「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, the conditioning gate layer, the conditioning oxide film layer, the dot layer and the tunnel ring oxide film layer are patterned to predetermined profile, a double gate having a tunnel ring oxide film 112, a dot floating gate 114, a conditioning oxide film 116 and a conditioning gate 118 is formed.例文帳に追加

次に、前記調節ゲート層、前記調節酸化膜層、前記ドット層及び前記トンネルリング酸化膜層を所定形状にパターニングしてトンネルリング酸化膜１１２、ドットフローティングゲート１１４、調節酸化膜１１６及び調節ゲート１１８を備える二重ゲートを形成する。 - 特許庁

To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加

任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁

A discharge printing agent is sprayed or applied from one surface of a colored web having 35-65% moisture content on a papermaking process and the discharge printing agent is then made to migrate in the Z-axis direction by steam heat applied in the subsequent drying step to thereby produce a patterned paper having the same front and back sides.例文帳に追加

抄紙工程上の水分が３５％〜６５％の着色ウェブに抜染剤を片面より噴霧、または塗布し、その後の乾燥工程で加えられる蒸熱によってその抜染剤がＺ軸方向にマイグレーションすることによって表裏同一なる模様紙が得られた。 - 特許庁

There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques.例文帳に追加

リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。 - 特許庁

In the array antenna apparatus provided with antenna elements 21A, 21B and a feeder line 10 which are patterned on an upper substrate 1 and a lower substrate 2, a no-power-supply element 32 is formed so as to be disposed on a position of less than 1/2 wavelength from respective antenna elements 21A, 21B.例文帳に追加

上層基板１及び下層基板２上にパターン化されたアンテナ素子２１Ａ，２１Ｂと給電線路１０とを備えたアレーアンテナ装置において、各アンテナ素子２１Ａ，２１Ｂに対して、２分の１波長未満の位置に位置するように無給電素子３２を備える。 - 特許庁

The patterned optical waveguide is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and either one of them is formed of a silica-based compound, and the waveguide is characterized by the fact that the surface roughness (Ra) in the forwarding direction of light in the core portion is 0.4 μm or smaller.例文帳に追加

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか１層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ（Ra）が０．４μｍ以下であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁

This CPU 100 reads a BOOT setting value from a BOOT setting ROM 20 or a non-volatile memory 11 in which the BOOT setting values to be used for BOOT processing at the activation are patterned and stored for every device based on a value stored in a BOOT setting switch.例文帳に追加

ＣＰＵ１００は、ＢＯＯＴ設定スイッチに記憶されている値に基づいて、ＢＯＯＴ設定用ＲＯＭ２０または起動時のＢＯＯＴ処理で使用するＢＯＯＴ設定値をデバイス毎にパターン分けして記憶する不揮発性メモリ１１からＢＯＯＴ設定値を読み出す。 - 特許庁

The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加

非晶質シリコン膜１２ａは、フォトリソグラフィ処理でＷａの３倍の幅寸法４５ｎｍでパターニングされるが、スリミング技術で３０ｎｍに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜１５に変質させ、これによって寸法がＷａである１５ｎｍに形成される。 - 特許庁

A conductive layer 40 patterned next to the dielectric film 10 includes a plurality of conductive struts 41 which extend through the one or more through holes 11 aligned with the contact pads 22 and 23 and electrically connect the conductive layer 40 to the contact pads 22 and 23.例文帳に追加

誘電体膜１０に隣接するパターン形成された導電層４０は、コンタクトパッド２２および２３と揃えられた１つまたは複数のスルーホール１１を通して延び、導電層４０をコンタクトパッド２２および２３に電気的に結合する１つまたは複数の導電性支柱４１を持つ。 - 特許庁

The VCM includes a set of magnetic sensing elements; a lens carrier physically connected to the set of magnetic sensing elements for placing a lens; a pedestal; a set of printed circuit boards (PCB) fixed onto the pedestal; and a flat coil formed on a patterned metal layer on the set of PCB so as to face the magnetic sensing elements.例文帳に追加

ＶＣＭは、一組の感磁素子と、一組の感磁素子に剛結合され、レンズを載置するレンズキャリアと、台座と、台座に固設される一組のプリント回路基板（ＰＣＢ）と、一組のＰＣＢにあるパターン化金属層において、感磁素子に対向するように形成されるフラットコイルとを含む。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.例文帳に追加

高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The X ray mask comprises an X ray transmitting plate including beryllium, and an X ray absorber film containing at least one kind selected from a group of tungsten, tungsten nitride and a heavy metal absorbing X ray wherein the X ray absorber film is patterned on the X ray transmitting plate.例文帳に追加

ベリリウムを含むＸ線透過板と、タングステン、窒化タングステンおよびＸ線を吸収する重金属からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むＸ線吸収体膜とからなり、Ｘ線透過板上にＸ線吸収体膜をパターン加工したＸ線マスク。 - 特許庁

Additionally, a patterned metallic layer 74 is formed on a dielectric cap layer 70 and at the inside of a through hole 72 to complete the interconnection structure.例文帳に追加

各々のサブモジュールは、上面上に設けられた部品接続パッドを有する少なくとも１個の電子部品と、該上面に結合されて部品接続パッドの特定のもの同士を相互接続する、少なくとも１つの相互接続層を有する第１の相互接続構造物とを含んでいる。 - 特許庁

Since the temperature dependence of the etching rate of hydrofluoric acid in vapor- phase etching is extremely high, the gate insulating film formed on the wafer W can be well patterned by selectively removing the film without significantly damaging the silicon oxide film and polysilicon film by appropriately adjusting the temperature of the wafer W.例文帳に追加

ふっ酸の気相エッチングにおけるエッチングレートは、温度依存性が極めて高いので、ウエハＷの温度を適切に調整することによって、酸化シリコン膜およびポリシリコン膜に大きな損傷を与えることなく、ウエハＷ上のゲート絶縁膜を良好に選択除去してパターニングできる。 - 特許庁

In addition, the device includes a generation source 1202 and a lens for generating incident beam focused on a plurality of arrays, as well as a circuit for controlling the pixels in each array so that a pixel portion selectively reflects the incident beam, to form a patterned beam.例文帳に追加

加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。 - 特許庁

To provide a simplified method of producing marble-patterned multicolor moldings made of thermoplastic resin, provide a specific resin pellet material to be used in this molding and provide a resin molded product having beautiful and bright color marble patterns as a result.例文帳に追加

熱可塑性樹脂製のマーブル模様、多色成形品を製造するための方法を簡易化すること、その方法に使用するための特別な樹脂ペレット原料を提供すること、その結果として美しい色鮮やかなマーブル模様を呈する樹脂成形品を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which retains high transmission coefficient even when burned at high temperature after film formation and which is suitable for material for forming a patterned insulation film used for a liquid crystal display element, an organic EL display element, a solid imaging element or the like, and suitable for color filter material or the like.例文帳に追加

膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a cycloolefin laminate wherein a metal part in a side contacting a photo-permeable supporting material can be blackened, an adhesion between a cycloolefin supporter and a patterned metal part can be improved, and the cycloolefin laminate having a low haze can be obtained even when the patterning metal part does not adhere to other base materials, and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

光透過性支持体と接する側の金属部が黒化でき、シクロオレフィン支持体とパターニングされた金属部との接着性を改善し、かつパターニングされた金属部を他の基材と貼合せずとも、ヘイズの低いシクロオレフィン積層体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

A notch hole 2a is formed on the circuit board 2, a second probe 6 is patterned on a projected piece 2f extended to the center of the notch hole 2a and matching patterns 4a, 8a extended to a direction orthogonal to the projected direction of the second probe 6 are formed on the outside of the notch hole 2a.例文帳に追加

回路基板２に切欠孔２ａを形成し、この切欠孔２ａの中心に向かって延びる突片２ｆに第２のプローブ６をパターン形成すると共に、切欠孔２ａの外側に第２のプローブ６の突出方向と直交する方向へ延びるマッチングパターン４ａ，８ａを形成する。 - 特許庁

The patterned phase shifting layer is comprised of a material of differing composition than the mask substrate and is of thickness sufficient to shift the phase of an energy beam passing through the thickness of the phase shifting layer and the mask substrate by 180°, compared to the phase of the energy beam passing through the phase shifting layer openings and the mask substrate.例文帳に追加

パターン化された位相シフト層は、位相シフト層およびマスク基板の厚さを通過するエネルギー・ビームの位相を、位相シフト層の開口およびマスク基板を通過するエネルギー・ビームの位相に比べて１８０°シフトさせるのに十分な厚さをもち、マスク基板とは異なる組成の材料からなる。 - 特許庁

By this method, the patterned composite resin molded object containing the substance having the refractive index different from that of the resin, different in the concentration and/or size of the substance in parts at every pattern and having the pattern in the direction right-angled to the extrusion direction so as to reach up to the depth direction is obtained.例文帳に追加

このような方法により、樹脂と屈折率の異なる物質を含み、模様毎の部分で該物質の濃度及び／又は大きさが異なると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、かつ該模様が深さ方向にまで及んでいる模様付複合樹脂成形体が得られる。 - 特許庁

A base metal layer 100 to form an auxiliary capacitance between the layer 100 and the drain electrode 112 of a TFT 127 that applies a voltage to a pixel electrode is formed in a planar state on a glass substrate 130; that is, the layer is formed without being patterned on the glass substrate 130.例文帳に追加

画素電極１１４に電圧印加するＴＦＴ１２７のドレイン電極１１２との間で補助容量を形成するための下地金属層１００が、ガラス基板１３０上に面状に形成、即ち、ガラス基板１３０上にパターンニングされない状態で形成される。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

Dummy resistances 1 also serving as a part of outer conduction electrodes 6 are provided along the lengths of patterned upstream and downstream temperature measuring resistance elements 4a, 4b crossing a fluid flowing direction (X) on a thin film layer 3 above a space 2 of a base.例文帳に追加

流体流れ方向（Ｘ方向）と交差して基台の空間部２上の薄膜層３上にパターン形成された上流側及び下流側の測温抵抗エレメント４ａ及び４ｂの長さ方向に沿って、外部導通用電極部６の一部を兼ねる擬似抵抗体１を設ける。 - 特許庁

After a chamber plate 30 provided for a thin metal plate and a diaphragm 10 are bonded integrally with an etching stop layer, i.e., a thin protective film 20, the chamber plate 30 is patterned through a lithography process and an etching process thus forming a large number of chambers of uniform size and interval in the chamber plate 30.例文帳に追加

金属材の薄板に備えられるチャンバー板及び振動板をエッチング停止層である保護薄膜と一体に結合した後、チャンバー板をリソグラフィ工程とエッチング工程とによってパターニングして、チャンバー板には多数のチャンバーが均一の大きさと間隔に形成されるようにする。 - 特許庁

In the liquid crystal panel 10 for display, the layer thickness of resin 30 is made uniform by extending a first polarizing plate 15 arranged on the side of a surface laminated on a patterned optical retardation plate 20 to the reverse side of a display driver terminal 11, i.e, the formation area of the resin 30.例文帳に追加

表示用液晶パネル１０において、パターン化位相差板２０との貼り合わせ面側に配置される第１の偏光板１５を、表示ドライバ端子１１の裏側、すなわち、樹脂３０の形成領域にまで延在させ、樹脂３０の層厚を均一化させる。 - 特許庁

In the printed wiring board which has a printed contact pattern for inserting a connector, a chamfered portion is formed at the resin edge of the printed wiring board, and a part of the pattern is patterned on the chamfered portion, and the chamfered portion of the pattern and the chamfered portion of the resin edge form a continuous surface.例文帳に追加

コネクタ挿入用プリントコンタクトパターンを有するプリント配線板において、プリント配線板の樹脂端部が面取り部を有しており、かつパターンの一部が面取り部を有するパターンし、前記パターンの面取り部と前記樹脂端部の面取り部とは連続した面を形成する、プリント配線板。 - 特許庁

The pattern formed body includes a photocatalyst containing layer on a substrate, a patterned metal layer which can have a metal oxide coating, above the photocatalyst containing layer, and a water-repellent thin film layer formed above the metal layer.例文帳に追加

本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned thin film or making a polymer composite of carbon nanotubes by introducing oxirane or anhydride groups into the surfaces of carbon nanotubes by a chemical process and photocuring or heat-curing the surface-modified carbon nanotubes.例文帳に追加

オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The card is configured in such a way that the first antenna 11 mounted with the first IC chip 11a is patterned in a loop shape near the external periphery of the IC card 13 to form a first inlet, and both surfaces of the first inlet are laminated with a packaging material such as PET.例文帳に追加

第１のＩＣチップ１１ａを搭載した第１のアンテナ１１がＩＣカード１３の外周付近にループ状にパターニングされて第１のインレットが形成され、その第１のインレットの両面がＰＥＴなどの外装材料によってラミネートされてカードが構成されている。 - 特許庁

The outside liner 2 has a base material film 3 on the front surface of which a rugged shape 8 is formed by using a matting agent 8a and on the back surface of which a metallic picture layer 6 and a general picture pattern layer 7 are formed in patterned shapes by using an ink containing a bright pigment.例文帳に追加

このうち外側ライナー２はマット剤８ａにより表面に凹凸形状８が形成された基材フィルム３と、基材フィルム３の裏面に光輝性顔料を含むインキによりパターン状に形成されたメタリック調絵柄層６および一般絵柄層７とを有している。 - 特許庁

Then, when etching is started by using oxygen plasma etching in the vertical direction, the thin film 38 of a silicon oxide by oxygen plasma is formed on the surface of the patterned resist layer 37, and the cutting of a groove 47 and patterning in the resin layers 35, 36 is performed by using the silicon oxide layer 38 as a mask.例文帳に追加

その後、垂直方向に酸素プラズマエッチングを用いてエッチングを開始すると、パターニングされたレジスト層３７は表面に酸素プラズマにより酸化シリコンの薄膜３８を作り、この酸化シリコン層３８をマスクとして、樹脂層３５および３６に溝４７を掘り、パターニングする。 - 特許庁

The substrate dimensions of the active matrix substrate 14 of the liquid crystal panel 10 for display and the transparent substrate 21 of the patterned retardation plate 20 are made the same.例文帳に追加

パターン化位相差板２０の透明基板２１には、上記表示用液晶パネル１０の端子形成部１４ａと対向する割れ防止領域２１ａが設けられることにより、表示用液晶パネル１０のアクティブマトリクス基板１４とパターン化位相差板２０の透明基板２１との基板寸法が同一とされる。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第２ゲート電極３９は、第１ゲート電極３８等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン４７等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン４７によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク４５を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

Thus, a high dielectric constant insulating film 42 as formed in a wide area is subjected to plasma in dry etching only in the step of patterning the high dielectric constant insulating film, and the film has already been patterned in the step of patterning the conductive film for forming the second electrode.例文帳に追加

このため、高誘電率絶縁膜４２は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第２電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 - 特許庁

Then, in the third process, the barrier rib forming material layer 120 is calcined with a pattern plate 15 pressed on the top portion of the patterned barrier rib forming material layer 120, thereby the barrier rib 110 is formed which has a top portion 110A of a shape corresponding to the contact face 15A.例文帳に追加

そして、第３工程において、パターニングされた隔壁形成材料層１２０の頂部に型板１５を押し当てた状態で隔壁形成材料層１２０を焼成することで、当接面１５Ａに対応する形状の頂部１１０Ａを備えた隔壁１１０を形成する。 - 特許庁

A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.例文帳に追加

ベルト状の混和物３１を、カレンダーロール１１〜１４からなる絞り成形部１５〜１７に順に通して、厚みを均一化したシート３２に成形し、型入れ紋付けロール２０に移して、紋付けとともに、予備紋形成型２５により穿孔するための予備紋３４を同時に形成する。 - 特許庁

A fluorescent screen comprises at least a red phosphor layer and a green phosphor layer patterned on a transparent substrate, the phosphor layers include light diffusing material particles, and the average transmittance of light incident upon the fluorescent screen in a wavelength of 400-460 nm is equal to or less than 10%.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも赤色蛍光体層及び緑色蛍光体層がパターニングされてなり、該蛍光体層は光拡散材粒子を含み、該蛍光スクリーンに入射した光の波長４００〜４６０ｎｍにおける平均透過率が１０％以下である蛍光スクリーン。 - 特許庁

This is a method for manufacturing a patterned color filter by arranging a photosensitive coloring resist layer on a substrate 4 on which a lot of rectangular chip patterns P(1-6) are formed lengthwise and widthwise, and exposure-treating this photosensitive coloring resist layer with a reduction stepper.例文帳に追加

矩形状のチップパターンＰを縦横に多数配列形成してなる基板４上に感光性着色レジスト層を設け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露光処理することによってパターニングされてなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.例文帳に追加

回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁

To provide a patch transferring medium having a patterned cholesteric liquid crystal layer, with which a patch can be easily transferred to a transferee, which has abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of a medium even after the several times of repeated use and, in addition, by which easily authenticity can be determined, and further which has a hologram.例文帳に追加

被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なパターニングされたコレステリック液晶層、さらには、ホログラムを有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁