Patternedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3854件
An electron beam transfer device is provided with an illumination optical system to sequentially illuminate each small area on a reticle 10 with the electron beam, and a projection optical system to sequentially project and form an image of the electron beam patterned through each small area at the position on a wafer 14.例文帳に追加
本電子線転写装置は、レチクル10上の各小領域を電子ビームで順次照明する照明光学系と、該小領域を通過してパターン化された電子ビームをウエハ14上のしかるべき位置に順次投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁
To provide a thin film solar cell, and its fabricating method, in which the transparent electrode layer in a solar cell formed on one side of a substrate can be patterned without causing any damage on a thin film semiconductor layer and surface efficiency of the solar cell is enhanced while reducing the cost of fabrication process.例文帳に追加
基板片面形成型太陽電池における透明電極層のレーザパターニングを薄膜半導体層の損傷なしに可能とし、太陽電池の面積効率の向上および製造プロセスの低コスト化を図った薄膜太陽電池とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device in which a floating gate electrode itself is patterned easily, in addition, patterning performance is improved and yield in wiring is not degraded, even in patterning of an upper layer such as a subsequently formed control gate electrode; and a method for fabricating the device.例文帳に追加
フローティングゲート電極そのもののパターニングを容易にすると共に、その後に形成されるコントロールゲート電極など上層のパターニングにおいても、パターニング性能の向上及び配線歩留まりの低下を防ぐことができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the waveguide type optical device by which the core layer consisting of a polymer is patterned by dry etching to form the optical waveguide is characterized in that first, second and third etching gases used in respective steps have compositions respectively different from each other.例文帳に追加
ポリマーからなるコア層を、ドライエッチングによってパターニングし光導波路とする導波路型光デバイスの製造方法であって、各工程に用いられる第1、第2、及び第3のエッチングガスが、それぞれ異なる組成であることを特徴とする導波路型光デバイスの製造方法である。 - 特許庁
This detector is produced by adhering an active matrix substrate 1 equipped with a charge accumulating capacity 4 and TFT 5 with an opposite substrate 2 comprising a semiconductor substrate via a connecting material (photosensitive resin 3) having conductivity and adhesiveness which is patterned corresponding to a pixel electrode of the charge accumulating capacity 4.例文帳に追加
電荷蓄積容量4およびTFT5を具備したアクティブマトリクス基板1と、半導体基板を備えた対向基板2とを、電荷蓄積容量4の画素電極に対応させてパターニングされた導電性および接着性を有する接続材(感光性樹脂3)を用いて接着する。 - 特許庁
A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加
マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜(SAM)(12)をガラス基板14上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板16上に銀ナノ粒子24を局所的に析出させて、SERS基板18を作成する。 - 特許庁
A method for manufacturing a patterned body is provided, which includes: a preparation step of preparing a substrate 10, having a photoresist layer 20 that allows a shape change in a heat mode on the surface; and an exposure step of irradiating the photoresist layer 20, with a laser beam to partially remove the photoresist layer 20.例文帳に追加
表面にヒートモードによる形状変化が可能なフォトレジスト層20を有する基板10を用意する準備工程と、フォトレジスト層20にレーザ光を照射してフォトレジスト層20の一部を除去する露光工程と、を有するパターン形成体の製造方法である。 - 特許庁
In the case of a negative or positive photoresist layer patterned by a conventional lithography technique, a photoresist layer in an interface region with a semiconductor substrate is overheated to a temperature higher than its fusing temperature in a short time in order to fusedly bond a photoresist layer at an interface to a layer located therebelow on the semiconductor substrate.例文帳に追加
従来のリソグラフィー技術を用いてパターンされたネガもしくはポジフォトレジスト層の場合、界面のフォトレジスト層を、その下に位置する層と、半導体基板において溶着するために、半導体基板との界面領域のフォトレジスト層は、短期的に、溶解温度より高い温度で過熱される。 - 特許庁
Next, the conditioning gate layer, the conditioning oxide film layer, the dot layer and the tunnel ring oxide film layer are patterned to predetermined profile, a double gate having a tunnel ring oxide film 112, a dot floating gate 114, a conditioning oxide film 116 and a conditioning gate 118 is formed.例文帳に追加
次に、前記調節ゲート層、前記調節酸化膜層、前記ドット層及び前記トンネルリング酸化膜層を所定形状にパターニングしてトンネルリング酸化膜112、ドットフローティングゲート114、調節酸化膜116及び調節ゲート118を備える二重ゲートを形成する。 - 特許庁
To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加
任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁
A discharge printing agent is sprayed or applied from one surface of a colored web having 35-65% moisture content on a papermaking process and the discharge printing agent is then made to migrate in the Z-axis direction by steam heat applied in the subsequent drying step to thereby produce a patterned paper having the same front and back sides.例文帳に追加
抄紙工程上の水分が35%〜65%の着色ウェブに抜染剤を片面より噴霧、または塗布し、その後の乾燥工程で加えられる蒸熱によってその抜染剤がZ軸方向にマイグレーションすることによって表裏同一なる模様紙が得られた。 - 特許庁
There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques.例文帳に追加
リソグラフィを行ない、基板上に第1のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第2のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。 - 特許庁
In the array antenna apparatus provided with antenna elements 21A, 21B and a feeder line 10 which are patterned on an upper substrate 1 and a lower substrate 2, a no-power-supply element 32 is formed so as to be disposed on a position of less than 1/2 wavelength from respective antenna elements 21A, 21B.例文帳に追加
上層基板1及び下層基板2上にパターン化されたアンテナ素子21A,21Bと給電線路10とを備えたアレーアンテナ装置において、各アンテナ素子21A,21Bに対して、2分の1波長未満の位置に位置するように無給電素子32を備える。 - 特許庁
The patterned optical waveguide is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and either one of them is formed of a silica-based compound, and the waveguide is characterized by the fact that the surface roughness (Ra) in the forwarding direction of light in the core portion is 0.4 μm or smaller.例文帳に追加
下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁
This CPU 100 reads a BOOT setting value from a BOOT setting ROM 20 or a non-volatile memory 11 in which the BOOT setting values to be used for BOOT processing at the activation are patterned and stored for every device based on a value stored in a BOOT setting switch.例文帳に追加
CPU100は、BOOT設定スイッチに記憶されている値に基づいて、BOOT設定用ROM20または起動時のBOOT処理で使用するBOOT設定値をデバイス毎にパターン分けして記憶する不揮発性メモリ11からBOOT設定値を読み出す。 - 特許庁
The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加
非晶質シリコン膜12aは、フォトリソグラフィ処理でWaの3倍の幅寸法45nmでパターニングされるが、スリミング技術で30nmに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜15に変質させ、これによって寸法がWaである15nmに形成される。 - 特許庁
A conductive layer 40 patterned next to the dielectric film 10 includes a plurality of conductive struts 41 which extend through the one or more through holes 11 aligned with the contact pads 22 and 23 and electrically connect the conductive layer 40 to the contact pads 22 and 23.例文帳に追加
誘電体膜10に隣接するパターン形成された導電層40は、コンタクトパッド22および23と揃えられた1つまたは複数のスルーホール11を通して延び、導電層40をコンタクトパッド22および23に電気的に結合する1つまたは複数の導電性支柱41を持つ。 - 特許庁
The VCM includes a set of magnetic sensing elements; a lens carrier physically connected to the set of magnetic sensing elements for placing a lens; a pedestal; a set of printed circuit boards (PCB) fixed onto the pedestal; and a flat coil formed on a patterned metal layer on the set of PCB so as to face the magnetic sensing elements.例文帳に追加
VCMは、一組の感磁素子と、一組の感磁素子に剛結合され、レンズを載置するレンズキャリアと、台座と、台座に固設される一組のプリント回路基板(PCB)と、一組のPCBにあるパターン化金属層において、感磁素子に対向するように形成されるフラットコイルとを含む。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.例文帳に追加
高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
The X ray mask comprises an X ray transmitting plate including beryllium, and an X ray absorber film containing at least one kind selected from a group of tungsten, tungsten nitride and a heavy metal absorbing X ray wherein the X ray absorber film is patterned on the X ray transmitting plate.例文帳に追加
ベリリウムを含むX線透過板と、タングステン、窒化タングステンおよびX線を吸収する重金属からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むX線吸収体膜とからなり、X線透過板上にX線吸収体膜をパターン加工したX線マスク。 - 特許庁
Additionally, a patterned metallic layer 74 is formed on a dielectric cap layer 70 and at the inside of a through hole 72 to complete the interconnection structure.例文帳に追加
各々のサブモジュールは、上面上に設けられた部品接続パッドを有する少なくとも1個の電子部品と、該上面に結合されて部品接続パッドの特定のもの同士を相互接続する、少なくとも1つの相互接続層を有する第1の相互接続構造物とを含んでいる。 - 特許庁
Since the temperature dependence of the etching rate of hydrofluoric acid in vapor- phase etching is extremely high, the gate insulating film formed on the wafer W can be well patterned by selectively removing the film without significantly damaging the silicon oxide film and polysilicon film by appropriately adjusting the temperature of the wafer W.例文帳に追加
ふっ酸の気相エッチングにおけるエッチングレートは、温度依存性が極めて高いので、ウエハWの温度を適切に調整することによって、酸化シリコン膜およびポリシリコン膜に大きな損傷を与えることなく、ウエハW上のゲート絶縁膜を良好に選択除去してパターニングできる。 - 特許庁
A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a thicker patterned nickel plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a gild plating layer 4 on a surface of the nickel plating layer 2 and a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加
銅箔1(主導体層)の片面全面にニッケルめっき3を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき2をより厚く施し,ニッケルめっき2の表面上に金めっき4を施し,ニッケルめっき3の表面に銅めっき5(基層導体層)を形成する。 - 特許庁
The disposition of the color filter and light dimmer device close to the opening aperture as well as within the volume space occupied by the true image of the light source enables use of simple and non-patterned filter and simply formed light-adjusting panel, thereby achieving production of superior color mixing, light adjustment and integration.例文帳に追加
色および調光装置を開口絞りの近くで、かつ光源の実像によって占められる容積内に配置することによって、単純でパターニングされていないフィルタおよび単純に成形された調光器パネルを用いて優れた色混合、調光、および、統合が達成される。 - 特許庁
To provide a method for producing a patterned member on which embroidered seams are exposed, by cutting with laser beams a fabric on whose surface the embroidered seams are exposed and whose back surface has a thermoplastic adhesive, wherein the fabric can be cut with the laser beams, while fusing the peripheries of the patterns without collapsing fine patterns and treating the fray of the yarns.例文帳に追加
表面に刺繍縫目が表出され、裏面には熱可塑性の接着剤がある布をレーザー光を用いて切断するに当って、微細な模様を崩すことなく模様の周囲を溶着させ、糸のほつれを処理しながら切断出来るようにする。 - 特許庁
After that, the first and second conductor layers 48a and 48b are patterned to form a conductor layer 48, and then, a lower semiconductor layer made of polycrystalline silicon or the like forming a semiconductor region for a source and a drain for an load MISFET of an SRAM is formed so as to contact with the conductor layer 48.例文帳に追加
その後、第1、第2導体層48a、48bをパターニングして導体層48を形成後、その導体層48に接するように、SRAMの負荷MISFET用のソースおよびドレイン用の半導体領域を形成する多結晶シリコン等からなる下部半導体層を形成する。 - 特許庁
The authenticity judging medium has: an optical selectively reflecting layer having selectively reflecting properties for reflecting either a left-handed circularly polarized light or a right-handed circularly polarized light in incident light; a patterned layer, which reverses the rotational direction of the incident light; a holographed layer, and a reflecting layer in this order.例文帳に追加
入射光のうち左円偏光および右円偏光のいずれか一方を反射する光選択反射性を有する光選択反射層、入射光の回転方向が反転するパターン層、ホログラム形成層ならびに反射層をこの順に有する真偽判定用媒体。 - 特許庁
The present invention relates to a new optical component comprising an anisotropic diffuser (5, 10) with patterned anisotropy; and means (9, 11, 14, 16, 17, 20, 21, 30, 32) for providing a color shift observable upon changing a viewing angle (6) and/or changing an angle of incident light (2).例文帳に追加
本発明は、パターン化された異方性を有する異方性拡散体(5、10)と、視野角度(6)を変化させると及び/又は入射光(2)の角度を変化させると観測可能なカラーシフトをもたらす手段(9、11、14、16、17、20、21、30、32)とを具備する新規な光学要素に関する。 - 特許庁
In this ID plate (ID card), projecting and recessing shapes corresponding to ID information (ID codes)are patterned on the surface of a substrate (e.g. Si substrate) to obtain the ID plate (ID card), the projecting and recessing shapes are read by using a detector using a laser or stylus, and the read results are converted into digital signals thereby performing the collation.例文帳に追加
基板(例えばSi基板)表面にID情報(IDコード)に応じた凹凸形状をパターン化してIDプレート(IDカード)とし、その凹凸形状をレーザー、又は触針を用いた検出器で読み取り、読み取り結果をデジタル信号化して照合を行う照合装置とする。 - 特許庁
An image forming apparatus, when instructed to print, specifies a region left after removing drawing objects different from latent image drawing objects and background drawing objects from a patterned image as a blank region on the first page and disposes drawing objects on the second page in the specified blank region.例文帳に追加
画像形成装置は、印刷を指示された場合、第1ページにおいて地紋画像から当該潜像描画オブジェクトおよび背景描画オブジェクトとは異なる描画オブジェクトを除いた領域を空白領域として特定し、この特定された空白領域に第2ページの描画オブジェクトを配置する。 - 特許庁
The device for processing a resist pattern 1 is provided with a stage 12 for mounting a substrate 10 having a patterned photoresist R disposed on a surface; an ultraviolet irradiating section 14 for projecting an ultraviolet beam to the stage 12; and an annular member 16 that surrounds the entire periphery of the substrate 10.例文帳に追加
レジストパターン処理装置1は、パターニングされたフォトレジストRが表面に配置された基板10を載置するためのステージ12と、ステージ12に向けて紫外線を照射する紫外線照射部14と、基板10の周囲全体を囲む環状部材16とを備える。 - 特許庁
To provide a new method for preparing a cell culture substrate having cells in a highly fine patterned form and used for culturing the cells while maintaining the pattern for a long period, and an apparatus used for the preparing method.例文帳に追加
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。 - 特許庁
The clock signal reproduced from a clock signal track reflects rotation run-out of a spindle motor in a disk apparatus and the rotation run-out is used as a trigger to highly accurately synchronize arrangement of an effective region of the patterned medium with the timing of recording magnetic field polarity inversion.例文帳に追加
クロック信号トラックから再生されるクロック信号は、ディスク装置におけるスピンドルモータの回転ムラを反映しており、これをトリガーとして用いることによりパターン媒体の有効領域の配列と記録磁界極性反転のタイミングを高精度にリアルタイムで同期をとる。 - 特許庁
A semiconductor substrate contains a previously patterned gate stack 12 on the substrate, is covered with a first dielectric substance 40 for forming a first level 42 and then deposited with a second dielectric substance 44 to form a second level 46.例文帳に追加
本発明による半導体基板は、半導体基板上にあらかじめパターン付けされたゲート・スタック12を含んでおり、第1のレベル42を形成する第1の誘電体40により被覆されていて、その後第2の誘電体44が堆積されて、第2のレベル46を形成する。 - 特許庁
A lower electrode film 31', a ferroelectric film 33', and an upper electrode film are successively formed on an interlayer insulating film 20 provided on a silicon substrate 10, and the upper electrode film is patterned into a specified shape, to form an upper electrode 35 for a ferroelectric capacitor 50.例文帳に追加
シリコン基板10上に形成された層間絶縁膜20上に下部電極膜31´と強誘電体膜33´と上部電極膜とを順次形成し、この上部電極膜を所定形状にパターニングして強誘電体キャパシタ50の上部電極35を形成する。 - 特許庁
The pattern formed body includes a photocatalyst containing layer on a substrate, a patterned metal layer which can have a metal oxide coating, above the photocatalyst containing layer, and a water-repellent thin film layer formed above the metal layer.例文帳に追加
本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a patterned thin film or making a polymer composite of carbon nanotubes by introducing oxirane or anhydride groups into the surfaces of carbon nanotubes by a chemical process and photocuring or heat-curing the surface-modified carbon nanotubes.例文帳に追加
オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁
Then, when etching is started by using oxygen plasma etching in the vertical direction, the thin film 38 of a silicon oxide by oxygen plasma is formed on the surface of the patterned resist layer 37, and the cutting of a groove 47 and patterning in the resin layers 35, 36 is performed by using the silicon oxide layer 38 as a mask.例文帳に追加
その後、垂直方向に酸素プラズマエッチングを用いてエッチングを開始すると、パターニングされたレジスト層37は表面に酸素プラズマにより酸化シリコンの薄膜38を作り、この酸化シリコン層38をマスクとして、樹脂層35および36に溝47を掘り、パターニングする。 - 特許庁
This is a method for manufacturing a patterned color filter by arranging a photosensitive coloring resist layer on a substrate 4 on which a lot of rectangular chip patterns P(1-6) are formed lengthwise and widthwise, and exposure-treating this photosensitive coloring resist layer with a reduction stepper.例文帳に追加
矩形状のチップパターンPを縦横に多数配列形成してなる基板4上に感光性着色レジスト層を設け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露光処理することによってパターニングされてなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁
To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.例文帳に追加
回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁
Thus, a high dielectric constant insulating film 42 as formed in a wide area is subjected to plasma in dry etching only in the step of patterning the high dielectric constant insulating film, and the film has already been patterned in the step of patterning the conductive film for forming the second electrode.例文帳に追加
このため、高誘電率絶縁膜42は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第2電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 - 特許庁
Then, in the third process, the barrier rib forming material layer 120 is calcined with a pattern plate 15 pressed on the top portion of the patterned barrier rib forming material layer 120, thereby the barrier rib 110 is formed which has a top portion 110A of a shape corresponding to the contact face 15A.例文帳に追加
そして、第3工程において、パターニングされた隔壁形成材料層120の頂部に型板15を押し当てた状態で隔壁形成材料層120を焼成することで、当接面15Aに対応する形状の頂部110Aを備えた隔壁110を形成する。 - 特許庁
A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.例文帳に追加
ベルト状の混和物31を、カレンダーロール11〜14からなる絞り成形部15〜17に順に通して、厚みを均一化したシート32に成形し、型入れ紋付けロール20に移して、紋付けとともに、予備紋形成型25により穿孔するための予備紋34を同時に形成する。 - 特許庁
The substrate dimensions of the active matrix substrate 14 of the liquid crystal panel 10 for display and the transparent substrate 21 of the patterned retardation plate 20 are made the same.例文帳に追加
パターン化位相差板20の透明基板21には、上記表示用液晶パネル10の端子形成部14aと対向する割れ防止領域21aが設けられることにより、表示用液晶パネル10のアクティブマトリクス基板14とパターン化位相差板20の透明基板21との基板寸法が同一とされる。 - 特許庁
The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加
第2ゲート電極39は、第1ゲート電極38等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン47等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン47によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク45を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁
A fluorescent screen comprises at least a red phosphor layer and a green phosphor layer patterned on a transparent substrate, the phosphor layers include light diffusing material particles, and the average transmittance of light incident upon the fluorescent screen in a wavelength of 400-460 nm is equal to or less than 10%.例文帳に追加
透明基板上に、少なくとも赤色蛍光体層及び緑色蛍光体層がパターニングされてなり、該蛍光体層は光拡散材粒子を含み、該蛍光スクリーンに入射した光の波長400〜460nmにおける平均透過率が10%以下である蛍光スクリーン。 - 特許庁
The card is configured in such a way that the first antenna 11 mounted with the first IC chip 11a is patterned in a loop shape near the external periphery of the IC card 13 to form a first inlet, and both surfaces of the first inlet are laminated with a packaging material such as PET.例文帳に追加
第1のICチップ11aを搭載した第1のアンテナ11がICカード13の外周付近にループ状にパターニングされて第1のインレットが形成され、その第1のインレットの両面がPETなどの外装材料によってラミネートされてカードが構成されている。 - 特許庁
The outside liner 2 has a base material film 3 on the front surface of which a rugged shape 8 is formed by using a matting agent 8a and on the back surface of which a metallic picture layer 6 and a general picture pattern layer 7 are formed in patterned shapes by using an ink containing a bright pigment.例文帳に追加
このうち外側ライナー2はマット剤8aにより表面に凹凸形状8が形成された基材フィルム3と、基材フィルム3の裏面に光輝性顔料を含むインキによりパターン状に形成されたメタリック調絵柄層6および一般絵柄層7とを有している。 - 特許庁
To provide a patch transferring medium having a patterned cholesteric liquid crystal layer, with which a patch can be easily transferred to a transferee, which has abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of a medium even after the several times of repeated use and, in addition, by which easily authenticity can be determined, and further which has a hologram.例文帳に追加
被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なパターニングされたコレステリック液晶層、さらには、ホログラムを有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加
残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|