均一な押圧力を付与して均一な色調を有する転写模様を形成する。 - 特許庁

Bumps 18 which are connected to the electrodes 5 of a semiconductor element 4 are respectively provided at the front ends of leads 6 formed at one end of a wiring pattern 3 formed on a flexible wiring board 2.例文帳に追加

半田ボール搭載性を向上させることにより、細密化を阻害することなく、生産性およびマザーボードへの実装性および接続信頼性を向上させることが容易に実現可能である半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When one of the pieces of the identification information is concealed by the masking pattern in this case, variable display of the identification information is newly started in the free area 311 of the variable display device 310 and thereafter the variable display is stopped to stop and display the identification information.例文帳に追加

ここで隠蔽図柄で何れかの識別情報を隠蔽した際に、可変表示装置３１０の空き領域３１１で新たに識別情報の可変表示を開始した後に、該可変表示を停止して識別情報を停止表示する。 - 特許庁

At one end portion of the substrate material 20, a first ground pattern 21 is disposed on the upper surface of the substrate material 20 so as to surround both terminals T of the pair of the power supply wirings 14a, 14b, and to surround the terminals T of the pair of the differential wirings.例文帳に追加

基板材２０の一端部において、電源配線１４ａ，１４ｂの一対の端子Ｔの両方を囲み、差動配線の一対の端子Ｔの両方を囲むように、第１のグランドパターン２１が基板材２０の上面に配置されている。 - 特許庁

A mother-of-pearl protective layer 3, through which a mother-of- pearl inlay pattern of a planar mother-of-pearl inlay member 2 formed into a predetermined shape can be seen, is superposed closely upon any one of the sides 2a, 2b of the member 2.例文帳に追加

所定の形状に形成された面状の螺鈿部材２の一面２ａ又は他面２ｂの少なくとも何れか一方に、該螺鈿部材２の螺鈿模様を透視可能な螺鈿保護層３が密着重合してなることを特徴とする。 - 特許庁

When one organic EL element is short-circuited, almost all the driving currents Ids flow in the organic EL elements, and the current flow to the drawing-out pattern 509 to burn off it by heat generation, and the damaged organic EL element is automatically changed from a short-circuit sate to an open-circuit state.例文帳に追加

何れか１つの有機ＥＬ素子がショートしたとき、それに駆動電流Ｉdsのほぼ全て流れるが、引出しパターン５０９を流れ発熱し焼き切れて、損傷のある有機ＥＬ素子がショートからオープンに自動的に変化する。 - 特許庁

The information recording medium is obtained by sequentially stacking a hiding layer (14) and a pattern printed layer (15) on an information recording layer (13) disposed in at least part of one surface of a substrate (12) and further transferring the transfer layer (16).例文帳に追加

それを用いた、基材（１２）片面の少なくとも一部に設けられた情報記録層（１３）上に、隠蔽層（１４）、絵柄印刷層（１５）を順次積層し、さらに転写層（１６）を転写してなることを特徴とする情報記録媒体である。 - 特許庁

A plurality of rugged structure regions are provided, and at least one rugged structure region is different from other rugged structure regions in the shape, depth or height, pitch and arrangement pattern of the plurality of recessed or projecting parts.例文帳に追加

また、凹凸構造領域を複数備えており、少なくとも１つの凹凸構造領域において、複数の凹部又は凸部の形状、深さ又は高さ、中心間距離および配置パターンが、他の凹凸構造領域と異なることを特徴とする。 - 特許庁

A main control part 200 controls the game state of a game machine, and transmits a command having only a display control command function including mode data and event data of one byte length to a special pattern display device 100 according to the control operation.例文帳に追加

主制御部２００は、遊技機の遊技状態を制御すると共に、制御動作に応じて特別図柄表示装置１００に１バイト長のモードデータとイベントデータとからなる表示制御指令機能のみを有するコマンドを送信する。 - 特許庁

In the surface acoustic wave element where metallic film interdigital IDTs 12a, 13a are formed to one side 11a of a piezoelectric substrate 11, a conductor pattern 14 is formed to the other side 11b of the piezoelectric substrate 11.例文帳に追加

圧電性基板１１の一方の面１１ａに金属薄膜で櫛歯状のＩＤＴ１２ａ，１３ａを形成した弾性表面波素子において、圧電性基板１１の他方の面１１ｂに導電パターン１４を形成するようにしている。 - 特許庁

One embodiment is related to a method of forming a pattern formation feature section which has more reduced pitches in two dimensions on the substrate, as compared with pitches realized using a standard photolithography processing technique which uses a single high resolution photomask.例文帳に追加

本発明の実施形態は、単一の高解像度フォトマスクを使用する標準のフォトリソグラフィ処理技法を使用して可能なものに比較して、２次元において減少ピッチを有するパターン形成特徴部を基板上に形成する方法に関する。 - 特許庁

Here, the control unit determines the usage pattern of the detector or attachment of the detector to the mounting base based on detection information from the detector or a request for connection from the detector, and selects one of the relay stations based on the result of the determination.例文帳に追加

ここで、制御部は、検知部からの検知情報又は検出器からの接続要求に基づいて、検出器の使用形態又は検出器の架台への装着を判定し、その判定結果に基づいていずれかの中継器を選択する。 - 特許庁

The VHD band radiation element 115 and the UHF band radiation element 116 have a meandering shape comprising at least one folding pattern respectively and are disposed such that the folding directions of the respective meandering shapes are orthogonal to each other.例文帳に追加

ＶＨＦ帯域放射素子１１５及びＵＨＦ帯域放射素子１１６は、それぞれ少なくとも１回の折り返しパターンからなるメアンダ形状を有しており、それぞれのメアンダ形状の折り返し方向が互いに直交するように配置される。 - 特許庁

Also, the operation management device 100 determines an allocation pattern having relatively-high total evaluation among a plurality of potential allocation patterns for allocating one or more jobs to a plurality of calculation servers by using the network management information and the job information.例文帳に追加

また、運用管理装置１００は、１つ以上のジョブを複数の計算サーバに割り当てるための複数の潜在的な割り当てパターンの中で相対的に総合評価が高い割り当てパターンを、ネットワーク管理情報とジョブ情報を用いて決定する。 - 特許庁

When the confirmation of so many of detection signals is done for 10 minutes from the right side shooting detection switch 17 at the given rate of one ore more per 10 sec., a warning message of "stop right side shooting" is displayed on a special pattern display device 19.例文帳に追加

そして、１０秒間に１個以上の割合で右打ち検出スイッチ１７からの検出信号を１０分間連続して確認できた場合には、特別図柄表示器１９に「右打ちを中止して下さい」との警告を表示する。 - 特許庁

An optical distance between optional two recording layers out of a plurality of recording layers is different from an optical distance (dm) at which, when a light spot of diffraction limit is formed at one recording layer, a mark string pattern of the other recording layer can be image-formed on a detector.例文帳に追加

複数の記録層のうち任意の２つの記録層の間の光学的距離は、１つの記録層に回折限界の光スポットが形成される際に他の記録層のマーク列パターンが検出器に結像されうる光学的距離ｄｍと異なる。 - 特許庁

On a transmission side, a mask symbol spread by a short code in common to all base stations is provided at equal intervals in one transmission frame, and a symbol spread by a long-code group identification short code is multiplexed in the mask symbol and transmitted according to a prescribed pattern.例文帳に追加

送信側では、全基地局共通のショートコードで拡散したマスクシンボルを１送信フレーム中に等間隔に設けて、ロングコードグループ識別ショートコードで拡散したシンボルを、所定のパターンに従って、マスクシンボルに多重化して送信する。 - 特許庁

To achieve processing of high quality and high precision by preventing a light component of 0th order from being generated strongly to form an uneven light intensity distribution when a beam is split by a hologram and put one over the other on an irradiated part or pattern mask to make the light intensity uniform.例文帳に追加

ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、０次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。 - 特許庁

A front layer of a side face and an upper surface of the resist pattern is etched by a plasma of a mixture gas containing at least one first gas selected from the group consisting of He, Ne, Ar, Xe, Kr, CO, CO_2 and N_2, and an SO_2 gas.例文帳に追加

Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ、ＣＯ、ＣＯ_２、及びＮ_２からなる群より選択された少なくとも１つの第１のガスとＳＯ_２ガスとを含む混合ガスのプラズマにより、レジストパターンの側面及び上面の表層部をエッチングする。 - 特許庁

In the semiconductor wafer 2 which is reduced, projected and exposed for two or more times by using a reticle where the plurality of element patterns are formed, a non-exposure part 1 where the element pattern is not exposed in one or more of the plurality of exposure processes is provided.例文帳に追加

複数の素子パターンが形成されたレチクルを用いて複数回縮小投影露光される半導体ウエハ２において、複数ある露光工程のうち１つ以上の露光工程で、素子パターンが露光されていない非露光部１を有する。 - 特許庁

Since the dislocation of two different directions of the mask can be detected properly by a single TEG, having a pair of contact holes and one reference wiring pattern, the area of TEG can be reduced, and as a result, the semiconductor device can be micronized.例文帳に追加

一対のコンタクトホール及び一つの基準配線パターンを備える単一のＴＥＧによりマスクの異なる２方向の位置ずれが適切に検出されるため、ＴＥＧの面積が縮小され、その結果、半導体装置が微細化される。 - 特許庁

Before starting a transfer and exposure operation on a reticle R circuit pattern on a wafer W, the stationary image formation characteristics and scanning image formation characteristics are measured, at least when one of a stop of illumination 68 and the reticle R is replaced.例文帳に追加

ウエハＷ上へのレチクルＲの回路パターンの転写露光に先立って、照明絞り６８及びレチクルＲの少なくとも一方が交換されたときには、静止状態での静止結像特性と走査状態での走査結像特性とを測定する。 - 特許庁