「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a composition of an intermediate layer material for a three-layer resist process, which is soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free from problems of a tailing pattern during patterning the upper layer resist, peeling of the pattern and line edge roughness, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、パターン剥れ、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, when a length (d) of the valid region 24 held between both the terminal parts is 0.4 μm, width(w) is 0.6 μm, the fuse element can be made smaller than L/S=1.2 μm/0.8 μm of a minimum pattern rule specified in patterning ability.例文帳に追加

このため、両端部に挟まれた実効領域２４の長さｄを０．４μｍとし、その幅ｗを０．６μｍとして、パターニング実力に規定された最小パターンルールのＬ／Ｓ＝１．２μｍ／０．８μｍより小さくすることが可能になる。 - 特許庁

The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated by the light emitting device 4.例文帳に追加

第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁

The excellent color filter without any alignment defect at the open portion is provided by using a resin with a melting property or a resin with a small taper angle generated in patterning at the open portion so as to heighten a levelling effect in color resists constituting the color filter.例文帳に追加

開口部にメルト性を有する樹脂もしくはパターニングした際のテーパー角の低い樹脂を用いることにより、カラーフィルターを構成する色レジストでのレベリングの効果を高め、開口部での配向不良のない良好なカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

By patterning the second conductive film so that the insulating film is exposed, a plurality of parallel second conductive film patterns are formed that cross the active region and the element isolation film so as to be overlapped with the first conductive film patterns.例文帳に追加

前記絶縁膜が露出するように前記第２導電膜をパターニングして前記第１導電膜パターンと重畳されるように前記活性領域及び素子分離膜を横切る複数の平行な第２導電膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a resin composition for an optical waveguide, which has superior adhesion to a clad layer, can reduce a loss in an optical waveguide, and has high patterning property in forming a core, and to provide an optical waveguide using the same.例文帳に追加

クラッド層に対する優れた密着性を有するとともに、光導波路の低損失化の向上が図られ、かつコア形成時の良好なパターニング性を備えた光導波路用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路を提供する。 - 特許庁

After applying a resist 113 on the insulation film 112 and patterning the resist 113 so as to expose a part of the wire densely forming area and the wire sparsely forming area, the insulation film 112 is etched by treating the resist 113 as a mask.例文帳に追加

絶縁膜１１２上にレジスト１１３を塗布し、密の配線の形成領域上の一部と疎の配線の形成領域とが露出するようにレジスト１１３のパターニングを行った後、レジスト１１３をマスクとして絶縁膜１１２をエッチングする。 - 特許庁

The pattern 15 can be constituted of a transmissive thin film formed on the surface of a semiconductor layer formed on the light emitting layer 12 and having the light emitting surface or can be formed by patterning the surface of the semiconductor layer having the light emitting surface.例文帳に追加

同心円状パターンは、半導体発光層上に形成され、前記発光面を有する半導体層表面に形成された透光性薄膜から構成されるか、もしくは前記発光面を有する半導体層表面をパターニングしても良い。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method capable of treatment a substrate with high accuracy by improving the resist coating property of the edge of the substrate having a recess, thereby improving the patterning accuracy of a resist film, and to provide a method for manufacturing a liquid ejection head.例文帳に追加

凹部を有する基板のエッジ部のレジスト被膜性を向上させることにより、レジスト膜のパターニング精度を向上させ、高精度な基板加工が可能となる基板加工方法、および液体吐出ヘッドの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To prevent increase in substrate thickness, as much as possible, while making it possible to form each of first and second wirings of different thickness in one-time patterning on a wiring substrate having wirings of different thickness on one surface of a wiring formation layer.例文帳に追加

配線形成層の一面上に異なる厚さの配線を有する配線基板において、厚さの異なる第１の配線および第２の配線のそれぞれを１回のパターニングで形成可能なものとしつつ、基板厚さの増加を極力防止する。 - 特許庁

To provide a method for reducing impurities in an organic polymer by an easy method, after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin constituting the obtained pattern by chemical reaction.例文帳に追加

有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを構成する有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供する。 - 特許庁

In a patterning step, a pattern on a second substrate is formed on the second substrate by imprinting a pattern of the second template where the displacement from an underlayer side pattern already formed on the second substrate is less than a predetermined reference value.例文帳に追加

パターン形成ステップは、第２の基板に既に形成されている下層側パターンとの間の位置ずれ量が所定の基準値以下となる第２のテンプレートのパターンを転写して前記第２の基板上に第２の基板上パターンを形成する。 - 特許庁

This second motherboard 20 is manufactured by forming transparent resistance films whose thickness is different in two stages on the whole motherboard 20 by using a hard mask 40, and patterning the second touch electrode 5 and the first and second alignment marks 21 and 22 in a batch.例文帳に追加

この第２のマザー基板２０は、ハードマスク４０を用いてマザー基板２０全体に２段階に厚さの異なる透明抵抗膜を形成した後、第２のタッチ電極５及び第１、第２の各アライメントマーク２１、２２を一括してパターニングする。 - 特許庁

The phase shift mask is formed by scanning an alignment groove with an electron beam, the groove patterned in a halftone film by using an alignment mark for a photomask, and then patterning a light shielding film by exposure to an electron beam to remove the scanning track.例文帳に追加

フォトマスク用アライメントマークを用いてハーフトーン膜にパターニングされたアライメント用溝部を電子ビームによりスキャンした後、スキャン跡を除去するように電子ビーム露光を用いて遮光膜をパターニングすることにより位相シフトマスクを形成する。 - 特許庁

A device like this is provided by performing ion-implantation, for example of boron, with an amorphous silicon film 3, and then patterning to form island-like semiconductor films 4a and 4b, and selectively implanting, for example, boron or phosphorous into either of them.例文帳に追加

このような装置は、非結晶シリコン膜３に例えばボロンのイオン注入を行った後、パターニングして島状の半導体膜４ａ、４ｂを形成し、いずれか一方に選択的に例えばボロン又はリンを注入することで得ることができる。 - 特許庁

To provide a fluorene-containing resin which is a thermosetting or radiation curing functional epoxy resin, having a high hardness of cured material, heat resistance and electric characteristics in high levels and a low contraction rate on curing, and excellent in patterning property.例文帳に追加

熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂であって、その硬化物が高硬度であり、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化時の収縮率が低く、パターニング性に優れた樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible type of element substrate for liquid crystal display device capable of patterning and forming a columnar spacer which has sufficient adhesiveness for a part corresponding to a black matrix according to photolithography without generating any malfunction.例文帳に追加

何ら不具合が発生することなく、フォトリソグラフィに基づいてブラックマトリクスに対応する部分に十分な接着性が得られる柱状スペーサをパターン化して形成できるフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process before isolation of the gate electrodes 10n, 10p by patterning gate electrode material, thermal treatment of high temperature of at least 700°C is made not to perform, so that the interdiffusion of dopant in a process before gate electrode formation is prevented.例文帳に追加

また、ゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１０ｎ、１０ｐを分離する以前の工程では、７００℃以上の高温の熱処理を行わないようにすることで、ゲート電極形成前の工程における不純物の相互拡散を防止する。 - 特許庁

The seal part 130 for charging liquid crystal between a TFT array substrate 110 and a counter substrate 120 while holding the substrates at predetermined intervals is formed by using an on-chip spacer 131 which is formed to a given height by using patterning by photolithography.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板１１０と対向基板１２０との間を所定の間隔に維持しその基板間に液晶を封止するシール部１３０を、フォトリソグラフィによるパターニングを用いて所定の高さに形成されたオンチップスペーサ１３１で形成する。 - 特許庁

To provide a composition with less waveguide loss against a light having a wavelength ranging from visible rays to near infrared rays, and excellent in crack resistance and with excellent patterning property when applying radiation, and to provide an optical waveguide composed of the composition.例文帳に追加

可視域から近赤外域に亘る広範囲の波長を有する光について、導波路損失が少なく、しかも耐クラック性や、放射線照射によるパターニング性等に優れた組成物、及び該組成物からなる光導波路を提供する。 - 特許庁

Hereby, as in a structure in which a Si layer, a silicon germanium layer, and a Si layer are stacked sequentially, when the silicon germanium layer is introduced as an intermediate layer, it is possible to pattern only the silicon germanium layer without patterning the upper layer or the lower layer.例文帳に追加

これにより、Ｓｉ層／シリコンゲルマニウム層／Ｓｉ層が順次積層された構造のようにシリコンゲルマニウム層が中間層として導入された時、上部層や下部層のパターニングなしにシリコンゲルマニウム層のみを選択的にパターニングできる。 - 特許庁

To provide a partial graining method capable of forming gloss parts and grained pattern parts partially with excellent adhesion by performing easily and intentionally controlled patterning.例文帳に追加

容易に且つ意図的に制御した模様付けを行って部分的に光沢部分とシボ模様部分とを形成することができ、密着性にも優れたものとすることができる部分的シボ模様付け方法及び部分的シボ模様付け化材料を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method for highly accurately performing patterning when performing pattern-forming by using a flexible substrate, and to provided an electronic element and an organic electroluminescent element each having a pattern-formed layer using the method.例文帳に追加

可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To provide an ink jet printer capable of highly reliably printing or patterning, by preventing occurrence of nozzle plugging due to evaporation of a solvent when using an ink containing a volatile solvent such as a water-based ink or a solvent-based ink.例文帳に追加

本発明は、水性インクや溶剤インク等、揮発する溶媒の入ったインクを用いる場合の、溶媒の蒸発によるノズル詰まりの発生を防止し、高信頼なプリント、或いはパターニングを行う事の出来るインクジェットプリンタを提供する事を課題とする。 - 特許庁

The ink channel has an ink channel 11 which supplies the recording head 1 with ink ejected therefrom for patterning, and an ink channel 12 used for measuring the quantity of ink ejected from the recording head 1.例文帳に追加

インク流路は、パターン形成時に記録ヘッド１から吐出するインクを記録ヘッド１に供給するパターン形成用インク流路１１と、記録ヘッド１から吐出する吐出インク量の測定に供される測定用インク流路１２とを有する。 - 特許庁

A plurality of upper layer wires 16 having protruding electrodes 17 are formed by patterning the metallic plate, then a plurality of semiconductor device having at least of the semiconductor constitutional body are obtained by cutting the sheet for forming the insulating layer.例文帳に追加

次に、金属板をパターニングすることにより突起電極１７を有する複数の上層配線１６を形成し、この後、絶縁層形成用シートを切断して少なくとも前記半導体構成体を１つ含む複数の半導体装置を得る。 - 特許庁

Then the scanning portion of each laser beam is decided, so that the portion may be irradiated twice with laser beams having different scanning directions in at least a portion obtained by patterning and the semiconductor film is partially crystallized so that the scanning portions may be hit by the beam spots.例文帳に追加

そして、少なくともパターニングすることで得られる部分に、走査方向の異なるレーザー光を２回照射するように、各レーザー光の走査部分を定め、該走査部分にビームスポットがあたるように、半導体膜を部分的に結晶化する。 - 特許庁

To manufacture a plate for forming an oil film by using a rigid material and to constitute the whole of an apparatus for applying patterning films with a rigid material so as to enhance the durability and to continuously form various oil masking patterns stably.例文帳に追加

オイル膜を形成するためのプレートをリジッドな素材で作製することを可能にし、パターニング膜塗布装置を全てリジッドなもので構成することにより、耐久性を向上させ、安定して多種類のオイルマスキングパターンを連続して形成させる。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁

The hologram exposure device 100 is used for manufacturing at least one substrate 33 and the oblong multiple patterning hologram optical element including a plurality of holograms 13 arranged in an array in the longitudinal direction on the substrate 33.例文帳に追加

本発明のホログラム露光装置１００は、少なくとも一つの基材３３と、この基材３３上に一列に縦方向に並んで配置された複数のホログラム１３とを含む細長状の多面付けホログラム光学素子１５を製造するために用いられる。 - 特許庁

Then, the array substrate is manufactured by performing the patterning of a transparent conductive film 13 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 with the resist pattern 13 as a mask, ion-irradiating the transparent conductive film 10 and forming the transparent conductive pattern 13.例文帳に追加

そして、前記レジストパターン１１をマスクとして、前記透明導電膜１０にイオン照射することによりパターニングを行い、前記画素電極８と同じパターンの透明導電パターン１３を形成することによりアレイ基板が製造できる。 - 特許庁

The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.例文帳に追加

このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electro-optic device by which a shape in a corner portion of a device pattern can be reliably controlled upon forming a plurality of device patterns of a specified shape by patterning a film formed on a substrate for the electro-optic device.例文帳に追加

電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink jet recorder, patterning arrangement and painting device which makes it enable to certainly make the speed of a drive frequency in the discharge of about 1 pl or less higher even in case the diameter of the discharge port is 30 μm or larger.例文帳に追加

吐出口径が３０μｍの場合やこれよりも大きい吐出口の場合にも１ｐｌ程度以下の吐出における駆動周波数の高速化が確実に実現できるインクジェット記録装置、パターニング装置および塗装装置を提供すること。 - 特許庁

To form a switching device by surely and easily forming wiring on a plastic board through patterning, and to provide a method of forming a liquid crystal display device electrode capable of coping with color moving images and a method of manufacturing a liquid crystal display device.例文帳に追加

プラスチック基板上に、容易かつ確実に配線のパターニングを行うことによって、スイッチング素子を形成し、カラー動画に対応し得る液晶表示装置電極の形成方法、液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The electron beam lithography method comprising the steps of: forming a substrate and the mask blanks having a light-shielding film; applying a resist on the mask blanks; and patterning by using a first and a second terminal respectively having different shapes for the grounding of the mask blanks.例文帳に追加

基板及び遮光膜を有するマスクブランクスを形成し、マスクブランクス上にレジストを塗布形成し、形状の異なる第１及び第２端子をマスクブランクスの接地に用いてパターニングを行うことを特徴とする電子線描画方法。 - 特許庁

By using this method, asymmetry in the edge shape of the resist patterning-formed second layer pattern 12 is moderated, which enables a highly accurate measurement of the overlap accuracy calculated by sensing the edge positions of the first layer pattern 11 and the second layer pattern 12.例文帳に追加

これにより、レジストパターンで形成される第２層パターン１２のエッジ形状の非対称性が緩和され、第１層パターン１１と第２層パターン１２のエッジ位置を検出して算出する重ね合わせ精度を高精度に測定できる。 - 特許庁

This color filter manufacturing method has the step of patterning on the resin film 200 formed on a transparent substrate 100 by using a laser ablation unit 4, and the step of cleaning the patterned resin film 200 by using a cleaning unit 6.例文帳に追加

カラーフィルタの製造方法は、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００をレーザアブレーション装置４によってパターニングするパターニング工程と、パターニングされた樹脂膜２００を洗浄装置６によって洗浄する洗浄工程とを備える。 - 特許庁

A blank 10 with a light shielding film 21 and a regist layer 31 formed on a transparent substrate 11 is prepared, and a mask 20 having a light shielding pattern 21a and transmission regions 22 formed on the transparent substrate 11 is produced by carrying out a series of patterning procedures.例文帳に追加

透明基板１１上に遮光膜２１及びレジスト層３１が形成されたブランク１０を準備し、一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上に遮光パターン２１ａ及び透過領域２２が形成されたマスク２０を作製する。 - 特許庁

In the rubber blanket used for fine line patterning, the surface rubber of the rubber blanket has arithmetical mean roughness of a value of 0.05×Ra(p) to 4.5×Ra(p) with respect to arithmetic mean roughness Ra(p) of the surface of the printing body.例文帳に追加

細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。 - 特許庁

The process for fabricating the thin film transistor comprises steps of: coating the predetermined region on a substrate for forming the thin film transistor with liquid silicon material; and patterning the liquid silicon material thus applied into a desired pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上の、薄膜トランジスタを形成する所定の領域に液体シリコン材料を塗布する工程と、塗布された前記液体シリコン材料を、所望の形状にパターニングする工程と、を含む、薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The contact part of the encoder switch is formed by patterning with the electroconductive resin composition by a screen printing and an electroconductive particle of the electroconductive resin composition is an electric conductor obtained by forming a silver-coated film on the surface of a carbon bead and silver powder.例文帳に追加

エンコーダスイッチの接点部分を、導電性樹脂組成物をスクリーン印刷法によりパターニングすることにより形成し、導電性樹脂組成物の導電性粒子を、カーボンビーズの表面に銀被膜がコーティングされた導体粉及び銀粉とした。 - 特許庁

A patterning is made on a transparent conductive film laminate, which is made by laminating a transparent film layer of high refraction factor (a) 20 and a transparent metal film layer (b) 30 on a transparent substrate (A) 10, by a dry etching method by sputtering with an inert gas.例文帳に追加

透明基体（Ａ）１０上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）２０及び透明金属薄膜層（ｂ）３０を積層してなる透明導電性膜膜積層体を不活性ガスによるスパッタリングによりドライエッチング法でパターニングを行なう。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejector in which flushing can be carried out without damaging the productivity, and without having any adverse effect on film deposition or patterning while protecting the liquid drop ejector against contamination and its driving method, system and method for depositing a film, and the like.例文帳に追加

生産性を損なうことなく、しかも製膜やパターニングに悪影響を及ぼしたり、装置を汚したりすることが防止されたフラッシングを可能とする、液滴吐出装置とその駆動方法、製膜装置と製膜方法などを提供する。 - 特許庁