「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

The spot from the micro lens array forms the hexagonal and exposed spot grid on the substrate (a) through at least one of the movement of the substrate patterned by the patterning device and/or the change of the frequency of the beam of radiation, or (b) through hexagonal configuration of the patterning device and the micro lens array.例文帳に追加

（ａ）パターン形成デバイスによってパターン形成される基板の移動、及び／又は放射のビームの周波数の変更の少なくとも１つを介して、或いは（ｂ）パターン形成デバイス及びマイクロレンズ・アレイの六角形構成を介して、マイクロレンズ・アレイからのスポットは、基板上の六角形の露光されたスポット・グリッドを形成する。 - 特許庁

There are provided a process of forming a film of the piezoelectric precursor on a lower electrode, a process of patterning the piezoelectric precursor film into a predetermined shape, a process of obtaining a piezoelectric film by crystallizing the patterned piezoelectric precursor film, and a process of forming an upper electrode onto the piezoelectric film.例文帳に追加

下部電極上に圧電体前駆体膜を成膜する工程と、前記圧電体前駆体膜を所定の形状にパターニングする工程と、前記パターニングされた圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体膜を得る工程と、前記圧電体膜上に上部電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁

A solder resist 22 is formed at the element mounting surface side of a circuit pattern 21 formed on a carrier tape 32, the solder resist is patterned for exposing a wire-bonding section, and a support member 26 is attached to a portion that is at the element mounting surface side of the circuit pattern and is also outside the formation region of the mold resin of the semiconductor device.例文帳に追加

キャリアテープ（３２）上に形成した回路パターン（２１）の素子搭載面側にソルダレジスト（２２）を形成し、このソルダレジストをパターニングしてワイヤボンディング部を露出させ、回路パターンの素子搭載面側であって、半導体装置のモールド樹脂の成形領域の外側に支持部材（２６）を貼着する。 - 特許庁

The resist release agent is used for peeling an already patterned resist film formed on the thin plate as a mark for etching the thin plate to a prescribed pattern after the etching and chemically stable particles are added to the resist release agent.例文帳に追加

薄板を所定のパターンにエッチングするためのマスクとして前記薄板上に形成されたパターン済のレジスト膜を、前記エッチングの後に剥離するために使用されるレジスト剥離剤であって、前記レジスト剥離剤に対して化学的に安定な微粒子が添加されていることを特徴とするレジスト剥離剤を提供する。 - 特許庁

To provide an electron emission element and its manufacturing method for suppressing diode light emission owing to a crack by preventing generation of the crack in an insulating layer when a cathode electrode is patterned and lowering a drive voltage as well as improving screen brightness by enhancing conductivity of the cathode electrode.例文帳に追加

カソード電極をパターニングする時に，絶縁層にクラックが生じないようにすることにより，クラックによるダイオード発光を抑制し，カソード電極の導電性を高めることにより，画面輝度を向上させると同時に，駆動電圧を下げることができる電子放出素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of performing selective growth of a semiconductor material by a semiconductor process, includes providing a patterned substrate 10 comprising a first region 11 and a second region 12, where the first region 11 comprises an exposed first semiconductor material and the second region 12 comprises an exposed insulator material.例文帳に追加

半導体プロセスで半導体材料の選択成長を行う方法が、第１領域１１と第２領域１２とを含むパターニングされた基板１０を提供する工程を含み、第１領域１１は露出した第１半導体材料を含み、第２領域１２は露出した絶縁材料を含む。 - 特許庁

This cathode substrate of a carbon nanotube(CNT) field remission display includes a glass substrate, a cathode layer patterned on the glass substrate, and patterning a surface of the cathode layer as mutually separate electron emitting areas, and a plurality of CNT structures respectively grown on a plurality of electron emitting areas.例文帳に追加

本発明のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）フィールドエミッション・ディスプレイのカソード基板が、ガラス基板と、ガラス基板上にパターニングされて、カソード層の表面が互いに離された電子放出領域としてパターニングされたカソード層と、複数の電子放出領域上にそれぞれ成長された複数のＣＮＴ構造とを含む。 - 特許庁

To provide a patterned medium which has narrow boundaries between the ferromagnetic domains and the antiferromagnetic domains and a steep transition from the ferromagnetism to the antiferromagnetism and vice versa, can make high density recording and magnetic separation between magnetic bits and also reduce the surface property degradation.例文帳に追加

強磁性領域及び反強磁性領域の境界が狭くかつ強磁性から反強磁性への変化あるいは反強磁性から強磁性への変化が急峻であり、高密度化及び磁気ビット間の磁気分離が可能であり、表面性の劣化を抑制することができるパターンド媒体を提供すること。 - 特許庁

In the patterning retardation film 24, first regions 21 and second regions 22 different in a phase difference mutually are alternately patterned repeatedly, and between the first region and the second region, a third region 23 having an approximately average phase difference of the first region and the second region is formed so that it separates the first region and the second region from each other.例文帳に追加

互いに位相差が異なる第一領域２１と第二領域２２が交互に繰り返してパターニングされており、第一領域と第二領域の間に、該２つの領域のほぼ平均の位相差を有する第三領域２３が第一領域と第二領域を隔てるように形成されているパターニング位相差フィルム２４。 - 特許庁

Upon forming the overclad layer, the recess 21 of the molding die 20 is filled with a photosensitive resin for forming the overclad layer, and the photosensitive resin is exposed through the molding die 20 and cured while a patterned core formed on a surface of an underclad layer is immersed in the photosensitive resin.例文帳に追加

そして、オーバークラッド層を形成する際には、上記成形型２０の凹部２１内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面にパターン形成されたコアを浸した状態で、上記成形型２０を透して上記感光性樹脂を露光し硬化させる。 - 特許庁

The absorber layer 200 is thereby laminated in the opening of the patterned reflective film layer 101 and protective film layer 102, and the thickness of the reflective film layer 101 and the protective film layer 102 is substantially equal to the total thickness of the absorber layer 200.例文帳に追加

このようにして、パターンが形成された反射膜層１０１、及び保護膜層１０２の開口部に吸収体層２００が積層され、反射膜層１０１、及び保護膜層１０２の厚さの合計吸収体層２００の厚さとが実質的に同じであることを特徴とする反射型マスクが形成される。 - 特許庁

Light, such as scattered or reflected, emitted from an interface between the medium and the patterned surface is collected and measured during the filling period to obtain data concerning one or more voids at the interface, and an end time for the filling period is derived from a relationship between the data and time.例文帳に追加

媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する（例えば、散乱又は反射する）光が充填期間中に収集され測定されて界面の１つ又は複数の空隙に関するデータが入手され、データと時間との関係から充填期間の終了時間が導出される。 - 特許庁

Next, the high melting point metal film is patterned, thereby exposing a first area of the gate insulating film forming film, forming a metal mask 16b that covers a second area of the gate insulating film forming film, and forming a dummy metal mask 16c that covers a third area of the gate insulating film forming film.例文帳に追加

次に、高融点金属膜をパターニングして、ゲート絶縁膜形成膜における第１の部分を露出する一方、ゲート絶縁膜形成膜における第２の部分を覆う金属マスク１６ｂを形成すると共に、ゲート絶縁膜形成膜における第３の部分を覆うダミー金属マスク１６ｃを形成する。 - 特許庁

Thereafter, the silicon nitride layer 3 within the memory cell array area 1a that does not overlap with the sidewall core 4 or the embedded hard mask 7, and the silicon nitride layer 3 within a peripheral circuit area 1b that overlaps with a positioning monitor mark 8b are exposed by etching the silicon oxide layer 6, and then the silicon nitride layer 3 as an etched member is patterned.例文帳に追加

その後、酸化シリコン層６をエッチングすることにより、サイドウォールコア４又は埋込ハードマスク７と重ならないメモリセルアレイ領域１ａ内の窒化シリコン層３と、目合わせモニタマーク８ｂと重なる周辺回路領域１ｂ内の窒化シリコン層３を露出させ、被エッチング部材としての窒化シリコン層３をパターニングする。 - 特許庁

The above problem can be solved by using this bonding sheet for multilayered printed wiring board used by being laminated on a patterned circuit board, and in which (A) a terminal carboxylic acid urethane imide oligomer and (B) a thermosetting resin composition containing an epoxy resin are laminated on a support base film.例文帳に追加

パターン加工された回路基板上にラミネートするためのボンディングシートであって、（Ａ）末端カルボン酸ウレタンイミドオリゴマーと、（Ｂ）エポキシ樹脂とを含有する熱硬化性樹脂組成物が、支持ベースフィルム上に積層されていることを特徴とする多層プリント配線板用ボンディグシートを用いることにより、上記の課題を解決できる。 - 特許庁

This imprint lithography method includes: bringing an imprint template into contact with an imprintable medium provided on a substrate; and guiding actinic radiation at the imprintable medium, the actinic radiation being oriented such that it is not perpendicularly incident upon a patterned surface of the imprint template.例文帳に追加

インプリントテンプレートを基板上に設けられたインプリント可能媒体に接触させることと、化学線をインプリント可能媒体に誘導することと、を含むインプリントリソグラフィ方法であって、化学線は、インプリントテンプレートのパターン付けされた表面に垂直に入射しないように方向付けられる、インプリントリソグラフィ方法、が開示される。 - 特許庁

A method is provided for manufacturing the semiconductor device having a semiconductor element 8a and a support member 6 mounted with the semiconductor element 8a, using a photosensitive adhesive which has insulating properties and adhesive properties (re-adhesive properties) for an adhered body and can be alkali-developed after being patterned through exposure and development.例文帳に追加

本発明は、露光及び現像によってパターニングされた後に絶縁性及び被着体に対する接着性（再接着性）を有しアルカリ現像が可能な感光性接着剤を使用し、半導体素子８ａと、半導体素子８ａが搭載される支持部材６とを備える半導体装置を製造する方法に関する。 - 特許庁

A first conductive layer containing aluminum as a major component is formed on a substrate, a second conductive layer is formed including a material different from the relevant first conductive layer on the first conductive layer, and the first and second conductive layers are patterned to form gate electrodes.例文帳に追加

基板上にアルミニウムを主成分とする第１の導電層を形成し、前記第１の導電層上に当該第１の導電層と異なる材料からなる第２の導電層を形成し、前記第１の導電層及び前記第２の導電層をパターニングしてゲート電極を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This tooth form forming film 1 is a lid-shaped thin film having such a dimension as covering a single tooth upper face and used when forming the artificial crown for cavity treatment and the like, and is formed with delicate recessed/projecting tooth forms 2 and 3 patterned based on the shape of a real tooth continuously in the inside upper face part and an edge inside part.例文帳に追加

虫歯治療等の人工歯冠を形成するときに使用するもので、ひとつの歯上面を覆う大きさの蓋形の薄いフィルムであって、実歯の形状を基にパターン化された繊細な凹凸歯形（２）（３）を内部上面部及び縁部内面部に連続して形成した歯形形成フィルム（１）である。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁

A polysilicon film is formed on the entire surface, and then is patterned with a resist film as a mask, to form a common contact section 11A stretched over the adjacent first gate electrodes 4 in a source and drain formation region, and a second gate electrode 11B on the second gate oxide film 9.例文帳に追加

全面に形成したポリシリコン膜をレジスト膜をマスクにパターニングして、前記絶縁膜を介して隣り合う第１のゲート電極４に跨り、かつソース・ドレイン形成領域上にコンタクトする共通コンタクト部１１Ａを形成すると共に、前記第２のゲート酸化膜９上に第２のゲート電極１１Ｂを形成する。 - 特許庁

A seal base material 10 is composed of: a transparent cylinder 20; a patterned sheet body 30 which has a prescribed pattern laminated on an inner peripheral surface of the cylinder 20; and a prescribed synthetic resin which is injected inside the sheet body 30; and a seal part with an engraved surface is attached to the base material 10.例文帳に追加

透明な筒体２０と、この筒体２０の内周面に積層された所定の絵柄を有する絵柄付きシート体３０と、この絵柄付きシート体３０の内側に注入された所定の合成樹脂とから印鑑基材１０が構成され、該印鑑基材１０には、刻面を有する印鑑部が取り付けられていることにある。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a high-performance electronic device including a high-density organic thin film patterned into a predetermined shape with high dimensional precision, an electronic device manufactured by the method for manufacturing an electronic device, and an electronic apparatus including the electronic device.例文帳に追加

高い寸法精度で所定の形状にパターニングされた高密度の有機薄膜を備える高性能の電子デバイスを、効率よく製造することができる電子デバイスの製造方法、かかる電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイス、およびかかる電子デバイスを備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

In a process of manufacturing the multi-layered printed board having the electronic component elements, whose shapes and sizes are standardized, arranged in its internal wiring layer, the arrangement of the electric component elements is patterned and a laser trimming method is used which uses a plurality of probes, conformed to the pattern, for measuring the characteristic values of the electric component elements.例文帳に追加

内部配線層に、形状、大きさを標準化した電気部品要素を配置した多層プリント基板の製造工程において、該電気部品要素の配置をパターン化し、そのパターンに合わせた、該電気部品要素の特性値を測定するための複数のプローブを使用することを特徴とするレーザトリミング方法を用いる。 - 特許庁

When the alignment layer 52 on a substrate 51 is irradiated with UV through an optical mask 53 to perform alignment division of the alignment layer 52, the optical mask 53 formed by providing a metal-dielectric multi- layered film 55 which is so optimized that UV 56 having a specified incident angle is transmitted on a light shielding patterned surface thereof is used.例文帳に追加

基板５１上の配向膜５２に光学マスク５３を通し紫外線を照射して配向膜５２の配向分割を行うに際し、特定の入射角の紫外線５６を透過するように最適化した金属−誘電体多層膜５５を遮光パターン面に設けた光学マスク５３を使用するようにする。 - 特許庁

An ITO film 12 is formed on a glass substrate 11, wherein an indium film 13 and an iron film 14 in stripe forms patterned on the ITO film 12 are formed, the glass substrate 11 is heated to the temperature of 600 to 1,000°C to form beads repeatedly by CVD method using a carbon containing gas as the raw material gas.例文帳に追加

ガラス基板１１上にＩＴＯ膜１２を形成し、このＩＴＯ膜１２上にパターニングされたストライプ状のＩｎ膜１３及びＦｅ膜１４を形成し、前記ガラス基板１１を６００〜１０００℃に加熱し、炭素含有ガスを原料ガスとしたＣＶＤ法により、ビーズを繰り返し形成する。 - 特許庁

Then, a second interlayer insulating film 210 is formed on the whole that includes the bit line 208 and the pad 209, and material films for a lower electrode, a ferroelectric body, and an upper electrode are successively formed thereon and patterned for the formation of a capacitor 211 composed of a lower electrode 211A, a ferroelectric film 211B, and an upper electrode 211C.例文帳に追加

次にビット線及び該パッドを含む全体の上に第２層間絶縁膜２１０を形成し、その上に下部電極用、強誘電体及び上部電極用の各物質を順次成膜後、パターニングして下部電極２１１Ａ、強誘電体膜２１１Ｂ及び上部電極２１１Ｃからなるキャパシタ２１１を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an analyte test strip, including a process for arranging a patterned spacer layer between a first insulating layer and a second insulating layer, which is a process wherein the second insulating layer is disposed above the first insulating layer, and a channel is defined between the first and second insulating layers.例文帳に追加

検体試験片を製造する方法であって、第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に型どられたスペーサー層を配置する工程であって、第２の絶縁層は第１の絶縁層の上に配置され、チャネルが第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に規定される工程を含む。 - 特許庁

In the method of producing the organic electroluminescent element having the substrate and an electrode patterned on the substrate, and also having at least one organic layer film-formed by coating on the electrode, a process is included which irradiates an electromagnetic wave onto the organic layer after it is coated and dried.例文帳に追加

基材及び該基材の上にパターニングされた電極を有し、該電極の上に塗布により成膜された少なくとも１層の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、該有機層を塗布、乾燥後に電磁波を照射する工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁

A hole injection layer 7, an α-NPD vapor deposited film 8, an n-doped electron transportation layer 11 and a p-doped hole transportation layer 12 which are patterned to the same size as a B sub-pixel, a DNA vapor deposited film 13, an electron injection layer 14 and an upper electrode 15 are formed on a lower electrode 5 in the B sub-pixel.例文帳に追加

Ｂサブ画素において、下部電極５の上に、正孔注入層７、α−ＮＰＤ蒸着膜８、Ｂサブ画素と同等のサイズにパターニングしたｎドープ電子輸送層１１及びｐドープ正孔輸送層１２、ＤＮＡ蒸着膜１３、電子注入層１４、上部電極１５を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a transparent conductive layer that adds ion to a conductive polymer solution (25) and adopts a wire (30) to which an electric potential with polarity opposite to that of the ions is applied and in which thereby a transparent substrate (10) is not only uniformly coated with the conductive polymer solution (25), but also accurately patterned with the conductive polymer solution (25).例文帳に追加

伝導性高分子溶液（２５）にイオンを添加し、このイオンと反対極性の電位を印加したワイヤー（３０）を採用することにより、伝導性高分子溶液（２５）を透明基板（１０）に均一にコートし且つ正確なパターニングを実現することが可能な透明導電膜製造装置を提供する。 - 特許庁

After a gate electrode or a dummy gate electrode 11 for forming the gate electrode is patterned, an insulation film 29 is deposited, and after the upper part of the gate electrode or the dummy electrode is exposed by an etch-back, a first sidewall 22 is provided there, and successively, gate sidewalls 20, 21 are provided by performing an etching-back.例文帳に追加

ゲート電極またはゲート電極を形成するためのダミーゲート電極１１をパターニング後、絶縁膜２０を堆積し、エッチバックによりゲート電極またはダミーゲート電極の上部を露出させたのち、ここに第一の側壁２２を設け、続いてエッチバックを行うことにより、ゲートサイドウォール２０、２１を設ける。 - 特許庁

Here, an interval D0 between the metal wiring shielding unit 30c and the vertex of the projection part 31a is set so that the interval D1 between the metal wiring forming part 40c and the vertex of the projection part 41a may become smaller than a minimum working interval E1 in a resist film R patterned by the photomask M.例文帳に追加

ここで、金属配線遮光部３０ｃと凸部３１ａの頂点との間隔Ｄ０は、フォトマスクＭによってパターニングされるレジスト膜Ｒにおいて、金属配線形成部４０ｃと、凸部４１ａの頂点との間隔Ｄ１が最小加工間隔Ｅ１より小さくなるように設定されている。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises an illumination system which conditions a radiation beam, a support structure which supports a patterning device for patterning the cross section of the radiation beam, a substrate table which holds a substrate, a projection system which projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a robot which replaces a replaceable object.例文帳に追加

本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。 - 特許庁

Disclosed is a photomask comprising a patterned substrate, a pellicle membrane stretched in such a way that it confronts the surface of the substrate at a prescribed interval and a frame which holds the pellicle membrane and encloses the space between the pellicle membrane and the photomask substrate, wherein the frame has an opening and this opening is provided with a lid capable of blocking up the opening.例文帳に追加

パターンの形成された基板と、基板の表面に対向し、表面と所定の間隔をおいて張設されたペリクル膜と、ペリクル膜を保持し、ペリクル膜とフォトマスク基板との間を封じるフレームとを備えるフォトマスクにおいて、フレームには、開口を有し、開口には、前記開口を塞ぐことのできる、蓋部を備える。 - 特許庁

In order to attain the purpose, the substrate for an EL element is structured so as to have a substrate, a first electrode layer formed on the substrate in a patterned form, a light emitting part formed on the first electrode layer, and a protective layer formed so as to cover the surface of the light emitting part.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上にパターン状に形成された第１電極層と、前記第１電極層上に形成された発光部と、前記発光部の表面を覆うように形成された保護層とを有することを特徴とするＥＬ素子形成用基板を提供する。 - 特許庁

Subsequently an interlayer insulating film and a spacer insulating film 117 formed on the entire surface are patterned, and self-alignment contact holes, making the semiconductor substrate 101 between the gate electrodes 107a expose, are formed, and spacers 117a are formed in the side wall of the gate electrodes 107a and the etching protecting film pattern 109a.例文帳に追加

その後全面に形成された層間絶縁膜及びスペーサ絶縁膜１１７をパターニングし、ゲート電極１０７ａの間の半導体基板１０１を露出させる自己整列コンタクトホールを形成し、ゲート電極１０７ａ及びエッチング阻止膜パターン１０９ａの側壁にスペーサ１１７ｓを形成する。 - 特許庁

An immersion lithographic apparatus is disclosed having a projection system configured to direct a patterned beam of radiation onto a substrate and a liquid handling system configured to supply and confine immersion liquid to a space defined between the projection system and a substrate, or a substrate table, or both.例文帳に追加

パターン付放射ビームを基板上に誘導するように構成された投影システムと、投影システムと基板、又は基板テーブル、あるいはその両方との間に画定された空間に液浸液を供給して閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムとを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high radiation sensitivity and useful for forming a patterned polymer film obtained by development with an aqueous alkali solution and having high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance and excellent adhesion to a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた重合体膜の形成に有用なポジ型感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。 - 特許庁

A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

To provide a patterned decorative body and a forming method therefor, which can bring about stately finish like disorderly sticking by using a burnt plate, a molded plate, etc., without the need for skills for construction, and which enable standardized finish with certain decorativeness to be completed in a relatively short construction period.例文帳に追加

施工に熟練を必要とせず、焼成板、成形板等を用いて乱貼り調の重厚感ある仕上が得られ、しかも一定の装飾性を具え標準化された仕上げが、比較的短期の工期で完成することのできる模様を有する装飾体及び模様を有する装飾体の形成方法を提供する。 - 特許庁

Since a wiring board 10 is exposed to plasma 28 in a state that a patterned metallic wiring layer 15 is covered with a protection layer 18 in this surface processing method, plasma processing is applied to the surface of a base material 11 exposed between laminated films 13, but the metallic wiring layer 15 is not exposed to plasma 28.例文帳に追加

本発明の表面処理方法は、パターニングされた金属配線層１５を保護層１８で覆った状態で配線板１０をプラズマ２８に晒すので、積層膜１３間に露出する基材１１の表面はプラズマ処理されるが、金属配線層１５がプラズマ２８に晒されることがない。 - 特許庁