「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

In this manufacturing method, after forming the titanium nitride film 12 on a semiconductor substrate, provided with a contact hole 10 by using the organic metal raw material gas containing titanium and chlorine by the chemical vapor deposition method, the titanium nitride film 12 is patterned into a desired shape, and then a wiring composed of a conductive material is formed on the titanium nitride film 12.例文帳に追加

コンタクトホール１０を含む半導体基板１上に、化学的気相成長法によりチタン及び塩素を含む有機金属原料ガスを使用して、窒化チタン膜１２を成膜した後、同窒化チタン膜１２を所望の形状にパターニングし、次に同窒化チタン膜１２上に導電性材料からなる配線を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for manufacturing with fine productivity a base material with a conductive layer pattern patterned to obtain the conductivity or electromagnetic wave shielding property using a transfer method, and to provide a manufacturing method for a base material with a conductive layer pattern which method hardly allows air bubbles to remain when a resin, etc., is overlaid on the conductive layer pattern of the base material.例文帳に追加

導電性又は電磁波シールド性を有するようにパターニングされた導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく、また、導体層パターン付き基材の導体層パターンの上に樹脂等を積層したときに気泡が残存しにくい導体層パターン付き基材の製造法を提供する。 - 特許庁

Subsequently the cholesteric film 13 is patterned by irradiating the cholesteric film 13 with a laser beam 20 consisting essentially of a circularly polarized light component in an optical rotatory direction reverse to that of light selectively reflected by the cholesteric film 13 and removing a part of the cholesteric film 13 by partial evaporation.例文帳に追加

次に、コレステリック膜１３に対して当該コレステリック膜１３が選択的に反射する旋光方向とは逆方向の円偏光成分を主成分として含むレーザ光２０を照射し、当該コレステリック膜１３の一部を部分的に蒸散させて取り除くことにより、コレステリック膜１３のパターニングを行う。 - 特許庁

An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.例文帳に追加

この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁

The formed film is patterned using beams, and the exposed metal surface as the result of removal of the film is plated to manufacture the printed wiring board.例文帳に追加

金属面が露出した絶縁基板上に、（Ａ）ポリアミド酸、（Ｂ）光重合可能な基を有する化合物および（Ｃ）光重合開始剤とを含有する樹脂組成物を用いてレジスト膜を形成し、形成した膜を光線を用いてパターニングし、膜が除かれて露出した金属面上にめっきを施してプリント配線板を製造する。 - 特許庁

Double patterned regions 11 formed by superposing the same patterns are provided on the end parts in the directions Y of two deflecting strips 63 on a mask, which is transferred contiguous to the directions Y on a responsive substrate, and a gray splicing of a gradient illuminating method is performed by an exposure scanning of triangular parts 5a and 5c on both ends of hexagonal illuminating beam 5.例文帳に追加

感応基板上でＹ方向に隣接して転写するマスク上の二つの偏向帯６３のＹ方向端部にそれぞれ同一のパターンが重複する二重パターン領域１１を設け、六角形の照明ビーム５の両端の三角形部５ａ、５ｃの露光走査によって傾斜照明方式のgray splicing をおこなう。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.例文帳に追加

リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive transfer tape for ornament constituted by forming a metal deposit layer on a base material tape via a demolding layer and further forming a pressure-sensitive adhesive layer so as to pattern patterned characters, signals, pictures, patterns, halftone dots, figures and others on the same by printing and a coating film transfer tool.例文帳に追加

基材テープ上に離型層を介して金属蒸着層が形成され、さらにその上に、印刷によりパターン化された文字、記号、絵柄、模様、網点、図形等を型取る様に感圧接着層が形成されたことを特徴とする装飾用感圧転写テープ及び塗膜転写具を提供する。 - 特許庁

The metallic film patterns 22 are patterned and formed so as to extend in the central direction of the IC chip 19 beyond the bumps 23, by which the metallic film patterns 22 of the portions having a sufficient width and thickness may be conducted and connected by evading the convergent parts and tapered thin portions formed at the front ends of the metallic film patterns 22.例文帳に追加

金属膜パターン２２は、バンプ２３を越えてＩＣチップ１９の中心方向へ延びるようにパターン形成され、これにより、金属膜パターン２２の先端に形成される先細り部やテーパ状薄肉部分を避けて幅及び厚さの十分な部分の金属膜パターン２２をバンプ２３に導電接続させることができる。 - 特許庁

In an exposure method in which a resist layer is selectively exposed with UV and patterned in a prescribed shape, a polymeric material having an introduced cyclohexane group in which fluorine atoms have been substituted for all of hydrogen atoms bonding to continuously adjacent four carbon atoms is used as a polymeric material forming the resist layer.例文帳に追加

レジスト層を選択的に紫外線で露光して所定の形状にパターニングする露光方法において、上記レジスト層を構成する高分子材料として、連続して隣り合う４つの炭素原子に結合した水素原子が全てフッ素原子により置換されたシクロヘキサン基が導入された高分子材料を用いる。 - 特許庁

A resist 104 on an aluminum pad 102 formed on a semiconductor substrate 100 is patterned to expose the pad 102 by using a resist developing solution containing at least one kind of compound selected from a group consisting of triazole, benzimidazole, benzothiazole, thiadiazole and derivatives of these.例文帳に追加

トリアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、チアジアゾール、およびこれらの誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むレジスト現像液を用いて、半導体基板１００上に形成されたアルミニウムのパッド１０２上のレジスト１０４を所定形状にパターニングし、パッド１０２を露出させる。 - 特許庁

Thereafter, a second doped polysilicon film 28a and a second tungsten silicide film 28b are sequentially formed on the surface of a contact hole and the interlayer insulating film, and the second tungsten silicide film 28b and the second doped polysilicon film are patterned into an upper conductive layer pattern which comes into contact with the lower conductive layer pattern.例文帳に追加

その後、熱処理したコンタクト孔表面及び前記層間絶縁膜上に第２のドープしたポリシリコン膜２８ａと第２のタングステンシリサイド膜２８ｂを順次形成し、第２のタングステンシリサイド膜と第２のドープしたポリシリコン膜をパターニングし、下部導電層パターンとコンタクトする上部導電層パターンを形成する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

The circuit board 3 is composed that an aluminum oxide substrate 11 formed by a fine particle deposition method is located on a surface of a copper substrate 10, on which surface patterned conductive wiring 12 is disposed, on which aluminum oxide layers 13, 14 formed by the same fine particle deposition method is located.例文帳に追加

回路基板３の構成は、銅基板１０の表面には微粒子ビーム堆積法にて形成された酸化アルミニウム基板１１が配置され、その表面にあるパターンを描く導電性配線１２が配置され、その上に同じく微粒子ビーム堆積法で形成された酸化アルミニウム層１３、１４が配置される。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble resin excellent in high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, adhesion to substrate and the like, and useful for forming a patterned resin films obtained by developing with an alkali aqueous solution, and to provide a positive type photosensitive resin composition containing the resin.例文帳に追加

高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なアルカリ可溶性樹脂及びそれを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This lithography device comprises a patterning device MA for giving a pattern onto the section of a beam of radiation to form a patterned beam of radiation, a washing unit CU positioned to wash the patterning device MA on that place, and/or a detection unit positioned to detect patterning device contamination on the moment.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化された放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを含み、パターニングデバイスをその場で洗浄するように配置構成された洗浄ユニットおよび／またはパターニングデバイスの汚染物をその場で検出するように配置構成された検出ユニットも含む。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A barrier metal layer 21, a protection layer 20, a free ferromagnetic layer 18b, a nonmagnetic intermediate layer 18a, a tunnel barrier layer 17, a pinned ferromagnetic layer 14b, a nonmagnetic intermediate layer 15, a pinned ferromagnetic layer 14a, an anti-ferromagnetic layer 13, and an alignment control film 12 are patterned by ion milling.例文帳に追加

イオンミリングを行うことにより、バリアメタル層２１、保護層２０、フリー強磁性層１８ｂ、非磁性中間層１９、フリー強磁性層１８ａ、トンネルバリア層１７、ピンド強磁性層１４ｂ、非磁性中間層１５、ピンド強磁性層１４ａ、反強磁性層１３及び配向制御膜１２をパターニングする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a patterned resin film is formed through a simple process and which has high solvent resistance, high waterproofing property, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, excellent adhesion to a base and the like, as well as high conductivity, and to provide a transparent conductive film, a display element and an integrated solar battery.例文帳に追加

簡略プロセスによりパターニングされた透明導電膜を形成可能であり、高耐溶剤性、高耐水性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、及び下地との密着性等に優れ、かつ高い導電性をも兼ね備える感光性組成物、並びに透明導電膜、表示素子、及び集積型太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This thread for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a surface smooth layer 13 composed of a metal having 0.01-0.1 μm thickness formed on the surface of a base material composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 formed on the surface smooth layer 13.例文帳に追加

本発明の偽造防止用スレッドは、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１表面に、０．０１〜０．１μｍの膜厚の金属からなる表面平滑層１３を設け、該表面平滑層の上に強磁性薄膜層１５を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

A patterned coating film 5 having the projecting and recessed surface is formed by spraying the mist of the water based coating material 2 toward a material 3 to be coated and ejecting and mixing the mist of an additive 4 containing a silicone with the mist-like body of the water based coating material 2.例文帳に追加

水性塗料２を被塗装物３に向けて霧状で吹き出しするとともに、この水性塗料２の霧状体２ａに、シリコンを含有した添加剤４を霧状で吐出して混合させることにより、表面が凹凸状をなす模様塗膜５を形成することを特徴とする塗装方法である。 - 特許庁

This method includes, in order to select a pattern to be projected on the substrate, rotating a mask having a plurality of patterns by using of a selected pattern in order to impart a pattern, corresponding the selected pattern to the cross section of an emitted beam, and projecting the patterned beam on a target portion of the substrate.例文帳に追加

この方法は、基板に投影されるべきパターンを選択するために、複数のパターンを有するマスクを回転することと、選択パターンに対応するパターンを放射ビーム断面に付与するために選択パターンを使用することと、パターンが付与されたビームを基板の目標部分に投影することと、を含む。 - 特許庁

While the input electrode 7 and output electrode 8 are patterned and formed at the center parts of both the outside dielectric block end surfaces, the same operation with the formation of the input electrode and output electrode close to the short-circuit end sides can be obtained through the through holes 5 and 6 to make a band narrow.例文帳に追加

入力電極７及び出力電極８を両外側の誘電体ブロック端面の中央部にパターン化して形成しつつ、上記通孔５、６によってあたかも短絡端側寄りに入力電極及び出力電極を形成したと同様な働きを持たせることができて狭帯域に対応することができる。 - 特許庁

To provide a sample warping machine having a yarn recovering mechanism, dispensing with a yarn selection apparatus, enabling extremely smooth switching between a yarn-winding mode and a wind resting mode, and capable of efficiently warping a patterned warps in a short time by the simultaneous warping of a plurality of yarns.例文帳に追加

糸選択装置の設置を省略することができるとともに糸の巻き付けと糸の巻き付け休止との切り替えを極めてスムーズに行うことができ、複本数同時整経による柄整経を効率よく短時間で整経することができるようにした糸回収機構付サンプル整経機を提供する。 - 特許庁

In order to provide the patterning device 32, which has the material layer 31 and the patterned layer of the opaque material, on the surface of the material layer and form the PFPE liquid layer 40, the PFPE liquid which covers the surface is applied to the surface, and at least a part of the PFPE liquid layer is removed.例文帳に追加

素材層３１および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイス３２を素材層の表面に設けることと、ＰＦＰＥ液層４０を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition with which a patterned resin film is formed through a simple process and which has high solvent resistance, high waterproofing property, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, excellent adhesion to a base and the like, as well as high conductivity, and to provide a transparent conductive film, a display element and an integrated solar battery.例文帳に追加

簡略プロセスによりパターニングされた樹脂皮膜を形成可能であり、高耐溶剤性、高耐水性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、及び下地との密着性等に優れ、かつ高い導電性をも兼ね備えるポジ型感光性組成物、並びに透明導電膜、表示素子、及び集積型太陽電池の提供。 - 特許庁

An active matrix substrate 1, which is provided with a charge storage capacitor 4 and a TFT 5, and an opposing substrate 2, which is provided with a semiconductor substrate, are bonded to each other by using a connecting material (a photosensitive resin 3) with conductivity and bonding property that are patterned in accordance with pixel electrodes of the charge storage capacitor 4.例文帳に追加

電荷蓄積容量４およびＴＦＴ５を具備したアクティブマトリクス基板１と、半導体基板を備えた対向基板２とを、電荷蓄積容量４の画素電極に対応させてパターニングされた導電性および接着性を有する接続材（感光性樹脂３）を用いて接着する。 - 特許庁

The measurement method for the thickness of the thin film for successively forming a lower film where the substrate is patterned in a specific form and an upper film for covering the lower film and then measuring the thickness of the upper film includes a step (500) for modeling the lower film, and a step (510) for measuring the thickness of the upper film.例文帳に追加

基板上に所定の形態でパターニングされた下部膜と、前記下部膜を覆う上部膜を順次に形成した後、前記上部膜の厚さを測定する薄膜の厚さ測定方法において、前記下部膜をモデリングする段階(500)と、前記上部膜の厚さを測定する段階(510)とを含む。 - 特許庁

In a semiconductor device 1 on which a circuit wiring board 20 and a semiconductor package 10 are mounted, an electrode 21 patterned on a surface of the circuit wiring board 20 and a solder 11 formed in an array to the semiconductor package 10 as an electrode terminal are electrically connected via an intermediate layer 30.例文帳に追加

回路配線基板２０と半導体パッケージ１０とを実装させた半導体装置１において、回路配線基板２０の表面にパターニングされた電極２１と、半導体パッケージ１０に電極端子としてアレイ状に形成された半田１１とが中間層３０を介して電気的に接続されていることを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor device comprises a semiconductor layer formed on a substrate, an insulating layer, the semiconductor layer while is so patterned as to expose a part of the semiconductor layer, a barrier layer formed over parts of the exposed insulating layer and semiconductor layer, and a conductive layer formed on the barrier layer.例文帳に追加

半導体デバイスは、基板上に形成された半導体層と、半導体層上に形成され、半導体層の一部を露出させるようにパターニングされた絶縁層と、絶縁層および半導体層の露出部分上に形成されたバリア層と、バリア層上に形成された導電層とを含んでいる。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, having a nonmagnetic substrate and a servo layer patterned into stripes extending in the radial direction and a perpendicular magnetic recording layer, with both layers formed on the nonmagnetic substrate and separated from each other, a soft magnetic layer is formed between the servo layer and the perpendicular magnetic recording layer.例文帳に追加

非磁性基板と、前記非磁性基板上に半径方向に延びた縞状の形状にパターニングされたサーボ層と垂直磁気記録層とが分離して形成された磁気記録媒体において、前記サーボ層と前記垂直磁気記録層との間に軟磁性層を形成した構成を有する構成とする。 - 特許庁

To provide a glass substrate with a circuit pattern which can be finely patterned and can keep down a manufacturing cost and reduce the effects on the environment without using a large amount of chemicals such as a developer and an etchant, and never cause laser irradiation defects, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。 - 特許庁

An insulating film sidewall 11a is formed by carrying out etch-back treatment on the sidewall insulating film before the sidewall insulating films 11b, 11c are patterned, and the dimension W of the insulating sidewall 11a in a direction crossing the side face of a gate electrode 9 is equal to thicknesses T of the sidewall insulating films 11b, 11c.例文帳に追加

絶縁膜サイドウォール１１ａはサイドウォール用絶縁膜１１ｂ，１１ｃがパターニングされる前のサイドウォール用絶縁膜に対してエッチバック処理が施されて形成されたものであってゲート電極９側面に直交する方向の寸法Ｗがサイドウォール用絶縁膜１１ｂ，１１ｃの厚みＴと同じである。 - 特許庁

The method of manufacturing the patterning device, includes providing a patterning device having the blank layer and the patterned layer of the opaque material on the surface of the blank layer, applying the PFPE liquid to the surface covering the surface in order to form the PFPE liquid layer and removing at least a portion of the PFPE liquid layer.例文帳に追加

パターニング・デバイスの製造方法は、素材層および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイスを素材層の表面に設けることと、ＰＦＰ液層を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁

Since the sputter layers 50 can be patterned with dimensional accuracy higher than the plated layers 51, distances D between end edges of the fixed contacts 14 and the conductive patterns 18 (end edges of the sputter layers 50) and end edges of grounding patterns 18' are hardly varied, and the characteristics impedance of the fixed contacts 14 is stabilized.例文帳に追加

めっき層５１に比べてスパッタ層５０の方が高い寸法精度でパターニングが可能であるので、固定接点１４及び導電パターン１８の端縁（スパッタ層５０の端縁）とグランドパターン１８’の端縁との距離Ｄにばらつきが生じ難くなって固定接点１４の特性インピーダンスが安定する。 - 特許庁

An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed.例文帳に追加

スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。 - 特許庁

Then a 3rd insulating film 13 is formed and the 3rd insulating film 13 and 2nd insulating film 7 are patterned; and a via hole which exposes the top surface of the 2nd conductive film pattern 9 (9a) and the end of the 1st conductive film pattern 5 is formed and the 3rd conductive film pattern 17 is formed covering the via hole and opening part.例文帳に追加

その後第３絶縁膜１３を形成し、第３絶縁膜１３及び第２絶縁膜７をパターニングし、第２導電膜パターン９（９ａ）の上面及び第１導電膜パターン５の端を露出させるビアホールを形成し、ビアホール及び開口部を覆う第３導電膜パターン１７を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming resist patterns having slits, a method for forming patterned thin films, a method for manufacturing a microdevice, a method for manufacturing a thin-film magnetic head, a method for manufacturing a magnetic head slider, a method for manufacturing a magnetic head system, and a method for manufacturing a magnetic recording and reproducing device.例文帳に追加

隙間が形成されたレジストパターンを良好に形成できるレジストパターンの形成方法、パターン化薄膜形成方法、マイクロデバイスの製造方法、薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッドスライダの製造方法、磁気ヘッド装置の製造方法、及び、磁気記録再生装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a grain-patterned rain gutter having wood touch obtained by mixing wooden powder to a styrene resin and a wooden pattern obtained by mixing colored pellet, while suppressing the heat deformation, improving shock resistance by the rubber components, and providing weatherability by coating the surface with transparent weather-proof resin.例文帳に追加

スチレン系樹脂に木粉を配合して得られる木質感と、着色ペレットを混合して得られる木目模様を有しつつ熱変形を抑え、さらに、ゴム成分によって耐衝撃性を向上でき、表面を透明耐候性樹脂で被覆することにより耐候性を付与できる木目模様の雨樋を提供する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a dielectric film which allows patterning and reduces or fully removes a residue after etching paste thermal treatment, by etching the dielectric film having such a thickness not capable of being etched in single etching paste processing through simple processing using the etching paste to form a patterned film.例文帳に追加

一度のエッチングペーストによる処理ではエッチングできない程度の厚さを有する誘電体膜を、エッチングペーストを用いた簡単な処理でエッチングしてパターニングを形成できるとともに、エッチングペーストの熱処理後に発生する残渣を低減もしくは完全に除去できる誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a resist underlay film from the above composition for forming a resist underlay film on a substrate; forming a resist film thereon; forming a resist pattern by exposure and development; etching the underlay film through the resist pattern; and processing the semiconductor substrate through the patterned underlay film.例文帳に追加

基板にレジスト下層膜形成組成物によりレジスト下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、露光と現像によりレジストパタ−ンを形成する工程、レジストパタ−ンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパタ−ン化された下層膜により半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened.例文帳に追加

シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。 - 特許庁

When an insulation layer 3 is formed between pixel electrodes 2 which is patterned on the substrate, and transport materials are printed by letterpress printing method and hole transport inks are printed on a pixel electrode 2 which exists between the insulation layers 3 from the convex parts 32 of letterpress printing 30, the convex parts 32 of letterpress printing 30 is made to have an inside-protruded shape.例文帳に追加

基板上のパターニングされた画素電極２の間に絶縁層３を形成し、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版３０の凸部３２から絶縁層３の間にある画素電極２に印刷する場合、凸版３０の凸部３２を中凸形状にする。 - 特許庁